曝光设备和制造制品的方法与流程

本发明涉及一种曝光设备和一种制造制品的方法。

背景技术：

作为在液晶面板或半导体装置的制造工艺(光刻工艺)中使用的一种类型的设备，存在一种曝光设备，其将由照明光学系统照射的原稿的图案投影到基板上并曝光基板。已知在曝光设备中使用的原稿(掩模或掩模板)例如由于与在原稿周围存在的气氛中酸、碱或有机杂质反应而模糊。还已知的是，原稿的模糊由于大气中的水分而加速。当原稿以此方式模糊时，会发生例如曝光不足等问题，这可能使得难以将原稿的图案精确地转印到基板上。因此，在曝光设备中，期望用其杂质和湿度被调整(减少)的净化气体充满其中布置有原稿的空间。日本专利申请特开no.2015-228519提出一种布置，其中保持原稿的原稿台的可移动区域被板覆盖，并且将具有减少的杂质和湿度的净化气体供应给由板形成的内部空间。

在曝光设备中，从运行成本等来看期望减少净化气体的使用量。然而，日本专利申请特开no.2015-228519中描述的发明具有以下布置：原稿台的整个可移动区域被板覆盖，因此由板形成的内部空间相比于原稿的容积非常大。因此，为了防止外部空气侵入由板形成的内部空间中，需要将大量的净化气体连续地供应到内部空间，这不利于减少净化气体的使用量。

技术实现要素：

举例来说，在用于充满其中放置原稿的空间的净化气体的量的方面，本发明提供了一种有利技术。

根据本发明的第一方面，提供一种曝光设备，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：

台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。

根据本发明的第一方面，提供一种制造制品的方法，所述方法包括：使用曝光设备来曝光基板；使所曝光基板显影；以及处理所显影基板以制造所述制品，其中，所述曝光设备在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。

参考附图，根据示例性实施例的以下描述，本发明的其他特征将变得显而易见。

附图说明

图1是示出曝光设备的整体布置的视图；

图2a和2b是示出根据第一实施例的原稿台的周边布置的视图；

图3a到3c是用于解释扫描曝光时的净化气体的供应的视图；

图4a和4b是示出根据第二实施例的原稿台的周边布置的视图；

图5a和5b是示出根据第三实施例的原稿台的周边布置的视图；

图6a和6b是示出根据第四实施例的原稿台的周边布置的视图；

图7a和7b是示出根据第五实施例的原稿台的周边布置的视图；且

图8a和8b是示出根据第六实施例的原稿台的周边布置的视图。

具体实施方式

下文将参考附图描述本发明的示例性实施例。应注意，相同的附图标记在整个附图中表示相同的构件，并且将不再给出其重复描述。

<第一实施例>

[曝光设备的布置]

将描述根据本发明的第一实施例。图1是示出此实施例的曝光设备100的整体布置的视图。此实施例的曝光设备100是步进-扫描曝光设备，其在扫描原稿m和基板w的同时曝光基板w，由此将原稿m的图案转印到基板上。曝光设备100还被称作扫描曝光设备或扫描仪。在此实施例中，原稿m例如是由石英制成的掩模(掩模板)，在该掩模上已形成待转印到基板w上的多个曝光区域中的每一个上的电路图案。基板w是涂有光致抗蚀剂的晶片，并且可以使用例如单晶硅基板等。

曝光设备100可以包括照明光学系统1、可在保持原稿m的同时移动的原稿台2、投影光学系统3、可在保持基板w的同时移动的基板台4、以及控制单元5。控制单元5由例如包括cpu和存储器的计算机形成，并且电连接到设备中的相应单元，由此全面地控制设备的整体操作。在此处，在以下描述中，假设平行于从照明光学系统1发射并入射到原稿m的光的光轴的方向是z方向，并且假设在垂直于光轴的平面上彼此正交的两个方向分别是x方向和y方向。

照明光学系统1将从例如水银灯、arf准分子激光器或krf准分子激光器等的光源6发射的光成形为例如带状或弓形狭缝形光，并用此狭缝形光照射原稿m的一部分。透过原稿m的一部分的光作为反映原稿m的这一部分的图案的图案光进入投影光学系统3。投影光学系统3具有预定投影放大率，并通过使用图案光来将原稿m的图案投影到基板(更具体地说，基板上的抗蚀剂)上。原稿m和基板w分别由原稿台2和基板台4保持，并通过投影光学系统3布置于光学共轭位置(投影光学系统3的物平面和像平面)中。控制单元5以与投影光学系统的投影放大率匹配的速度比相对地彼此同步地扫描原稿台2和基板台4(在此实施例中，假设原稿m的扫描方向和基板w的扫描方向是x方向(第一方向))。利用此布置，可以将原稿m的图案转印到基板上。

[原稿台的周边布置]

通常，已知曝光设备中使用的原稿m例如由于与在原稿m周围存在的气氛中的酸、碱或有机杂质反应而模糊。还已知的是，原稿m的此模糊由于气氛中的水分而加速。当原稿m以此方式模糊时，会发生例如曝光不足等问题，这可能使得难以将原稿m的图案精确地转印到基板上。因此，在曝光设备中，期望用其杂质和湿度已经被调整(减少)的净化气体充满其中布置有原稿m的空间。此外，在曝光设备中，从运行成本等来看期望减少净化气体的使用量。因此，本实施例的曝光设备100构造成用净化气体充满其中布置有原稿m的空间，并能够同时减少净化气体的使用量。在此处，净化气体是被调整以被减少酸、碱、有机杂质以及湿度的气体，并且还可以使用例如洁净的干燥空气或氮气。

将在下文描述根据此实施例的曝光设备100的详细布置。图2a和2b是示出此实施例的曝光设备100中的原稿台2的周边布置的视图。图2a是示出曝光设备100中的原稿台2的周边布置(x-z截面)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a(第一供应单元)的视图。图2b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。

首先，将描述原稿台2的布置。如图2a和2b中示出，原稿台2的上表面(第一表面20)形成有第一凹入部分20a和第二凹入部分20b，从稍后将将描述的供应单元8a向所述第一凹入部分20a和第二凹入部分20b供应净化气体。第一凹入部分20a设置于原稿台2的上表面(第一表面20)中，以便限定其中布置有原稿m的第一空间(原稿布置空间)。当从上方观察原稿台2时，第一凹入部分20a可以形成为尺寸比原稿m更大，并具有等于或大于原稿m的厚度的深度。

每个第二凹入部分20b在原稿台2的上表面(第一表面20)中设置于第一凹入部分20a外部，以便限定具有比第一空间更小的容积的第二空间。在此实施例中，设置多个第二凹入部分20b，以便在扫描曝光期间在原稿台2的扫描方向(±x方向，或可在下文中简称作“扫描方向”)上包夹第一凹入部分20a。也就是说，第二凹入部分20b在原稿台的上表面中设置于第一凹入部分20a的扫描方向上(在±x方向侧上)。

当从上方观察原稿台2时，第二凹入部分20b被布置成使得扫描方向(x方向)上的长度小于垂直于扫描方向的方向(±y方向，或可在下文中简称作“竖向方向”)上的长度。也就是说，第二凹入部分20b是沿着竖向方向(y方向)在原稿台2的上表面中延伸的凹槽部分。此实施例的第二凹入部分20b具有矩形形状，其纵向方向是竖向方向(y方向)，但其形状不限于此，并且可以具有弯曲形状。

在此处，将描述原稿台2的详细布置。原稿台2可以包括例如保持原稿m的保持部分21，以及形成原稿台2的上表面(第一表面20)的第一板22。

保持部分21由基部21a、第一突出部分21b和第二突出部分21c形成，并且可以通过例如线性马达等驱动机构(未示出)在至少±x方向上驱动。基部21a构造成通过真空抽吸、静电吸附等保持原稿m的周边区域，并在原稿m的中心区域(形成电路图案的区域)被布置的部分中形成开口以使得透过原稿m的光进入投影光学系统。开口可以设置有例如透明构件，例如玻璃。

每个第一突出部分21b是在原稿m的周边中从基部21a向上(在+z方向上)突出的部分，使得将基部21a用作底部并将第一突出部分21b用作侧壁来限定第一凹入部分20a(第一空间)。第一突出部分21b可以布置成具有等于或大于原稿m的厚度的高度。每个第二突出部分21c是在第一突出部分21b外部从基部21a向上(在+z方向上)突出的部分，使得将基部21a用作底部并将第一突出部分21b和第二突出部分21c用作侧壁来限定第二凹入部分20b(第二空间)。第二突出部分21c可以布置成与第一突出部分21b具有相同高度。也就是说，第二凹入部分20b可以布置为与第一凹入部分20a具有相同深度。在此处，第二凹入部分20b的深度可以等于或小于第一凹入部分20a的深度。

第一板22是包括垂直于从照明光学系统1发射的光的光轴方向的第一表面20的构件，并通过第一表面20形成原稿台2的上表面。第一板22连接到保持部分21的第一突出部分21b和第二突出部分21c的端部，并且布置为包括延伸区域22a，每个延伸区域沿着扫描方向从第二突出部分21c的端部延伸。另外，第一板22在形成第一凹入部分20a(第一空间)的部分处和在形成第二凹入部分20b(第二空间)的部分处设置有开口。注意，尽管在此实施例中片状第一板22用作包括第一表面20的构件，但是可以使用除片状板之外的构件。

在此处，第一板22可以布置为能够减少在扫描曝光期间伴随着原稿台2的移动从后面将描述的延伸区域22a与第二板7之间的间隙流入第一凹入部分20a和第二凹入部分20b的外部空气。例如，第一板22可以布置为在每个延伸区域22a中包括与稍后将描述的第二板7(第二表面70)的距离最小的部分。另外，可以设置延伸区域22a，使得扫描方向上的长度等于或大于扫描曝光时原稿台2的移动行程(移动距离)的一半，并且更优选地等于或大于移动行程的长度。也就是说，第二凹入部分能够设置成避免在原稿台2的移动期间落出第二板7的外部形状之外。

接下来，将描述第二板7和供应单元8a。

第二板7是包括垂直于从照明光学系统1发射的光的光轴方向的第二表面70的构件，并且布置于原稿台2上方以与原稿台2间隔开，使得第二表面70面向原稿台2(第一板)的第一表面20。第二板7例如设置于照明光学系统1或其他结构中，以免与原稿台2一起移动。在此实施例中，第二板7固定到照明光学系统1。

另外，第二板7可以布置为使得原稿台2(第一板22)的第一表面20与第二板7的第二表面70之间的间隙尽可能小(即，形成细小间隙)。利用此布置，能够减轻第二凹入部分20b中的在供应到第二凹入部分20b的净化气体通过第一表面20与第二表面70之间的间隙逸出时发生的气压的随时间的变化。举例来说，第二板7可以布置为使得第一表面20与第二表面70之间的间隙尽可能小，使得即使在原稿台2的移动期间的振动(在±z方向上)也不会使第一表面20与第二表面70相互接触。作为示例，第二板7可以布置为使得第一表面20与第二表面70之间的距离等于或小于第二凹入部分20b在扫描方向上的长度。应注意，尽管在此实施例中片状第二板7用作包括第二表面70的构件，但是可以使用除片状板之外的构件，或所述构件可以由照明光学系统1的结构的一部分形成。

每个供应单元8a将净化气体供应到第一板22与第二板7之间的空间，并且供应到原稿台2的第一凹入部分20a和第二凹入部分20b。举例来说，供应单元8a构造成从设置于第二板7(第二表面70)中的出口71吹出净化气体，由此在原稿台2的移动期间将净化气体供应到第一凹入部分20a和第二凹入部分20b。在此实施例中，提供用于净化气体的多个(两个)出口71，使得在扫描方向上包夹照明光学系统1。

[向原稿台供应净化气体]

图3a到3c是用于说明在扫描曝光时向原稿台2(第一凹入部分20a和第二凹入部分20b)供应净化气体的视图。首先，如图3a中示出，驱动原稿台2使得-x方向侧上的第二凹入部分20b1布置于+x方向侧上的出口71b下方。此时，净化气体从供应单元8a通过出口71b供应到-x方向侧上的第二凹入部分20b1，使得第二凹入部分20b1填充有净化气体，并且其中的气压变得高于原稿台2外部的气压。在此状态下，供应到第二凹入部分20b1的净化气体通过第一表面20与第二表面70之间的间隙逐渐逸出，使得能够防止外部空气流经间隙。另外，当原稿台2在此状态下沿-x方向移动时，外部空气可能随着原稿台2的移动而穿过第一表面20与第二表面70之间的间隙侵入，但是外部空气在流入第一凹入部分20a中之前将能够流入凹入部分20b中并且被稀释。也就是说，可以减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。

接着，如图3b中示出，驱动原稿台2使得原稿m布置在照明光学系统1下方，并且在-x方向上移动原稿台2的同时执行扫描曝光。当原稿台2从图3a中示出的状态移动到图3b中示出的状态时，第二凹入部分20b1填充有从供应单元8a的出口71a供应的净化气体。由于第二凹入部分20b1填充有净化气体，因此其中的气压变得高于原稿台2外部的气压。此时，第一凹入部分20a布置于出口71(71a和71b)下方，并且通过供应单元8a从出口71(71a和71b)供应有净化气体。因此，第一凹入部分20a填充有净化气体，并且具有高于原稿台2外部的气压的气压，使得能够防止外部空气穿过第一表面20与第二表面70之间的间隙流入第一凹入部分20a中。

当完成-x方向上的扫描曝光(原稿台2的扫描)时，执行反向(+x方向)上的扫描曝光(原稿台2的扫描)。因此，如图3c中示出，驱动原稿台2使得+x方向侧上的第二凹入部分20b2布置于-x方向侧上的出口71a下方。此时，类似于图3a中示出的状态，净化气体从供应单元8a通过出口71a供应到+x方向侧上的第二凹入部分20b2，使得其中的气压变得高于原稿台2外部的气压。在此状态下，类似于参考图3a所描述的状态，能够防止外部空气流经间隙，并且还能够减少(防止)伴随着原稿台2的移动外部空气穿过第一表面20与第二表面70之间的间隙流入第一凹入部分20a。接着，驱动原稿台2使得原稿m布置在照明光学系统1下方，并且在+x方向上移动原稿台2的同时执行扫描曝光。当原稿台2在+x方向上从图3c中示出的状态移动时，第二凹入部分20b2填充有从供应单元8a的出口71b供应的净化气体。由于第二凹入部分20b2填充有净化气体，因此其中的气压变得高于原稿台2外部的气压。

以此方式，在此实施例的原稿台2中，第二凹入部分20b(第二空间)设置于布置有原稿m的第一凹入部分20a(第一空间)的扫描方向上，并且第二凹入部分20b用作用于减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中的空间。因此，第二凹入部分20b可以在扫描方向(±x方向)上布置于第一凹入部分20a的两侧上，但第二凹入部分20b可以仅布置于一侧上。应注意，当第二凹入部分20b仅布置于第一凹入部分20a的一侧上时，其效果可能减半。然而，在原稿台2周围的外部空气的流动相对于原稿台2的移动速度构成极大的顺风或逆风的环境中，通过在应当防止外部空气流入的一侧上仅设置一个第二凹入部分20b能够预期到充分的效果。

此外，从防止外部空气通过第二凹入部分20b流入第一凹入部分20a中的观点来看，第二凹入部分20b的竖向方向(y方向)上的长度可以等于或大于第一凹入部分20a在竖向方向上的长度。第二凹入部分20b可以具有允许第二凹入部分20b以在扫描原稿台2期间通过出口71从供应单元8a供应的净化气体的流速充满有净化气体的容积。在此范围内，可以确定第二凹入部分20b在扫描方向上的长度、竖向方向上的长度和深度。

在此实施例的曝光设备100中，如果仅在第二凹入部分20b的局部部分处气压增加，那么外部空气可能穿过气压不增加的部分流入第一凹入部分20a中。因此，期望在竖向方向上，从供应单元8a经由出口71供应净化气体的范围和第二凹入部分20b的范围(长度)大致相等(例如，一致)，使得第二凹入部分20b中的气压整体上均匀地变高。也就是说，在竖向方向上，设置于第二板7中的出口71的范围可以等于或大于第二凹入部分20b的范围，使得净化气体被均匀地供应到第二凹入部分20b。此外，出口71可以设置于第二板7中，以便相对于原稿台2的往复运动范围的中心位置对称。

在此处，将描述在原稿台2中设置第二凹入部分20b的效果。当在原稿台2中未设置第二凹入部分20b时，需要将净化气体供应到第一凹入部分20a，以便将第一凹入部分20a中的气压增加到能够以净化气体填充第一凹入部分20a并减少外部空气流入第一凹入部分20a中的水平。在此情况下，由于第一凹入部分20a的容积大于第二凹入部分20b的容积，因此需要大量的净化气体以将第一凹入部分20a中的气压增加到此水平。另一方面，当如同本实施例中在第一凹入部分20a的扫描方向上设置具有比第一凹入部分20a小的容积的第二凹入部分20b时，能够以比用于增加第一凹入部分20a中的气压的净化气体量更少的净化气体量增加第二凹入部分20b中的气压。由于具有高气压的第二凹入部分20b具有暂时向其引入已经通过第一表面20与第二表面70之间的间隙的外部空气以降低外部空气的浓度的功能，因此能够减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。也就是说，当如同本实施例中在原稿台2中设置第二凹入部分20b时，能够降低净化气体的使用量，并且能够通过减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中来防止原稿m模糊。

[原稿台的周边布置的具体示例]

接下来，将描述原稿台2的周边布置的具体示例。举例来说，原稿台2的移动速度的范围介于例如100mm/s的低速到例如10,000mm/s的高速，并且原稿台2的移动行程介于数十mm到数m的范围内。第一表面20与第二表面70之间的距离介于数μm到数mm的范围内。原稿台2在竖向方向上的宽度范围介于数十毫米到约1m。通过出口71从供应单元8a供应的净化气体的流速范围介于数十l/min到数千l/min。

在此数值范围下，第二凹入部分20b可以具有允许第二凹入部分20b以在扫描原稿台2期间通过出口71从供应单元8a供应的净化气体的流速充满有净化气体的容积。举例来说，期望第二凹入部分20b的容积v呈v≤v1+v2的关系。在此处，“v1”是在第二凹入部分20b在出口71的下方通过时从出口71供应的气体的容积，并且“v2”是在第二凹入部分20b未在出口71的下方通过时从出口71供应的气体的容积。在此范围内，可以确定第二凹入部分20b在扫描方向上的长度、竖向方向上的长度和深度。应注意，第二凹入部分20b的深度可以等于或大于原稿m的厚度。另外，第二凹入部分20b的深度可以大致等于第一凹入部分20a的深度，并且更优选地大于第一凹入部分20a的深度。

即使当第二凹入部分20b具有在原稿台2移动时不能充满有净化气体的容积时，也可以维持第二凹入部分20b的功能，例如通过暂时向所述第二凹入部分引入外部空气来降低外部空气的浓度。第二凹入部分20b的功能(例如通过暂时将外部空气引入到第二凹入部分来降低外部空气的浓度)的优选条件可以呈d×w×l≤v的关系。在此处，“v”是第二凹入部分20b的容积，“d”是第一表面20与第二表面70之间的距离，“w”是第二凹入部分20b在竖向方向上的长度，并且“l”是出口71位于第二凹入部分的内部时的扫描移动的距离。

虽然以上是优选条件，但取决于第二板7的形状、第二凹入部分20b的形状、原稿台2的形状以及周围环境，可能存在更严格的关系或更宽松的关系。举例来说，当第二凹入部分20b的深度相对于扫描方向上的长度或竖向方向上的长度来说极大时，或当第二凹入部分20b的内部空间相对于开口形状较大时，无法有效地使用第二凹入部分20b的整个容积。因此，关系可能更严格。此外，当周围环境是排气环境时或当局部强风吹向原稿台2时，关系可能改变。

还期望从第二凹入部分20b逸出到第一表面20与第二表面70之间的间隙的净化气体的流速高于原稿台2的移动速度。从第二凹入部分20b逸出到第一表面20与第二表面70之间的具有距离d的间隙的净化气体的流速v近似表示为v＝f/{(d×w)×2+(d×d)×2}，其中“d”是第二凹入部分20b在扫描方向上的长度，“w”是第二凹入部分20b在竖向方向上的长度，“f”是每个单位时间从出口71供应的量。因此，当原稿台2的移动速度设定为vr时，期望满足v≥vr的关系。因此，基于第二凹入部分20b的开口形状、第一表面20与第二表面70之间的距离d以及原稿台2的移动速度，能够确定从供应单元8a供应到第二凹入部分20b的净化气体的流速。即使当从第二凹入部分20b逸出的净化气体的流速不高于原稿台2的移动速度时，也能够维持第二凹入部分20b的功能，例如通过暂时向第二凹入部分引入外部空气来降低外部空气的浓度。

此外，第二凹入部分20b在竖向方向上的长度可以等于或大于第一凹入部分20a在竖向方向上的长度。利用此布置，第二凹入部分20b可以减少(防止)从原稿台2的扫描方向侧流入的外部空气流入至第一凹入部分20a。应注意，取决于第二凹入部分20b在竖向方向上的长度，防止外部空气流入第一凹入部分20a中的效果可能改变。举例来说，当第二凹入部分20b的竖向方向上的长度是第一凹入部分20a在竖向方向上的长度的50％时，防止外部空气流入第一凹入部分20a中的效果也可能降低到50％。因此，出口71在竖向方向上的开口形状的长度可以等于第二凹入部分20b在竖向方向上的长度。然而，只要向整个第二凹入部分进行供应是可能的，那么出口71在竖向方向上的开口形状的长度可以小于第二凹入部分20b在竖向方向上的长度。

接下来，将描述在以上条件下布置的此实施例的曝光设备100的效果。举例来说，当从供应单元8a供应的净化气体的流速设定为500l/min时，第一凹入部分20a中的湿度是0.15％rh，而原稿台2外部的湿度是50％rh。另一方面，在未设置第二凹入部分20b的布置中，即使当从供应单元8a供应的净化气体的流速增大到550l/min时，第一凹入部分20a中的湿度也是1.5％。此结果还示出当如同本实施例中在原稿台2中设置第二凹入部分20b时，可以防止(减少)外部空气流入第一凹入部分20a中，并且可以减小净化气体的使用量。

在此处，在原稿台2外部的空间中，可以提供测量原稿台2的位置的测量单元(例如，激光干涉仪)以便控制原稿台2的位置。在此测量单元中，当激光的光学路径环境(例如温度、气压、湿度等)改变时，可能对应地发生测量误差。也就是说，当供应到第一凹入部分20a和第二凹入部分20b的大量净化气体流出到原稿台2外部的空间时，激光的光学路径环境对应地改变，并且可能发生测量误差。在本实施例的曝光设备100的布置中，由于能够减小净化气体的使用量，所以也能够减少此测量误差。

<第二实施例>

将描述根据本发明的第二实施例。图4a和4b是示出此实施例的曝光设备200中的原稿台2的周边布置的视图。图4a是示出曝光设备200中的原稿台2的周边布置(x-z截面)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a的视图。图4b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。应注意，在以下描述中未特别提及的部分与第一实施例中的部分类似。

此实施例的曝光设备200的特征在于第二凹入部分20b(第二空间)的形状不同于第一实施例中的形状。在此实施例中，第二凹入部分20b围绕第一凹入部分20a(第一空间)的外部地设置于原稿台2(第一板22或第一表面20)中。第二凹入部分20b可以形成为在扫描方向侧和第一凹入部分20a的竖向方向侧上具有相同宽度上的凹槽部分，或可以形成为在扫描方向侧和第一凹入部分20a的竖向方向侧上具有不同宽度的凹槽部分。另外，第二凹入部分20b可以形成为一个连续的凹槽部分，或可以形成为彼此分离的多个凹槽部分。此外在此实施例的第二凹入部分20b中，如第一实施例中所描述，第二凹入部分20b可以填充有净化气体以增加气压，并且可以临时将外部空气引入到第二凹入部分20b以降低外界空气的浓度。因此，可以减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。

在本实施例的原稿台2中，通过包围第一凹入部分20a的外部地设置第二凹入部分20b，能够减少(防止)外部空气从竖向方向(±y方向)流入。举例来说，当来自竖向方向的气流相对于原稿台2较大时，这是有效的。在此情况下，能够通过出口71将净化气体从供应单元8a供应到布置于第一凹入部分20a的竖向方向上的第二凹入部分20b的一部分，使得所述部分填充有净化气体以增加气压。也就是说，对于第二凹入部分20b的形状，期望将扫描方向上的长度(宽度)和竖向方向上的长度(宽度)设计成使得第二凹入部分20b中的气压变高。另外，第二凹入部分20b的形状可以设计成使得第二凹入部分20b中的气压变高，这取决于供应单元8a的布置空间和布置位置。

在本实施例的原稿台2中，随着在竖向方向上也设置第二凹入部分20b，净化气体的使用量趋于大于第一实施例中的使用量，并且第二凹入部分20b中的布置空间趋向于更大。另外，当第二凹入部分20b形成为一个连续的凹槽部分时，第二凹入部分20b的容积变得大于第一实施例中的容积，使得用于填充第二凹入部分20b以增加气压的净化气体的量变大。然而，第二凹入部分20b布置为使得由其限定的空间(第二空间)小于由第一凹入部分20a限定的空间(第一空间)。因此，相比于在原稿台2中仅设置第一凹入部分20a并将净化气体供应到第一凹入部分20a的布置，能够易于以更小的净化气体使用量增加第二凹入部分20b中的气压，由此有效地减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。即使当第二凹入部分20b由多个凹槽部分(小空间)形成时，也可以获得相同的效果。

<第三实施例>

将描述根据本发明的第三实施例。图5a和5b是示出此实施例的曝光设备300中的原稿台2的周边布置的视图。图5a是示出曝光设备300中的原稿台2的周边布置(x-z截面)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a的视图。图5b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。应注意，在以下描述中未特别提及的部分与第一实施例中的部分类似。

在此实施例的曝光设备300中，与第一实施例相比，在原稿台2(第一板22或第一表面20)中在第二凹入部分20b外部设置第二凹入部分20c(还可被称作第三凹入部分20c)。第二凹入部分20c中的每一个在原稿台2中形成为限定容积比第一空间(第一凹入部分20a)更小的第三空间的凹槽部分，并且设置于第二凹入部分20b中的扫描方向上。在此实施例中，在原稿台2中设置多个(两个或更多个)第二凹入部分20c，以便在扫描方向(±x方向)上包夹第一凹入部分20a和第二凹入部分20b。在此处，期望第二凹入部分20c具有与第二凹入部分20b相同的容积，或者具有允许第二凹入部分20c以在扫描原稿台2期间通过出口71从供应单元8a供应的净化气体的流速充满有净化气体的容积。第二凹入部分20c的形状可以与第二凹入部分20b的形状相同。

在此实施例的原稿台2中，通过进一步设置第二凹入部分20c，可以更有效地减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。特别是当原稿台2在扫描方向上的移动行程较大且移动时间较长时，这是有效的。在此实施例的原稿台2中，在原稿台2移动时，净化气体通过出口71以第二凹入部分20c、第二凹入部分20b和第一凹入部分20a的次序从供应单元8a依序供应。这些部分中的每一个都按照以上次序填充有净化气体，并且其中的气压增加。因此，可以将外部空气暂时引入到第二凹入部分20c以降低外部空气的浓度，并且可以将从第二凹入部分20c逸出的外部空气暂时引入到第二凹入部分20b以进一步降低外部空气的浓度。也就是说，能够更有效地减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。此外，相较于第一实施例，即使当如上所述在原稿台2中进一步设置第二凹入部分20c时，也不必改变供应单元8a(出口71)的位置。也就是说，在本实施例的曝光设备300中，通过仅改变原稿台2的布置能够进一步增强减少外部空气流入第一凹入部分20a中的效果。

<第四实施例>

将描述根据本发明的第四实施例。图6a和6b是示出此实施例的曝光设备400中的原稿台2的周边布置的视图。图6a是示出曝光设备400中的原稿台2的周边布置(x-z区段)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a的视图。图6b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。应注意，在以下描述中未特别提及的部分与第一和第二实施例中的部分类似。

在此实施例的曝光设备400中，与第二实施例相比，在原稿台2(第一板22或第一表面20)中设置围绕第二凹入部分20b的外部的第二凹入部分20c(还可被称作第三凹入部分20c)。第二凹入部分20c在原稿台2中形成为限定容积比第一空间(第一凹入部分20a)更小的第三空间的凹槽部分，并且被设置成围绕第二凹入部分20b的外部。在此处，第二凹入部分20c可以与第二凹入部分20b具有相同形状(宽度和深度)。

在此实施例的原稿台2中，如同第三实施例中，通过进一步设置第二凹入部分20c可以更有效地减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。另外，相较于第二实施例，在此实施例的原稿台2中，第二凹入部分20c还被设置成围绕第二凹入部分20b的外部，使得能够更有效地减少(防止)外部空气从竖向方向(±y方向)流入。在此处，在此实施例的原稿台2中，为了尽可能地抑制由于设置第二凹入部分20c而引起的净化气体的使用量的增加，第二凹入部分20c可以形成为彼此分离的多个凹槽部分。通过以此方式将第二凹入部分20c形成为多个凹槽部分，能够从供应单元8a局部地供应净化气体，以便局部地增加第二凹入部分20c中的气压。

<第五实施例>

将描述根据本发明的第五实施例。图7a和7b是示出此实施例的曝光设备500中的原稿台2的周边布置的视图。图7a是示出曝光设备500中的原稿台2的周边布置(x-z截面)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a的视图。图7b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。应注意，在以下描述中未特别提及的部分与第一实施例中的部分类似。此外，原稿台2的布置不限于第一实施例中描述的布置，并且可以应用在第二到第四实施例中的任何一个中描述的布置。

此实施例的原稿台2设置有第二供应单元8b，每个第二供应单元将净化气体供应到第二凹入部分20b(第二空间)中的一个。第二供应单元8b中的每个可以构造成始终将净化气体供应到第二凹入部分20b，或可以构造成在具体时段内将净化气体供应到第二凹入部分20b。具体时段可以是原稿台2沿第一凹入部分20a和第二凹入部分20b的布置方向(即，扫描方向(±x方向))移动的时段。通过这样布置，能够将净化气体供应到第二凹入部分20b，以便使第二凹入部分20b中的气压高于原稿台2外部的气压，由此减少(防止)外部空气流入第一凹入部分20a中。

<第六实施例>

将描述根据本发明的第六实施例。图8a和8b是示出此实施例的曝光设备600中的原稿台2的周边布置的视图。图8a是示出曝光设备600中的原稿台2的周边布置(x-z截面)、以及照明光学系统1、原稿台2、投影光学系统3、第二板7和供应单元8a的视图。图8b是如从上方(+z方向侧)观察的此实施例的原稿台2的视图。应注意，在以下描述中未特别提及的部分与第五实施例中的部分类似。此外，原稿台2的布置不限于第一实施例中描述的布置，并且可以应用在第二到第四实施例中的任何一个中描述的布置。

在此实施例的原稿台2中设置有第二供应单元8b，每个第二供应单元将净化气体供应到第二凹入部分20b(第二空间)中的一个，并且还设置有第三供应单元8c，所述第三供应单元将净化气体供应到第一凹入部分20a(第一空间)。在此实施例中，由于通过第三供应单元8c将净化气体供应到第一凹入部分20a，所以没有提供通过从第二板7中的出口71吹出净化气体来将净化气体供应到第一凹入部分20a的供应单元8a。因此，当例如由于布置空间等而不能在第二板7中设置供应单元8a(出口71)时，此实施例的布置是有用的。

以此方式，通过在原稿台2中设置向第一凹入部分20a供应净化气体的第三供应单元8c，在原稿台2的移动期间(例如，在扫描曝光期间)供应到第一凹入部分20a的净化气体的流速可以保持不变。因此，可以使第一凹入部分20a中的湿度分布均匀，并且可以减少用以填充第一凹入部分20a的净化气体的量。

<第七实施例>

将描述根据本发明的第七实施例。在第一到第六实施例中，已经描述以下示例：包括第二表面70的构件(第二板7)设置于原稿台2的照明光学系统侧上，并且原稿台2的上表面用作第一表面20以形成第一凹入部分20a和第二凹入部分20b。另一方面，曝光设备可以具有以下布置：原稿台2的下表面用作第一表面20以形成第一凹入部分20a和第二凹入部分20b，并且包括面向第一表面20的第二表面的构件设置于原稿台2的投影光学系统侧上。在例如如图2a到8b中示出的此布置的曝光设备中，例如包括表面90作为第二表面的构件(板9)设置于原稿台2的投影光学系统侧上。因此，原稿台2具有上侧与下侧相对于图2a到8b中示出的布置颠倒的布置。也就是说，原稿台2可以布置成使得设置有第一凹入部分20a和第二凹入部分20b的第一表面20面向设置于投影光学系统中的板9的表面90。即使在此布置中，也能够获得与第一到第六实施例中相同的效果。

<制造制品的方法的实施例>

根据本发明的实施例的一种制造制品的方法适合于制造例如以下制品：例如半导体装置等微型装置或具有微结构的元件。根据此实施例的制造制品的方法包括以下步骤：使用上述曝光设备在施加到基板的光敏剂上形成潜像图案(曝光基板的步骤)；利用在以上步骤中形成的潜像图案显影(处理)基板。此制造方法还包括其他已知步骤(氧化、沉积、气相沉积、掺杂、平面化、蚀刻、抗蚀分离、切片、结合、封装等)。如与常规方法相比，根据此实施例的制造制品的方法在制品的性能、质量、生产率和生产成本中的至少一个方面是有利的。

<其他实施例>

本发明的一个或多个实施例还可以由读出且执行记录在存储介质(也可被更完整地称为‘非暂态计算机可读存储介质’)上的计算机可执行指令(例如，一个或多个程序)以执行上述实施例中的一个或多个的功能和/或包括用于执行上述实施例中的一个或多个的功能的一个或多个电路(例如，专用集成电路(asic))的系统或设备的计算机来实现，以及通过由系统或设备的计算机例如通过从存储介质读出和执行计算机可执行指令以执行上述实施例中的一个或多个的功能和/或控制一个或多个电路以执行上述实施例中的一个或多个的功能来的执行的方法来实现。计算机可以包括一个或多个处理器(例如，中央处理单元(cpu)、微处理单元(mpu))，并且可以包括单独计算机或单独处理器的网络以读出且执行计算机可执行指令。计算机可执行指令可以例如从网络或存储介质提供到计算机。存储介质可以包括例如硬盘、随机存取存储器(ram)、只读存储器(rom)、分布式计算系统的存储器、光盘(例如光盘(cd)、数字通用光盘(dvd)或蓝光光盘(bd)^tm)、闪存存储器装置、存储卡等中的一种或多种。其它实施例

本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现，即，通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给系统或装置、该系统或装置的计算机或是中央处理单元(cpu)、微处理单元(mpu)读出并执行程序的方法。

虽然已经参考示例性实施例描述了本发明，但应理解，本发明不限于所公开示例性实施例。以下权利要求的范围应被赋予最广泛的解释，以便涵盖所有此类修改以及等效结构和功能。