一种增透膜的制作方法

本实用新型涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种增透膜。

背景技术：

在光学元件中，由于元件表面的反射作用而使光能损失，为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜，这种薄膜就叫增透膜。可见增透膜的作用是减少反射光的强度，从而增加透射光的强度，使光学系统成像更清晰。目前膜只能实现在0度入射角使用，而且基本都在可见光范围使用，使光学元件的光学性能受到限制，因此，降低玻璃表面的反光，减少光衰减，这在现代镜头上非常重要。

技术实现要素：

本实用新型的实施例提供了一种增透膜，以克服现有技术的缺陷。

为了实现上述目的，本实用新型采取了如下技术方案。

本实用新型提供了如下方案：

一种增透膜，包括基片，所述基片上依次镀有第1至8层膜层，所述第1至8层膜层的波长均为530nm；

所述第1层膜层的物理厚度为8-10.05nm，折射率为2.16；

所述第2层膜层的物理厚度为51.5-55.23nm，折射率为1.45；

所述第3层膜层的物理厚度为27.29-30.99nm，折射率为2.16；

所述第4层膜层的物理厚度为21.2-23.56nm，折射率为1.45；

所述第5层膜层的物理厚度为80.56-83.66nm，折射率为2.16；

所述第6层膜层的物理厚度为15.45-19.21nm，折射率为1.45；

所述第7层膜层的物理厚度为28.23-31.58nm，折射率为2.16；

所述第8层膜层的物理厚度为105.12-109.11nm，折射率为1.38。

优选地，所述基片为玻璃。

优选地，所述第1层膜层、第3层膜层、第5层膜层和第7层膜层为ta2o5或latio3。

优选地，所述第2层膜层、第4层膜层和第6层膜层为sio2或mgf2。

优选地，所述第8层膜层为mgf2。

优选地，所述第1层膜层的物理厚度为9.05nm，所述第2层膜层的物理厚度为53.33nm，所述第3层膜层的物理厚度为29.69nm，所述第4层膜层的物理厚度为22.16nm，所述第5层膜层的物理厚度为81.90nm，所述第6层膜层的物理厚度为17.46nm，所述第7层膜层的物理厚度为30.55nm，所述第8层膜层的物理厚度为107.09nm。

优选地，所述增透膜的入射角为0-30度。

优选地，所述增透膜应用光谱波段为850nm。

由上述本实用新型的实施例提供的技术方案可以看出，本实用新型实施例提供的一种增透膜的有益效果在于：通过低中高三种(ta2o5、sio2、mgf2)或低高(ta2o5、mgf2)两种材料优化组合形成的增透膜，采用8层膜设计，有效地降低玻璃表面的反光，减少光衰减，满足在很宽的入射角的范围内能使用，提高成像质量；而镀膜后反光降低的另一个好处是不容易产生逆光光雾，镜头在逆光条件下的性能有明显提高。

本实用新型附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种增透膜结构的示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能解释为对本实用新型的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本实用新型的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。应该理解，当我们称元件被“连接”或“耦接”到另一元件时，它可以直接连接或耦接到其他元件，或者也可以存在中间元件。此外，这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或耦接。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的任一单元和全部组合。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本实用新型所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样定义，不会用理想化或过于正式的含义来解释。

为便于对本实用新型实施例的理解，下面将结合附图以几个具体实施例为例做进一步的解释说明，且各个实施例并不构成对本实用新型实施例的限定。

本实用新型实施例提供了一种增透膜，如图1所示，包括基片，基片上依次镀有第1至8层膜层，第1至8层膜层的波长均为530nm，基片为玻璃。

第1层膜层的物理厚度为8-10.05nm，优选物理厚度为9.05nm，折射率为2.16；

第2层膜层的物理厚度为51.5-55.23nm，优选物理厚度为53.33nm，折射率为1.45；

第3层膜层的物理厚度为27.29-30.99nm，优选物理厚度为29.69nm，折射率为2.16；

第4层膜层的物理厚度为21.2-23.56nm，优选物理厚度为22.16nm，折射率为1.45；

第5层膜层的物理厚度为80.56-83.66nm，优选物理厚度为81.90nm，折射率为2.16；

第6层膜层的物理厚度为15.45-19.21nm，优选物理厚度为17.46nm，折射率为1.45；

第7层膜层的物理厚度为28.23-31.58nm，优选物理厚度为30.55nm，折射率为2.16；

第8层膜层的物理厚度为105.12-109.11nm，优选物理厚度为107.09nm，折射率为1.38。

增透膜的第1层膜层、第3层膜层、第5层膜层和第7层膜层为ta2o5或latio3，第2层膜层、第4层膜层和第6层膜层为sio2或mgf2，第8层膜层为mgf2，增透膜的入射角为0-30度，增透膜应用光谱波段为850nm。

上述增透膜可通过真空镀膜机按顺序镀膜，膜层厚度由光控来控制，厚度采用计算机软件计算及控制停点。

综上所述，本实用新型实施例通过低中高三种(ta2o5、sio2、mgf2)或低高(ta2o5、mgf2)两种材料优化组合形成的增透膜，采用8层膜设计，有效地降低玻璃表面的反光，减少光衰减，满足在很宽的入射角的范围内能使用，提高成像质量；而镀膜后反光降低的另一个好处是不容易产生逆光光雾，镜头在逆光条件下的性能有明显提高。

本领域普通技术人员可以理解：附图只是一个实施例的示意图，附图中的模块或流程并不一定是实施本实用新型所必须的。

本领域普通技术人员可以理解：实施例中的装置中的部件可以按照实施例描述分布于实施例的装置中，也可以进行相应变化位于不同于本实施例的一个或多个装置中。上述实施例的部件可以合并为一个部件，也可以进一步拆分成多个子部件。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。