获得用于训练半导体制造过程的模型的训练数据的方法与流程

文档序号:26007718发布日期:2021-07-23 21:26阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于获得包括合成量测数据的训练数据集的方法,所述训练数据集被配置为用于训练与用于制造集成电路的制造过程有关的模型,所述方法包括:

获得行为特性数据,所述行为特性数据描述从所述制造过程和/或相关工具或影响产生的过程参数的行为;

根据所述行为特性数据确定所述合成量测数据,所述合成量测数据描述所述制造过程的变化和/或相关工具或影响对所述过程参数的影响;以及

使用所述训练数据集训练所述模型,所述训练数据集包括所述合成量测数据。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述模型基于神经网络。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中行为特性数据包括与以下各项中的一项或多项有关的数据:由任何工具或影响所施加的空间参数分布、任何参数的时间噪声/漂移、情境或情境粒度、不同数据类型之间和/或相似过程之间的关系、以及系统应当对其做出响应的预测事件。

4.根据权利要求1所述的方法,其中确定所述合成量测数据包括:随着时间对所述行为特性进行内插和/或外推以获得经外推的过程参数值。

5.根据权利要求1所述的方法,其中确定所述合成量测数据基于与感兴趣应用不同的一个或多个应用相关联的行为特性数据,其中假定这是由所述一个或多个应用与所述感兴趣应用之间的特点行为的共性所导致的。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述合成量测数据针对所述制造过程的处理站的不同组合而生成。

7.根据权利要求1所述的方法,其中在使用所述模型对所述制造过程、与所述制造过程有关的量测设备的方面提出建议期间,并且来自所述模型的对应建议作为反馈数据被反馈以进一步训练所述模型。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述模型被配置为确定用于控制所述制造过程的优选控制策略。

9.根据权利要求1所述的方法,还提供与所述优选控制策略相关联的控制方案。

10.根据权利要求1所述的方法,其中所述模型被配置为基于与所述制造过程有关的过程数据来评估多个候选控制策略。

11.根据权利要求10所述的方法,其中所述评估步骤通过使质量度量的误差函数最小来实现。

12.根据权利要求10或11所述的方法,其中所述模型被配置为基于成本度量数据来评估所述多个候选控制策略,所述成本度量数据包括用于所述候选控制策略的相关成本度量。

13.一种计算机程序,包括程序指令,所述程序指令当在合适装置上运行时,能够操作以执行根据权利要求1所述的方法。

14.一种非暂态计算机程序载体,包括根据权利要求13所述的计算机程序。


技术总结
公开了一种用于获得包括合成量测数据的训练数据集的方法,所述训练数据集被配置为用于训练与用于制造集成电路的制造过程有关的模型。该方法包括:获得行为特性数据,该行为特性数据描述由制造过程和/或相关工具或影响产生的过程参数的行为。附加地或可替代地,可以获得对由所述制造过程和/或类似制造过程形成的结构执行的量测数据。使用所述行为特性数据和/或量测数据,确定合成量测数据,该合成量测数据描述了所述制造过程的变化和/或相关工具或影响对所述过程参数的影响。使用包括所述合成量测数据的训练数据集训练模型。

技术研发人员:R·沃克曼;L·M·弗盖杰-休泽
受保护的技术使用者:ASML荷兰有限公司
技术研发日:2019.09.26
技术公布日:2021.07.23
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