电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置的制作方法

本发明涉及电子照相感光体、处理盒以及图像形成装置。

背景技术：

以往，作为电子照相法的图像形成装置，广泛已知的是具备电子照相感光体并依次进行充电、静电潜像形成、显影、转印、清洁等步骤的装置。

作为电子照相感光体，具有含有含氟树脂颗粒的最外表面层的感光体是众所公知的。

并且，含氟树脂颗粒为通过照射放射线而得到的颗粒、通过聚合法得到的颗粒等。

例如，日本特开2018-24869号公报公开了“一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，其包括下述步骤：步骤(1)，将聚四氟乙烯、选自由烃、氯化烃、醇和羧酸(其中不包括碳原子数8以上14以下的全氟羧酸)组成的组中的至少一种添加剂、以及选自由惰性气体(其中不包括上述添加剂)和氧吸附剂组成的组中的至少一种投入到密闭容器中；以及步骤(2)，对上述聚四氟乙烯照射放射线，得到380℃的复数粘度为1×10²～7×10⁵pa·s的低分子量聚四氟乙烯。”。

另外，日本特开2018-24868号公报公开了“一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，其包括下述步骤：步骤(1)，对聚四氟乙烯照射放射线，得到380℃的熔融粘度为1×10²～7×10⁵pa·s的低分子量聚四氟乙烯；步骤(2)，将上述低分子量聚四氟乙烯粉碎；以及步骤(3)，对于经步骤(2)粉碎后的低分子量聚四氟乙烯进行热处理。”。

另外，日本特开平4-20507号公报公开了“一种四氟乙烯共聚物，其是四氟乙烯与至少一种全氟(烷基乙烯基醚)的共聚物，其包含1～10重量％的全氟(烷基乙烯基醚)单元，-conh2末端基团数为每10⁶个碳原子7～20个，不包含-ch2oh和-cof，380℃的熔融粘度为0.1×10⁴～100×10⁴泊。”。

技术实现要素：

发明所要解决的技术问题

本发明所要解决的技术问题在于提供一种电子照相感光体，与在具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层并且最外表面层包含含氟树脂颗粒和氟系接枝聚合物的电子照相感光体中包含25℃的水中的酸解离常数(pka)大于3的酸性化合物的情况、25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物的含量相对于最外表面层小于100ppm的情况、或者包含25℃的水中的酸解离常数(pka)为3.54的间苯二甲酸的情况相比，本发明的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

用于解决技术问题的手段

上述技术问题通过下述方案得到解决。

根据本发明的第1方案，提供一种电子照相感光体，该电子照相感光体具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层，该电子照相感光体的最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物，上述酸性化合物的含量相对于最外表面层为100ppm以上10000ppm以下。

根据本发明的第2方案，上述酸性化合物的酸解离常数(pka)为-2.8以上2.5以下。

根据本发明的第3方案，上述酸性化合物的酸解离常数(pka)为-2以上1.5以下。

根据本发明的第4方案，上述酸性化合物为选自由磺酸化合物、羧酸化合物、磷酸化合物以及硝酸化合物组成的组中的至少一种。

根据本发明的第5方案，上述酸性化合物为选自由磺酸化合物以及羧酸化合物组成的组中的至少一种。

根据本发明的第6方案，上述磺酸化合物为具有苯环的磺酸化合物，上述羧酸化合物为具有2个以上4个以下羧基的羧酸化合物。

根据本发明的第7方案，上述酸性化合物的含量相对于最外表面层为150ppm以上5000ppm以下。

根据本发明的第8方案，上述含氟树脂颗粒中，每10⁶个碳原子数的羧基个数为0个以上30个以下，且碱性化合物量为0ppm以上3ppm以下。

根据本发明的第9方案，上述含氟树脂颗粒中，每10⁶个碳原子数的羧基个数为0个以上20个以下，且上述碱性化合物量为0ppm以上3ppm以下。

根据本发明的第10方案，上述含氟树脂颗粒中，每10⁶个碳原子数的羧基量为0个以上20个以下，且上述碱性化合物量为0ppm以上1.5ppm以下。

根据本发明的第11方案，上述碱性化合物为胺化合物。

根据本发明的第12方案，上述碱性化合物是沸点40℃以上130℃以下的碱性化合物。

根据本发明的第13方案，提供一种电子照相感光体，该电子照相感光体具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层，该电子照相感光体的最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及选自由磺酸化合物、具有2个以上4个以下羧基的羧酸化合物、磷酸化合物和硝酸化合物组成的组中的至少一种酸性化合物，上述酸性化合物的含量相对于最外表面层为100ppm以上10000ppm以下。

根据本发明的第14方案，提供一种在图像形成装置中装卸的处理盒，其具备上述电子照相感光体。

根据本发明的第15方案，提供一种图像形成装置，其具备：上述电子照相感光体；充电机构，对上述电子照相感光体表面进行充电；静电潜像形成机构，在经充电的上述电子照相感光体表面形成静电潜像；显影机构，利用包含色调剂的显影剂将形成在上述电子照相感光体表面的静电潜像显影，形成色调剂图像，以及转印机构，将上述色调剂图像转印至记录介质表面。

发明的效果

根据上述第1、4、5、6的各方案，提供一种电子照相感光体，与在具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层并且最外表面层包含含氟树脂颗粒和氟系接枝聚合物的电子照相感光体中包含25℃的水中的酸解离常数(pka)大于3的酸性化合物的情况、或者25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物的含量相对于最外表面层小于100ppm的情况相比，上述方案的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

根据上述第2、3的各方案，提供一种电子照相感光体，与酸性化合物的酸解离常数(pka)小于-2.8或大于2.5(小于-2或者大于1.5)的情况相比，上述方案的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

根据上述第7方案，提供一种电子照相感光体，与酸性化合物的含量相对于最外表面层小于150ppm的情况相比，该方案的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

根据上述第8、9、10的各方案，提供一种含氟树脂颗粒，与每10⁶个碳原子数的羧基个数大于30个(或者大于20个)、或者碱性化合物量大于3ppm(或者大于1.5ppm)的情况相比，该方案的含氟树脂颗粒可抑制残余电位上升。

根据上述第11、12的各方案，提供一种含氟树脂颗粒，与作为碱性化合物胺化合物或者沸点40℃以上130℃以下的碱性化合物的量大于3ppm的情况相比，上述方案的含氟树脂颗粒的充电性优异。

根据上述第13方案，提供一种电子照相感光体，与在具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层并且最外表面层包含含氟树脂颗粒和氟系接枝聚合物的电子照相感光体中包含25℃的水中的酸解离常数(pka)为3.54的间苯二甲酸的情况相比，该方案的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

根据上述第14、15的各方案，提供一种具备电子照相感光体的处理盒或具备该电子照相感光体的图像形成装置，与在具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层且最外表面层包含含氟树脂颗粒和氟系接枝聚合物的电子照相感光体中具备包含25℃的水中的酸解离常数(pka)大于3的酸性化合物的电子照相感光体的情况、具备25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物的含量相对于最外表面层小于100ppm的电子照相感光体的情况、或者具备包含25℃的水中的酸解离常数(pka)为3.54的间苯二甲酸的电子照相感光体的情况相比，上述方案具备的电子照相感光体可抑制残余电位上升。

附图说明

图1是示出本实施方式的电子照相感光体的层构成的一例的示意性截面图。

图2是示出本实施方式的图像形成装置的一例的示意性构成图。

图3是示出本实施方式的图像形成装置的另一例的示意性构成图。

具体实施方式

以下对作为本发明的一例的实施方式进行详细说明。

需要说明的是，本说明书中，在阶段性地记载的数值范围中，以某一数值范围记载的上限值或下限值可以被替换成所记载的其他阶段的数值范围的上限值或下限值。

另外，在数值范围中，以某一数值范围记载的上限值或下限值可以被替换成实施例中所示的值。

关于组合物中的各成分的量，在组合物中与各成分相应的物质存在两种以上的情况下，只要不特别声明，是指组合物中所存在的上述两种以上的物质的总量。

“步骤”这一用语不仅包含独立的步骤，而且即使在无法与其他步骤明确区分的情况下，只要可实现该步骤的期望目的，则也包含在本术语中。

<电子照相感光体>

第一实施方式的电子照相感光体(下文中也称为“第一实施方式的感光体”)具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层，最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物，上述酸性化合物的含量相对于最外表面层为100ppm以上1.0％以下。

第二实施方式的电子照相感光体(下文中也称为“第二实施方式的感光体”)具有导电性基体以及设于上述导电性基体上的感光层，最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及选自由具有苯环的磺酸化合物、具有2个以上4个以下羧基的羧酸化合物、磷酸化合物以及硝酸化合物组成的组中的至少一种酸性化合物，上述酸性化合物的含量相对于最外表面层为100ppm以上1.0％以下。

需要说明的是，作为最外表面层，为层积型感光层的电荷传输层、单层型感光层、表面保护层等。

第一和第二本实施方式的感光体中，通过上述构成，成为可抑制残余电位上升的感光体。其理由据推测如下。

“酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物”或者“选自由具有苯环的磺酸化合物、具有2个以上4个以下羧基的羧酸化合物、磷酸化合物以及硝酸化合物组成的组中的至少一种酸性化合物”当混配在最外表面层时均可使最外表面层呈低电阻化。

因此，在最外表面层中以100ppm以上1.0％以下的范围含有这些酸性化合物时，可适度地低电阻化、抑制残余电位上升。

下面对于既符合第一实施方式感光体又符合第二实施方式感光体的感光体(下文中也称为“本实施方式的感光体”)进行详细说明。其中，本发明的感光体的一例为符合第一和第二实施方式的感光体中的任一者的感光体即可。

下面参照附图对本实施方式的电子照相感光体进行说明。

图1所示的电子照相感光体7例如可以举出具有在导电性支撑体4上依序层积底涂层1、电荷产生层2以及电荷传输层3而成的结构的感光体7。电荷产生层2和电荷传输层3构成感光层5。

需要说明的是，电子照相感光体7也可以为不设置底涂层1的层构成。

另外，电子照相感光体7可以为具有将电荷产生层2和电荷传输层3的功能一体化而成的单层型感光层的感光体。在具有单层型感光层的感光体的情况下，单层型感光层构成最外表面层。

另外，电子照相感光体7可以为在电荷传输层3上或者单层型感光层上具有表面保护层的感光体。在具有表面保护层的感光体的情况下，表面保护层构成最外表面层。

以下对本实施方式的电子照相感光体的各层进行详细说明。需要说明的是，将符号省略来进行说明。

(最外表面层)

最外表面层包含含氟树脂颗粒、氟系接枝聚合物以及酸性化合物。最外表面层根据所应用的层(层积型感光层的电荷传输层、单层型感光层或者表面保护层)包含添加剂。需要说明的是，关于所应用的层的详细内容在下文叙述。

-含氟树脂颗粒-

作为含氟树脂颗粒，可以举出氟代烯烃的均聚物的颗粒、2种以上的共聚物即氟代烯烃中的1种或2种以上与非氟系单体(即不具有氟原子的单体)的共聚物的颗粒。

作为氟代烯烃，例如可以举出四氟乙烯(tfe)、全氟乙烯基醚、六氟丙烯(hfp)、三氟氯乙烯(ctfe)等全卤烯烃、偏二氟乙烯(vdf)、三氟乙烯、氟乙烯等非全氟烯烃等。这些之中，优选vdf、tfe、ctfe、hfp等。

另一方面，作为非氟系单体，例如可以举出乙烯、丙烯、丁烯等烃系烯烃；环己基乙烯基醚(chve)、乙基乙烯基醚(eve)、丁基乙烯基醚、甲基乙烯基醚等烷基乙烯基醚；聚氧乙烯烯丙基醚(poeae)、乙基烯丙基醚等烯基乙烯基醚；乙烯基三甲氧基硅烷(vsi)、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(甲氧基乙氧基)硅烷等具有反应性α,β-不饱和基团的有机硅化合物；丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等丙烯酸酯；甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等甲基丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、安息香酸乙烯酯、“veova”(商品名、壳牌公司制造的乙烯基酯)等乙烯基酯；等等。这些之中，优选烷基乙烯基醚、烯丙基乙烯基醚、乙烯基酯、具有反应性α,β-不饱和基团的有机硅化合物。

这些之中，作为含氟树脂颗粒，优选氟化率高的颗粒，更优选聚四氟乙烯(ptfe)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(fep)、四氟乙烯-全氟(烷基乙烯基醚)共聚物(pfa)、乙烯-四氟乙烯共聚物(etfe)、乙烯-三氟氯乙烯共聚物(ectfe)等的颗粒，特别优选ptfe、fep、pfa的颗粒。

含氟树脂颗粒优选每10⁶个碳原子数的羧基个数为0个以上30个以下且碱性化合物量为0ppm以上3ppm以下的颗粒。

含氟树脂颗粒中的羧基个数和碱性化合物量为上述范围时，可进一步抑制残余电位上升。

此处，含氟树脂颗粒中存在照射放射线而得到的颗粒(本说明书中，也称为“放射线照射型的含氟树脂颗粒”)、通过聚合法得到的颗粒(本说明书中，也称为“聚合型的含氟树脂颗粒”)等。

放射线照射型的含氟树脂颗粒(照射放射线而得到的含氟树脂颗粒)是指，进行放射线聚合并同时进行颗粒化而得到的含氟树脂颗粒、将聚合后的含氟树脂通过利用放射线照射的分解而进行低分量化且进行微粒化而得到的含氟树脂颗粒。

放射线照射型的含氟树脂颗粒通过空气中的放射线的照射而大量生成羧酸，因此也大量含有羧基。

另一方面，聚合型的含氟树脂颗粒(通过聚合法得到的含氟树脂颗粒)表示通过悬浮聚合法、乳液聚合法等在聚合的同时进行颗粒化、并且未进行放射线照射的含氟树脂颗粒。

聚合型的含氟树脂颗粒是通过在碱性化合物的存在下进行聚合而制造的，因此以残留物的形式含有碱性化合物。

即，现有的含氟树脂颗粒中大量含有羧基或碱性化合物。

含氟树脂颗粒大量含有羧基时，显示出离子电导性，因此具有不容易带电的性质。

当在电子照相感光体的最外表面层中包含大量含有羧基的现有含氟树脂颗粒时，在高温高湿环境下感光体的充电性可能会降低。

另一方面，在含氟树脂颗粒大量含有碱性化合物时，碱性化合物显示出空穴俘获性，因此具有不容易带电的性质。

在电子照相感光体的最外表面层包含大量含有碱性化合物的现有的含氟树脂颗粒时，残余电位可能会经时地上升。

因此，通过将含氟树脂颗粒中的羧基和碱性化合物量抑制在上述范围，可提高充电性。需要说明的是，在将羧基个数和碱性化合物量抑制在上述范围内时，即使羧基个数稍多，若碱性化合物量大，则离子导电性和空穴俘获性相互抵消，也具有充电性变好的倾向。

因此，在电子照相感光体的最外表面层包含羧基和碱性化合物量为上述范围的含氟树脂颗粒时，可抑制充电性降低和残余电位上升。

从提高充电性的方面出发，含氟树脂颗粒的羧基个数优选为0个以上20个以下。

此处，含氟树脂颗粒的羧基例如为来自含氟树脂颗粒中包含的末端羧酸的羧基。

作为降低含氟树脂颗粒的羧基量的方法，可以举出下述方法：1)在颗粒制造的过程中不照射放射线的方法；2)在照射放射线时在氧不存在的条件下或降低氧浓度的条件下来进行照射的方法；等等。

含氟树脂颗粒的羧基量如日本特开平4-20507等中所记载如下进行测定。

将含氟树脂颗粒利用压力机进行预成型，制作大约0.1mm厚度的膜。对所制作的膜进行红外吸收光谱测定。对于使氟气与含氟树脂颗粒接触而制作的羧酸末端被完全氟化的含氟树脂颗粒也进行红外吸收光谱测定，根据下式由两者的差示光谱测定末端羧基个数(每10⁶个碳原子数)＝(l×k)/t

l：吸光度

k：校正系数

t：膜的厚度(mm)

羧基的吸收波数定为3560cm^-1，校正系数定为440。

另一方面，从抑制残余电位上升的方面出发，含氟树脂颗粒的碱性化合物量优选为0ppm以上1.5ppm以下、更优选为0ppm以上1.2ppm以下。需要说明的是，ppm为质量基准。

含氟树脂颗粒的碱性化合物例如为：1)来自将含氟树脂颗粒聚合并同时进行颗粒化时所使用的聚合引发剂的碱性化合物；2)在聚合后进行凝集的步骤中使用的碱性化合物；以及3)作为在聚合后将分散液稳定化的分散助剂使用的碱性化合物；等等。

作为碱性化合物，例如以胺化合物、碱金属或碱土金属的氢氧化物、碱金属或碱土金属的氧化物、乙酸盐类等作为对象(例如特别是以胺化合物作为对象)。

作为碱性化合物，例如以沸点(常压下(1气压下)的沸点)为40℃以上130℃以下(优选50℃以上110℃以下、更优选60℃以上90℃以下)的碱性化合物作为对象。

作为胺化合物，可以举出伯胺化合物、仲胺化合物或叔胺化合物。

作为伯胺化合物，可以举出甲胺、乙胺、丙胺、异丙胺、正丁胺、异丁胺、叔丁胺、己胺、2-乙基己胺、仲丁胺、烯丙胺、甲基己胺等。

作为仲胺化合物，可以举出二甲胺、二乙胺、二正丙胺、二异丙胺、二正丁胺、二异丁胺、二叔丁胺、二己胺、二(2-乙基己基)胺、n-异丙基-n-异丁胺、二仲丁胺、二烯丙胺、n-甲基己胺、3-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2,4-二甲基哌啶、2,6-二甲基哌啶、3,5-二甲基哌啶、吗啉、n-甲基苄基胺等。

作为叔胺化合物，可以举出三甲胺、三乙胺、三正丙胺、三异丙胺、三正丁胺、三异丁胺、三叔丁胺、三己胺、三(2-乙基己基)胺、n-甲基吗啉、n,n-二甲基烯丙胺、n-甲基二烯丙胺、三烯丙胺、n,n-二甲基烯丙胺、n,n,n’,n’-四甲基-1,2-二氨基乙烷、n,n,n’,n’-四甲基-1,3-二氨基丙烷、n,n,n’,n’-四烯丙基-1,4-二氨基丁烷、n-甲基哌啶、吡啶、4-乙基吡啶、n-丙基二烯丙胺、3-二甲氨基丙醇、2-乙基吡嗪、2,3-二甲基吡嗪、2,5-二甲基吡嗪、2,4-二甲基吡啶、2,5-二甲基吡啶、3,4-二甲基吡啶、3,5-二甲基吡啶、2,4,6-三甲基吡啶、2-甲基-4-乙基吡啶、2-甲基-5-乙基吡啶、n,n,n’,n’-四甲基1,6-己二胺、n-乙基-3-羟基哌啶、3-甲基-4-乙基吡啶、3-乙基-4-甲基吡啶、4-(5-壬基)吡啶、咪唑、n-甲基哌嗪等。

作为碱金属或碱土金属的氢氧化物，例如可以举出naoh、koh、ca(oh)2、mg(oh)2、ba(oh)2等。

作为碱金属或碱土金属的氧化物，例如可以举出cao、mgo等。

作为乙酸盐类，例如可以举出乙酸锌、乙酸钠等。

作为降低含氟树脂颗粒的碱性化合物量的方法，可以举出：1)在颗粒制造后利用水、有机溶剂(甲醇、乙醇、异丙醇等醇；四氢呋喃等)等进行清洗的方法；2)在颗粒制造后将颗粒加热(例如加热至200℃以上250℃以下)，将碱性化合物经分解或气化而除去；等等。

含氟树脂颗粒的碱性化合物量如下进行测定。

-前处理-

将包含含氟树脂颗粒的最外表面层浸渍在溶剂(例如四氢呋喃)中，将含氟树脂颗粒和溶剂不溶的物质以外的物质溶解在溶剂(例如四氢呋喃)中，然后滴加至纯水中，滤出析出物。捕集此时得到的包含全氟辛酸(pfoa)的溶液。进一步将通过滤出得到的不溶物溶解在溶剂中，然后滴加至纯水中，滤出析出物。将该作业重复5次，得到作为测定试样的含氟树脂颗粒。

以包含含氟树脂颗粒的组合物作为测定对象的情况下，对于组合物实施与最外表面层的情况同样的处理，得到作为测定试样的含氟树脂颗粒。

以含氟树脂颗粒本身作为测定对象的情况下，对于含氟树脂颗粒实施与从最外表面层进行测定的情况同样的处理，得到作为测定试样的含氟树脂颗粒。

-测定-

另一方面，使用浓度已知的碱性化合物溶液(甲醇溶剂)，利用气相色谱，由浓度已知的碱性化合物溶液(甲醇溶剂)的碱性化合物浓度和峰面积的值得到校正曲线(0ppm至100ppm的校正曲线)。

之后，利用气相色谱对测定试样进行测定，由所得到的峰面积和校正曲线计算出含氟树脂颗粒的碱性化合物量。测定条件如下。

-测定条件-

·顶空进样器：(hp7694、hp公司制造)

·测定机：气相色谱(hp6890系列、hp公司制造)

·检测器：氢火焰离子化检测器(fid)

·柱：hp19091s-433、hp公司制造)

·试样加热时间：10min

·分流比(spritratio)：300：1

·流速：1.0ml/min

·柱升温设定：60℃(3min)、60℃/min、200℃(1min)

含氟树脂颗粒较佳为聚合型的含氟树脂颗粒。如上所述，聚合型的含氟树脂颗粒为通过悬浮聚合法、乳液聚合法等进行聚合并同时进行颗粒化并且不进行放射线照射的含氟树脂颗粒。

此处，利用悬浮聚合法进行的含氟树脂颗粒的制造例如为下述方法：将用于形成含氟树脂的单体与聚合引发剂、催化剂等添加物一起悬浮在分散介质中，然后一边使单体聚合一边将聚合物进行颗粒化。

另外，利用乳液聚合法进行的含氟树脂颗粒的制造例如为下述方法：在分散介质中将用于形成含氟树脂的单体与聚合引发剂、催化剂等添加物一起利用表面活性剂(即乳化剂)进行乳化，然后一边使单体聚合一边将聚合物进行颗粒化。

特别是含氟树脂颗粒可以为在制造步骤中不进行放射线照射而得到的颗粒。

其中，氟树脂颗粒为在不存在氧或者氧浓度降低的条件下进行放射线照射而得到的放射线照射型氟树脂颗粒也可以适用。

含氟树脂颗粒的平均粒径没有特别限制，优选为0.2μm以上4.5μm以下、更优选为0.2μm以上4μm以下。平均粒径为0.2μm以上4.5μm以下的含氟树脂颗粒(特别是ptfe颗粒等含氟树脂颗粒)具有大量含有pfoa的倾向。因此，平均粒径为0.2μm以上4.5μm以下的含氟树脂颗粒特别具有充电性低的倾向。但是，通过将pfoa的量抑制在上述范围，即使是平均粒径为0.2μm以上4.5μm以下的含氟树脂颗粒，充电性也高。

含氟树脂颗粒的平均粒径为通过下述方法测定得到的值。

利用sem(扫描型电子显微镜)以例如倍率5000倍以上进行观察，测定含氟树脂颗粒(一次颗粒凝集而成的二次颗粒)的最大径，对50个颗粒进行该测定并将所得到的平均值作为含氟树脂颗粒的平均粒径。需要说明的是，作为sem使用日本电子制jsm-6700f，观察加速电压5kv的二次电子图像。

从分散稳定性的方面出发，含氟树脂颗粒的比表面积(bet比表面积)优选为5m²/g以上15m²/g以下、更优选为7m²/g以上13m²/g以下。

需要说明的是，比表面积为使用bet式比表面积测定器(岛津制作所制：flowsoapii2300)利用氮气置换法测定得到的值。

从分散稳定性的方面出发，含氟树脂颗粒的表观密度优选为0.2g/ml以上0.5g/ml以下、更优选为0.3g/ml以上0.45g/ml以下。

需要说明的是，表观密度为依据jisk6891(1995年)测定得到的值。

含氟树脂颗粒的熔融温度优选为300℃以上340℃以下、更优选为325℃以上335℃以下。

需要说明的是，熔融温度为依据jisk6891(1995年)测定得到的熔点。

-氟系接枝聚合物-

氟系接枝聚合物是具有氟元素的分散剂。

作为氟系接枝聚合物，可以举出将具有氟代烷基的聚合性化合物均聚或共聚而成的聚合物(下文中也称为“含氟代烷基聚合物”)。

作为氟系接枝聚合物，具体地说，可以举出具有氟代烷基的(甲基)丙烯酸酯的均聚物、具有氟代烷基的(甲基)丙烯酸酯与不具有氟原子的单体的无规或嵌段共聚物等。需要说明的是，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯这两者。

作为具有氟代烷基的(甲基)丙烯酸酯，例如，可以举出(甲基)丙烯酸-2,2,2-三氟乙酯、(甲基)丙烯酸-2,2,3,3,3-五氟丙酯。

作为不具有氟原子的单体，例如可以举出(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、甲氧基三甘醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸苄酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羟丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟丁酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、羟基乙基邻苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯、邻苯基苯酚缩水甘油醚(甲基)丙烯酸酯。

此外，作为氟系接枝聚合物，具体地说，还可以举出美国专利5637142号说明书、日本专利第4251662号公报等所公开的嵌段或支化聚合物。进而，作为氟系接枝聚合物，具体地说，还可以举出氟系表面活性剂。

这些之中，作为氟系接枝聚合物，优选具有下述通式(fa)所表示的结构单元的含氟代烷基聚合物，更优选具有下述通式(fa)所表示的结构单元和下述通式(fb)所表示的结构单元的含氟代烷基聚合物。

下面对具有下述通式(fa)所表示的结构单元和下述通式(fb)所表示的结构单元的含氟代烷基聚合物进行说明。

[化2]

通式(fa)和(fb)中，r^f1、r^f2、r^f3和r^f4各自独立地地表示氢原子或烷基。

x^f1表示亚烷基链、卤素取代亚烷基链、-s-、-o-、-nh-或单键。

y^f1表示亚烷基链、卤素取代亚烷基链、-(cfxh2fx-1(oh))-或单键。

q^f1表示-o-或-nh-。

fl、fm和fn各自独立地表示1以上的整数。

fp、fq、fr和fs各自独立地表示0或1以上的整数。

ft表示1～7的整数。

fx表示1以上的整数。

通式(fa)和(fb)中，作为表示r^f1、r^f2、r^f3和r^f4的基团，优选氢原子、甲基、乙基、丙基等，更优选氢原子、甲基，进一步优选甲基。

通式(fa)和(fb)中，作为表示x^f1和y^f1的亚烷基链(未取代亚烷基链、卤素取代亚烷基链)，优选碳原子数1～10的直链状或支链状的亚烷基链。

表示y^f1的-(cfxh2fx-1(oh))-中的fx优选表示1～10的整数。

fp、fq、fr和fs优选各自独立地表示0或1～10的整数。

fn例如优选为1以上60以下。

此处，氟系接枝聚合物中通式(fa)所表示的结构单元与通式(fb)所表示的结构单元之比即，fl:fm优选为1:9至9:1的范围，更优选为3:7至7:3的范围。

氟系接枝聚合物中，除了通式(fa)所表示的结构单元和通式(fb)所表示的结构单元以外，还可以进一步具有通式(fc)所表示的结构单元。通式(fc)所表示的结构单元的含有比以与通式(fa)和(fb)所表示的结构单元的合计(即fl+fm)之比(fl+fm:fz)计优选为10:0至7:3的范围，更优选为9:1至7:3的范围。

[化3]

通式(fc)中，r^f5和r^f6各自独立地表示氢原子或烷基。fz表示1以上的整数。

通式(fc)中，作为表示r^f5和r^f6的基团，优选氢原子、甲基、乙基、丙基等，更优选氢原子、甲基，进一步优选甲基。

作为氟系接枝聚合物的市售品，例如可以举出gf300、gf400(东亚合成公司制造)、surflon系列(agcseimichemical公司制造)、ftergent系列(noes公司制造)、pf系列(北村化学公司制造)、megaface系列(dic制)、fc系列(3m制)等。

从提高含氟树脂颗粒的分散性的方面出发，氟系接枝聚合物的重均分子量mw优选为2万以上20万以下、更优选为5万以上20万以下。

氟系接枝聚合物的重均分子量为利用凝胶渗透色谱(gpc)进行测定得到的值。关于利用gpc的分子量测定，例如，作为测定装置使用东曹制gpc·hlc-8120，使用东曹制柱·tskgelgmhhr-m+tskgelgmhhr-m(7.8mmi.d.30cm)，利用氯仿溶剂进行测定，使用利用单分散聚苯乙烯标准试样制作的分子量校正曲线根据该测定结果进行计算。

氟系接枝聚合物的含量例如相对于含氟树脂颗粒优选为0.5质量％以上10质量％以下、更优选为1质量％以上7质量％以下。

需要说明的是，氟系接枝聚合物可以单独使用1种或将2种以上合用。

-酸性化合物-

酸性化合物是25℃的水中的酸解离常数(pka)为3以下的酸性化合物。

此处，酸解离常数(pka)是指第一酸解离常数(pka1)。

从抑制残余电位上升的方面出发，酸性化合物的酸解离常数(pka)优选为-2.8以上2.5以下、更优选为-2.1以上2.5以下、进一步优选为-2以上2.5以下、最优选为0.5以上2以下。

酸性化合物可以为无机酸、有机酸的任一种。酸性化合物可以单独使用1种，也可以将2种以上合用。

作为无机酸，例如可以举出磷酸化合物(具有po^-3基的化合物：例如磷酸)、硝酸化合物(具有no3^-基的化合物：例如硝酸)等。

作为有机酸，例如可以举出磺酸化合物、羧酸化合物等。

磺酸化合物为具有soh3^-基的化合物。作为磺酸化合物，例如可以举出具有被碳原子数1以上20以下(优选碳原子数1以上12以下)的烷基所取代的苯环的磺酸化合物(甲苯磺酸、苯磺酸、十二烷基苯磺酸、2,4-二甲基苯磺酸、羟基苯磺酸等)、碳原子数1～6(优选1～4)的烷基磺酸(甲基磺酸、乙基磺酸、丙烷磺酸、丁烷磺酸等)、它们的水合物。

羧酸化合物是具有-cooh基的化合物。作为羧酸化合物，可以举出草酸、n,n-二甲基邻氨基苯甲酸、马来酸、均苯四甲酸、乙酰甲酸、酒石酸、柠檬酸、三氟乙酸、邻苯二甲酸等。

即，作为酸性化合物，从抑制残余电位上升的方面出发，优选选自由磺酸化合物、羧酸化合物、磷酸化合物以及硝酸化合物组成的组中的至少一种。

这些之中，作为酸性化合物，更优选选自由磺酸化合物以及羧酸化合物组成的组中的至少一种，进一步优选选自由具有苯环的磺酸化合物以及具有2个以上4个以下羧基的羧酸化合物组成的组中的至少一种。

酸性化合物的含量相对于最外表面层为100ppm以上5000ppm以下。从抑制残余电位上升的方面出发，酸性化合物的含量优选为100ppm以上5000ppm以下、更优选为150ppm以上5000ppm以下、最优选为200ppm以上2000ppm以下。需要说明的是，ppm为质量基准。

通过在最外表面层包含100ppm以上的酸性化合物，可抑制残余电位上升。另一方面，在最外表面层包含大量的酸性化合物时，受到湿度的影响，充电性降低(具体地说，暗衰减增加，带电维持性降低)。因此，使酸性化合物的含量为10000ppm以下。

(导电性基体)

作为导电性基体，例如可以举出：包含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属筒以及金属带等。另外，作为导电性基体，还可以举出例如导电性化合物(例如导电性聚合物、氧化铟等)、金属(例如铝、钯、金等)、或者涂布、蒸镀或层压有合金的纸、树脂膜、带等。此处，“导电性”是指体积电阻率小于10¹³ωcm。

在将电子照相感光体用于激光打印机的情况下，出于抑制在照射激光时所产生的干涉条纹的目的，优选将导电性基体的表面粗面化至以中心线平均粗糙度ra计为0.04μm以上0.5μm以下。需要说明的是，将非干涉光用于光源的情况下，用于防止干涉条纹的粗面化不是特别必要的，但由于该粗面化可抑制因导电性基体的表面凹凸所致的缺陷的发生，因此适合于进一步的长寿命化。

作为粗面化的方法，例如可以举出：通过将研磨剂悬浮于水中并吹喷至导电性基体而进行的湿式珩磨；将导电性基体压接于旋转的磨石而连续地进行磨削加工的无心磨削；阳极氧化处理等。

作为粗面化的方法，还可以举出下述方法：不对导电性基体的表面进行粗面化，而是使导电性或半导电性粉体分散在树脂中，在导电性基体的表面上形成层，利用分散在该层中的颗粒进行粗面化。

利用阳极氧化进行的粗面化处理是通过将金属制(例如铝制)的导电性基体作为阳极在电解质溶液中进行阳极氧化而在导电性基体的表面形成氧化膜的粗面化处理。作为电解质溶液，例如可以举出硫酸溶液、草酸溶液等。但是，通过阳极氧化形成的多孔质阳极氧化膜在原本的状态下在化学上是活性的，容易被污染，因环境所致的电阻变动也较大。因此，优选对多孔质阳极氧化膜进行下述封孔处理：在加压水蒸气或沸水中(也可以加入镍等的金属盐)，利用因水合反应所致的体积膨胀来堵塞氧化膜的微细孔，使其变为更稳定的水合氧化物。

阳极氧化膜的膜厚例如优选为0.3μm以上15μm以下。该膜厚处于上述范围内时，具有针对注入发挥出阻隔性的倾向，并且具有抑制因反复使用所致的残余电位上升的倾向。

也可以对导电性基体实施基于酸性处理液的处理或勃姆石处理。

基于酸性处理液的处理例如如下实施。首先制备包含磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理液。酸性处理液中的磷酸、铬酸和氢氟酸的混配比例例如可以为：磷酸10质量％以上11质量％以下的范围、铬酸3质量％以上5质量％以下的范围、氢氟酸0.5质量％以上2质量％以下的范围，这些酸整体的浓度可以为13.5质量％以上18质量％以下的范围。处理温度例如优选为42℃以上48℃以下。覆膜的膜厚优选为0.3μm以上15μm以下。

勃姆石处理例如通过在90℃以上100℃以下的纯水中浸渍5分钟至60分钟或者与90℃以上120℃以下的加热水蒸气接触5分钟至60分钟来进行。覆膜的膜厚优选为0.1μm以上5μm以下。也可以进一步使用己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐、柠檬酸盐等覆膜溶解性低的电解质溶液对其进行阳极氧化处理。

(底涂层)

底涂层例如为包含无机颗粒和粘结性树脂的层。

作为无机颗粒，例如可以举出粉体电阻(体积电阻率)为10²ωcm以上10¹¹ωcm以下的无机颗粒。

这些之中，作为具有上述电阻值的无机颗粒，例如可以为氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒、氧化锆颗粒等金属氧化物颗粒，特别优选氧化锌颗粒。

无机颗粒基于bet法的比表面积例如可以为10m²/g以上。

无机颗粒的体积平均粒径例如可以为50nm以上2000nm以下(优选为60nm以上1000nm以下)。

无机颗粒的含量例如相对于粘结性树脂优选为10质量％以上80质量％以下、更优选为40质量％以上80质量％以下。

无机颗粒可以实施表面处理。无机颗粒中，可以将2种以上的表面处理不同的无机颗粒或者粒径不同的无机颗粒混合使用。

作为表面处理剂，例如可以举出硅烷偶联剂、钛酸酯系偶联剂、铝系偶联剂、表面活性剂等。特别是优选硅烷偶联剂，更优选具有氨基的硅烷偶联剂。

作为具有氨基的硅烷偶联剂，例如可以举出3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷等，但并不限于这些。

硅烷偶联剂可以将2种以上混合使用。例如可以将具有氨基的硅烷偶联剂与其他硅烷偶联剂合用。作为该其他硅烷偶联剂，例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等，但并不限于这些。

利用表面处理剂的表面处理方法只要为公知的方法即可以为任何方法，可以为干式法或湿式法中的任一者。

表面处理剂的处理量例如相对于无机颗粒优选为0.5质量％以上10质量％以下。

此处，从电学特性的长期稳定性、载流子阻挡性高的方面出发，底涂层可以在含有无机颗粒的同时还含有电子接受性化合物(受体化合物)。

作为电子接受性化合物，例如可以举出：氯醌、溴苯胺等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮、2,4,5,7-四硝基-9-芴酮等芴酮化合物；2-(4-联苯)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-二乙基氨基苯基)-1,3,4噁二唑等噁二唑系化合物；氧杂蒽酮系化合物；噻吩化合物；3,3’,5,5’-四叔丁基联苯醌等联苯醌化合物等电子传输性物质等。

特别是作为电子接受性化合物，优选具有蒽醌结构的化合物。作为具有蒽醌结构的化合物，例如优选羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物、氨基羟基蒽醌化合物等，具体地说，例如优选蒽醌、茜素、醌茜、蒽绛酚、红紫素等。

电子接受性化合物可以与无机颗粒一起分散包含在底涂层中，也可以以附着于无机颗粒表面的状态包含在其中。

作为使电子接受性化合物附着于无机颗粒表面的方法，例如可以举出干式法或湿式法。

干式法例如为下述方法：一边利用剪切力大的混合器等对无机颗粒进行搅拌，一边直接滴加电子接受性化合物或者滴加溶解在有机溶剂中的电子接受性化合物、将其与干燥空气或氮气一起进行喷雾，使电子接受性化合物附着于无机颗粒表面。进行电子接受性化合物的滴加或喷雾时，以在溶剂的沸点以下的温度来进行为宜。电子接受性化合物的滴加或喷雾后，可以进一步在100℃以上进行焙烧。关于焙烧，只要为可得到电子照相特性的温度、时间就没有特别限制。

湿式法例如为下述方法：一边利用搅拌、超声波、砂磨机、超微磨碎机、球磨机等将无机颗粒分散在溶剂中，一边添加电子接受性化合物，进行搅拌或分散后，除去溶剂，使电子接受性化合物附着于无机颗粒表面。溶剂除去方法例如为过滤或通过蒸馏进行蒸馏除去。除去溶剂后，可以进一步在100℃以上进行焙烧。关于焙烧，只要为可得到电子照相特性的温度、时间就没有特别限定。湿式法中，可以在添加电子接受性化合物之前除去无机颗粒含有的水分，作为其示例，可以举出在溶剂中进行搅拌加热并同时除去的方法、与溶剂共沸来除去的方法。

需要说明的是，电子接受性化合物的附着可以在对无机颗粒实施利用表面处理剂的表面处理之前或之后进行，也可以同时进行电子接受性化合物的附着和利用表面处理剂的表面处理。

电子接受性化合物的含量例如相对于无机颗粒可以为0.01质量％以上20质量％以下，优选为0.01质量％以上10质量％以下。

作为底涂层中使用的粘结性树脂，例如可以举出：乙缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅改性醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等公知的高分子化合物；锆螯合化合物；钛螯合化合物；铝螯合化合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；硅烷偶联剂等公知的材料。

作为底涂层中使用的粘结性树脂，还可以举出例如具有电荷传输性基的电荷传输性树脂、导电性树脂(例如聚苯胺等)等。

这些之中，作为用于底涂层的粘结性树脂，适宜为不溶于上层的涂布溶剂中的树脂，特别适合为脲树脂、酚树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂、氨基甲酸酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂、环氧树脂等热固化性树脂；通过选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚乙烯醇树脂和聚乙烯醇缩醛树脂组成的组中的至少一种树脂与固化剂的反应而得到的树脂。

将这些粘结性树脂2种以上组合使用的情况下，其混合比例根据需要进行设定。

在底涂层中，为了提高电学特性、提高环境稳定性、提高画质，可以包含各种添加剂。

作为添加剂，可以举出多环稠合系、偶氮系等电子传输性颜料、锆螯合化合物、钛螯合化合物、铝螯合化合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物、硅烷偶联剂等公知的材料。硅烷偶联剂如上所述被用于无机颗粒的表面处理，但也可以作为添加剂进一步添加至底涂层中。

作为添加剂的硅烷偶联剂例如可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、n-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、n,n-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷等。

作为锆螯合化合物，例如可以举出丁醇锆、乙酰乙酸乙酯锆、三乙醇胺锆、乙酰丙酮合丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸酯丁醇锆、硬脂酸酯丁醇锆、异硬脂酸酯丁醇锆等。

作为钛螯合化合物，例如可以举出钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、四(2-乙基己基)钛酸酯、乙酰丙酮化钛、聚乙酰丙酮化钛、辛二醇酸钛(titaniumoctyleneglycollate)、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸乙酯钛、三乙醇胺合钛、多羟基硬脂酸钛等。

作为铝螯合化合物，例如可以举出异丙酸铝、二异丙酸-单丁氧基铝、丁酸铝、二乙基乙酰乙酸-二异丙酸铝、三(乙基乙酰乙酸)铝等。

这些添加剂可以单独使用，或者也可以以2种以上的化合物的混合物或缩聚物的形式使用。

底涂层的维氏硬度可以为35以上。

关于底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)，为了抑制莫尔图像，可以将其调整至所使用的曝光用激光波长λ的1/(4n)(n为上层的折射率)到1/2。

为了调整表面粗糙度，可以在底涂层中添加树脂颗粒等。作为树脂颗粒，可以举出有机硅树脂颗粒、交联型聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒等。另外，为了调整表面粗糙度，可以对底涂层的表面进行研磨。作为研磨方法，可以举出抛光研磨、喷砂处理、湿式珩磨、磨削处理等。

底涂层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如可通过下述方法形成：形成将上述成分加入到溶剂中而成的底涂层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热。

作为用于制备底涂层形成用涂布液的溶剂，可以举出公知的有机溶剂，例如醇系溶剂、芳香族烃溶剂、卤代烃溶剂、酮系溶剂、酮醇系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂等。

作为这些溶剂，具体地说，例如可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等常见的有机溶剂。

作为制备底涂层形成用涂布液时的无机颗粒的分散方法，例如可以举出辊碾机、球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机、胶体磨、涂料摇摆器等公知的方法。

作为将底涂层形成用涂布液涂布在导电性基体上的方法，例如可以举出刮板涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、微珠涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。

底涂层的膜厚例如设定为优选15μm以上、更优选20μm以上50μm以下的范围内。

(中间层)

尽管省略了图示，但在底涂层与感光层之间可以进一步设置中间层。

中间层例如为包含树脂的层。作为用于中间层的树脂，例如可以举出乙缩醛树脂(例如聚乙烯醇缩丁醛等)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、有机硅树脂、有机硅改性醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、三聚氰胺树脂等高分子化合物。

中间层可以为包含有机金属化合物的层。作为用于中间层的有机金属化合物，可以举出含有锆、钛、铝、锰、硅等金属原子的有机金属化合物等。

这些用于中间层的化合物可以单独使用，或者可以以2种以上的化合物的混合物或者缩聚物的形式使用。

这些之中，中间层优选为包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。

中间层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如通过下述方法进行：形成将上述成分添加至溶剂中而成的中间层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热，由此形成该中间层。

作为形成中间层的涂布方法，使用浸渍涂布法、挤出涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法、幕帘式涂布法等通常的方法。

中间层的膜厚例如优选设定为0.1μm以上3μm以下的范围。需要说明的是，也可以将中间层作为底涂层使用。

(电荷产生层)

电荷产生层例如为包含电荷产生材料和粘结性树脂的层。另外，电荷产生层可以为电荷产生材料的蒸镀层。电荷产生材料的蒸镀层适合于使用led(lightemittingdiode，发光二极管)、有机el(electro-luminescence，电致发光)图像阵列等非干涉性光源的情况。

作为电荷产生材料，可以举出双偶氮、三偶氮等偶氮颜料；二溴蒽嵌蒽酮(dibromoantanthrone)等稠环芳香族颜料；苝颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；三方晶系硒等。

这些之中，为了应对近红外域的激光曝光，作为电荷产生材料，优选使用金属酞菁颜料或者无金属酞菁颜料。具体地说，例如更优选日本特开平5-263007号公报、日本特开平5-279591号公报等所公开的羟基镓酞菁；日本特开平5-98181号公报等所公开的氯代镓酞菁；日本特开平5-140472号公报、日本特开平5-140473号公报等所公开的二氯锡酞菁；日本特开平4-189873号公报等所公开的钛氧基酞菁。

另一方面，为了应对近紫外域的激光曝光，作为电荷产生材料，优选二溴蒽嵌蒽酮(dibromoantanthrone)等稠环芳香族颜料；硫靛蓝系颜料；四氮杂卟啉化合物；氧化锌；三方晶系硒；日本特开2004-78147号公报、日本特开2005-181992号公报所公开的双偶氮颜料等。

使用在450nm以上780nm以下具有发光的中心波长的led、有机el图像阵列等非干涉光源的情况下，也可以使用上述电荷产生材料，但从分辨率的方面出发，在以20μm以下的薄膜使用感光层时，感光层中的电场强度提高，容易产生因从基体注入电荷所致的带电降低、即产生被称为所谓黑点的图像缺陷。该情况在使用三方晶系硒、酞菁颜料等在p-型半导体中容易产生暗电流的电荷产生材料时变得显著。

与之相对，在使用稠环芳香族颜料、苝颜料、偶氮颜料等n-型半导体作为电荷产生材料的情况下，不容易产生暗电流，即使制成薄膜也可抑制被称为黑点的图像缺陷。作为n-型电荷产生材料，例如可以举出日本特开2012-155282号公报的[0288]～[0291]段所记载的化合物(cg-1)～(cg-27)，但并不限定于此。

需要说明的是，关于n-型的判定，使用通常使用的时间飞行法，通过流动的光电流的极性进行判定，将与空穴相比更容易使电子作为载流子流动的类型作为n-型。

作为电荷产生层中使用的粘结性树脂，可以从广泛的绝缘性树脂中选择，另外，作为粘结性树脂，可以从聚-n-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘、聚硅烷等有机光导电性聚合物中选择。

作为粘结性树脂，例如可以举出聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚类与芳香族2元羧酸的缩聚体等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酸类树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯基吡啶树脂、纤维素树脂、氨基甲酸酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂、聚乙烯吡咯烷酮树脂等。此处，“绝缘性”是指体积电阻率为10¹³ωcm以上。

这些粘结性树脂可以单独使用1种或将2种以上混合使用。

需要说明的是，电荷产生材料与粘结树脂的混配比以质量比计优选为10:1至1:10的范围内。

电荷产生层中可以包含其他公知的添加剂。

电荷产生层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如可如下进行：形成将上述成分添加至溶剂中而成的电荷产生层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热，由此形成电荷产生层。电荷产生层的形成也可以通过电荷产生材料的蒸镀来进行。电荷产生层基于蒸镀的形成特别适于利用稠环芳香族颜料、苝颜料作为电荷产生材料的情况。

作为用于制备电荷产生层形成用涂布液的溶剂，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯、甲苯等。这些溶剂可以单独使用1种或将2种以上混合使用。

作为使颗粒(例如电荷产生材料)分散在电荷产生层形成用涂布液中的方法，例如利用球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机、卧式砂磨机等介质分散机；搅拌、超声波分散机、辊碾机、高压均质器等无介质分散机。作为高压均质器，例如可以举出：在高压状态下使分散液进行液-液碰撞或液-壁碰撞来进行分散的碰撞方式；在高压状态下在微细的流路中贯通来进行分散的贯通方式等。

需要说明的是，在该分散时，电荷产生层形成用涂布液中的电荷产生材料的平均粒径为0.5μm以下、优选为0.3μm以下、进一步优选为0.15μm以下是有效的。

作为将电荷产生层形成用涂布液涂布至底涂层上(或中间层上)的方法，例如可以举出刮板涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、微珠涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。

电荷产生层的膜厚例如被设定在优选为0.1μm以上5.0μm以下、更优选为0.2μm以上2.0μm以下的范围内。

(电荷传输层)

电荷传输层例如为包含电荷传输材料和粘结性树脂的层。电荷传输层也可以为包含高分子电荷传输材料的层。

作为电荷传输材料，可以举出对苯醌、氯醌、溴醌、蒽醌等醌系化合物；四氰基醌二甲烷系化合物；2,4,7-三硝基芴酮等芴酮化合物；氧杂蒽酮系化合物；二苯甲酮系化合物；氰基乙烯基系化合物；乙烯系化合物等电子传输性化合物。作为电荷传输材料，还可以举出三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、芳基烷烃系化合物、芳基取代乙烯系化合物、均二苯代乙烯系化合物、蒽系化合物、腙系化合物等空穴传输性化合物。这些电荷传输材料可以单独使用1种或以2种以上使用，但并不限于这些。

作为电荷传输材料，从电荷迁移率的方面出发，优选下述结构式(a-1)所表示的三芳基胺衍生物以及下述结构式(a-2)所表示的联苯胺衍生物。

[化4]

结构式(a-1)中，ar^t1、ar^t2和ar^t3各自独立地表示取代或无取代的芳基、-c6h4-c(r^t4)＝c(r^t5)(r^t6)、或者-c6h4-ch＝ch-ch＝c(r^t7)(r^t8)。r^t4、r^t5、r^t6、r^t7和r^t8各自独立地表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。

作为上述各基团的取代基，可以举出卤原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基。另外，作为上述各基团的取代基，还可以举出被碳原子数1～3的烷基所取代的取代氨基。

[化5]

结构式(a-2)中，r^t91和r^t92各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1～5的烷基或者碳原子数1～5的烷氧基。r^t101、r^t102、r^t111和r^t112各自独立地表示卤原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基、被碳原子数1以上2以下的烷基取代的氨基、取代或无取代的芳基、-c(r^t12)＝c(r^t13)(r^t14)、或者-ch＝ch-ch＝c(r^t15)(r^t16)，r^t12、r^t13、r^t14、r^t15和r^t16各自独立地表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。tm1、tm2、tn1和tn2各自独立地表示0以上2以下的整数。

作为上述各基团的取代基，可以举出卤原子、碳原子数1～5的烷基、碳原子数1～5的烷氧基。另外，作为上述各基团的取代基，还可以举出被碳原子数1～3的烷基所取代的取代氨基。

此处，结构式(a-1)所表示的三芳基胺衍生物以及上述结构式(a-2)所表示的联苯胺衍生物中，特别是从电荷迁移率的方面出发，优选具有“-c6h4-ch＝ch-ch＝c(r^t7)(r^t8)”的三芳基胺衍生物以及具有“-ch＝ch-ch＝c(r^t15)(r^t16)”的联苯胺衍生物。

作为高分子电荷传输材料，使用聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等具有电荷传输性的公知材料。特别是日本特开平8-176293号公报、日本特开平8-208820号公报等中所公开的聚酯系高分子电荷传输材是特别优选的。需要说明的是，高分子电荷传输材料可以单独使用，也可以与粘结性树脂合用。

用于电荷传输层的粘结性树脂可以举出聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酸类树脂、丙烯酸类树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、有机硅树脂、有机硅改性醇酸树脂、苯酚-甲醛树脂、苯乙烯改性醇酸树脂、聚-n-乙烯基咔唑、聚硅烷等。这些之中，作为粘结性树脂，聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂是优选的。这些粘结性树脂单独使用1种或以2种以上使用。

需要说明的是，电荷传输材料与粘结性树脂的混配比以质量比计优选为10:1至1:5。

电荷传输层中可以包含其他公知的添加剂。

电荷传输层的形成没有特别限制，可利用公知的形成方法，例如可如下进行：形成将上述成分添加至溶剂中而成的电荷传输层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热，由此形成电荷传输层。

作为用于制备电荷传输层形成用涂布液的溶剂，可以举出苯、甲苯、二甲苯、氯苯等芳香族烃类；丙酮、2-丁酮等酮类；二氯甲烷、氯仿、氯乙烯等卤代脂肪族烃类；四氢呋喃、乙醚等环状或直链状的醚类等通常的有机溶剂。这些溶剂可以单独使用或将2种以上混合使用。

作为将电荷传输层形成用涂布液涂布在电荷产生层上时的涂布方法，可以举出刮板涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、浸渍涂布法、微珠涂布法、气刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。

电荷传输层的膜厚例如被设定在优选为5μm以上50μm以下、更优选为10μm以上30μm以下的范围内。

(保护层)

保护层根据需要设置在感光层上。保护层例如是出于防止充电时的感光层的化学变化或进一步改善感光层的机械强度的目的而设置的。

因此，保护层可以应用由固化膜(交联膜)构成的层。作为这些层，例如可以举出下述1)或2)所示的层。

1)由下述组合物的固化膜所构成的层，该组合物包含在同一分子内具有反应性基团和电荷传输性骨架的含反应性基团电荷传输材料(即，包含该含反应性基团电荷传输材料的聚合物或交联体之层)

2)由下述组合物的固化膜所构成的层，该组合物包含非反应性电荷传输材料和不具有电荷传输性骨架但具有反应性基团的含反应性基团非电荷传输材料(即，包含非反应性电荷传输材料和该含反应性基团非电荷传输材料的聚合物或交联体之层)

作为含反应性基团电荷传输材料的反应性基团，可以举出链聚合性基团、环氧基、-oh、-or[其中r表示烷基]、-nh2、-sh、-cooh、-sir^q13-qn(or^q2)qn[其中，r^q1表示氢原子、烷基、或者取代或无取代的芳基，r^q2表示氢原子、烷基、三烷基甲硅烷基。qn表示1～3的整数]等公知的反应性基团。

作为链聚合性基团，只要是可进行自由基聚合的官能团就没有特别限定，例如为具有至少含有碳双键的基团的官能团。具体而言，可以举出含有选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基以及它们的衍生物中的至少一种的基团等。其中，出于其反应性优异的原因，作为链聚合性基团，优选为含有选自乙烯基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰基、甲基丙烯酰基以及它们的衍生物中的至少一种的基团。

作为含反应性基团电荷传输材料的电荷传输性骨架，只要是电子照相感光体中的公知的结构就没有特别限定，例如可以举出骨架来自三芳基胺系化合物、联苯胺系化合物、腙系化合物等含氮的空穴传输性化合物、且与氮原子共轭的结构。这些之中，优选三芳基胺骨架。

这些具有反应性基团和电荷传输性骨架的含反应性基团电荷传输材料、非反应性电荷传输材料、含反应性基团非电荷传输材料从公知的材料中选择即可。

保护层中可以包含其他公知的添加剂。

保护层的形成没有特别限制，可以利用公知的形成方法，例如可如下进行：形成将上述成分添加至溶剂中而成的保护层形成用涂布液的涂膜，将该涂膜干燥，根据需要进行加热等固化处理，由此形成保护层。

作为用于制备保护层形成用涂布液的溶剂，可以举出甲苯、二甲苯等芳香族系溶剂；甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；四氢呋喃、二氧六环等醚系溶剂；乙二醇单甲基醚等溶纤剂系溶剂；异丙醇、丁醇等醇系溶剂等。这些溶剂可以单独使用或将2种以上混合使用。

需要说明的是，保护层形成用涂布液也可以为无溶剂的涂布液。

作为将保护层形成用涂布液涂布在感光层(例如电荷传输层)上的方法，可以举出浸渍涂布法、挤出涂布法、绕线棒涂布法、喷涂法、刮板涂布法、刮刀涂布法、幕式涂布法等通常的方法。

保护层的膜厚例如被设定在优选为1μm以上20μm以下、更优选为2μm以上10μm以下的范围内。

(单层型感光层)

单层型感光层(电荷产生/电荷传输层)例如为包含电荷产生材料和电荷传输材料以及必要时的粘结性树脂和其他公知的添加剂的层。需要说明的是，这些材料与电荷产生层和电荷传输层中说明的材料是同样的。

并且，单层型感光层中，电荷产生材料的含量相对于总固体成分以0.1质量％以上10质量％以下为宜，优选为0.8质量％以上5质量％以下。另外，单层型感光层中，电荷传输材料的含量相对于总固体成分可以为5质量％以上50质量％以下。

单层型感光层的形成方法与电荷产生层、电荷传输层的形成方法是同样的。

单层型感光层的膜厚例如以5μm以上50μm以下为宜，优选为10μm以上40μm以下。

<图像形成装置(和处理盒)>

本实施方式的图像形成装置具备：电子照相感光体；对电子照相感光体的表面进行充电的充电机构；在经充电的电子照相感光体的表面形成静电潜像的静电潜像形成机构；利用包含色调剂的显影剂对于在电子照相感光体表面形成的静电潜像进行显影而形成色调剂图像的显影机构；以及将色调剂图像转印至记录介质表面的转印机构。并且，作为电子照相感光体，应用上述本实施方式的电子照相感光体。

本实施方式的图像形成装置可应用下述公知的图像形成装置：具备对转印到记录介质表面的色调剂图像进行定影的定影机构的装置；将形成在电子照相感光体表面的色调剂图像直接转印至记录介质上的直接转印方式的装置；将形成在电子照相感光体表面的色调剂图像一次转印至中间转印体的表面、再将转印到中间转印体表面的色调剂图像二次转印到记录介质表面的中间转印方式的装置；具备在色调剂图像转印后对充电前的电子照相感光体的表面进行清洁的清洁机构的装置；具备在色调剂图像转印后在充电前对电子照相感光体表面照射除电光来进行除电的除电机构的装置；具备用于提高电子照相感光体的温度、降低相对温度的电子照相感光体加热部件的装置；等等。

在中间转印方式的装置的情况下，转印机构例如应用具有在表面转印色调剂图像的中间转印体、将形成在电子照相感光体表面的色调剂图像一次转印至中间转印体表面的一次转印机构、以及将转印至中间转印体表面的色调剂图像二次转印至记录介质表面的二次转印机构的构成。

本实施方式的图像形成装置可以为干式显影方式的图像形成装置、湿式显影方式(利用液体显影剂的显影方式)的图像形成装置中的任一种。

需要说明的是，本实施方式的图像形成装置中，例如具备电子照相感光体的部分可以为相对于图像形成装置可进行装卸的盒结构(处理盒)。作为处理盒，例如适于使用具备本实施方式的电子照相感光体的处理盒。需要说明的是，在处理盒中，除了电子照相感光体以外，还可以具备例如选自由充电机构、静电潜像形成机构、显影机构、转印机构组成的组中的至少一者。

下面示出本实施方式的图像形成装置的一例，但并不限于此。需要说明的是，对图中示出的主要部分进行说明，对于其他部分，省略其说明。

图2是示出本实施方式的图像形成装置的一例的示意性构成图。

如图2所示，本实施方式的图像形成装置100具备：具备电子照相感光体7的处理盒300；曝光装置9(静电潜像形成机构的一例)；转印装置40(一次转印装置)；以及中间转印体50。需要说明的是，图像形成装置100中，曝光装置9配置在可由处理盒300的开口部对电子照相感光体7进行曝光的位置，转印装置40配置在隔着中间转印体50与电子照相感光体7对置的位置，中间转印体50按照其一部分与电子照相感光体7接触来进行配置。尽管未图示，但还具有将转印至中间转印体50的色调剂图像转印至记录介质(例如纸张)的二次转印装置。需要说明的是，中间转印体50、转印装置40(一次转印装置)以及二次转印装置(未图示)相当于转印机构的一例。

图2中的处理盒300在外壳内一体地支撑电子照相感光体7、充电装置8(充电机构的一例)、显影装置11(显影机构的一例)以及清洁装置13(清洁机构的一例)。清洁装置13具有清洁刮板(清洁部件的一例)131，清洁刮板131按照与电子照相感光体7的表面接触的方式进行配置。需要说明的是，清洁部件也可以不是清洁刮板131的方式而是导电性或绝缘性的纤维状部件，其可以单独或与清洁刮板131合用。

需要说明的是，图2中，作为图像形成装置，示出了具备将润滑材料14供给至电子照相感光体7的表面的纤维状部件132(卷状)以及辅助清洁的纤维状部件133(平刷状)的示例，但这些部件是根据需要进行配置的。

下面对本实施方式的图像形成装置的各构成进行说明。

-充电装置-

作为充电装置8，例如使用接触型充电器，该接触型充电器利用了导电性或半导电性的充电辊、充电刷、充电膜、充电橡胶刮板、充电管等。另外，还可使用非接触方式的辊充电器、利用了电晕放电的栅控式电晕管充电器(scorotron)或电晕充电器(corotron)等其本身公知的充电器等。

-曝光装置-

作为曝光装置9，例如可以举出利用半导体激光、led光、液晶光闸光等光按照确定的图像对电子照相感光体7表面进行曝光的光学设备等。光源的波长被设为电子照相感光体的分光灵敏度区域内。作为半导体激光的波长，在780nm附近具有振荡波长的近红外为主流。但是，并不限于该波长，也可以利用大致为600nm的振荡波长激光或者作为蓝色激光的在400nm以上450nm以下具有振荡波长的激光。另外，为了形成彩色图像，可输出多光束类型的面发光型激光源也是有效的。

-显影装置-

作为显影装置11，例如可以举出接触或不接触显影剂来进行显影的通常的显影装置。作为显影装置11，只要具有上述功能就没有特别限制，可根据目的进行选择。例如可以举出具有使用刷、辊等使单组分系显影剂或双组分系显影剂附着于电子照相感光体7的功能的公知显影器等。其中优选使用在表面保持有显影剂的显影辊。

显影装置11中使用的显影剂可以是只有色调剂的单组分系显影剂，也可以是包含色调剂和载体的双组分系显影剂。另外，显影剂可以为磁性，也可以为非磁性。这些显影剂可应用公知的显影剂。

-清洁装置-

清洁装置13使用具备清洁刮板131的清洁刮板方式的装置。

需要说明的是，除了清洁刮板方式以外，还可以采用毛刷清洁方式、显影同时清洁方式。

-转印装置-

作为转印装置40，例如可以举出使用带、辊、膜、橡胶刮板等的接触型转印充电器、利用电晕放电的栅控式电晕管转印充电器或电晕转印充电器等其本身公知的转印充电器。

-中间转印体-

作为中间转印体50，使用赋予了半导电性的包含聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺、聚碳酸酯、聚芳酯、聚酯、橡胶等的带状转印体(中间转印带)。另外，作为中间转印体的形态，除了带状以外，还可以使用鼓状转印体。

图3为示出本实施方式的图像形成装置的另一例的示意性构成图。

图3所示的图像形成装置120为搭载有4个处理盒300的串联方式的多色图像形成装置。图像形成装置120中，4个处理盒300各自并列地配置在中间转印体50上，成为每1色使用1个电子照相感光体的构成。需要说明的是，图像形成装置120除了为串联方式以外，具有与图像形成装置100同样的构成。

实施例

下面对本发明的实施例进行说明，但本发明并不限于以下实施例。需要说明的是，只要不特别声明，“份”或“％”为质量基准。

<含氟树脂颗粒的制造>

-含氟树脂颗粒(1)的制造-

如下所述，制造含氟树脂颗粒(1)。

将市售的均聚四氟乙烯细粉(依据astmd4895(2004)测定的标准比重2.175)100质量份、作为添加剂的乙醇2.4质量份取至阻隔尼龙制造的袋中，对袋整体进行氮气置换。然后在室温下照射150kgy的钴-60γ射线，得到低分子量聚四氟乙烯粉末。将所得到的粉末粉碎，得到含氟树脂颗粒(1)。

-含氟树脂颗粒(2)的制造-

取含氟树脂颗粒(1)100质量份和甲醇400质量份，一边照射超声波一边用搅拌机250rpm清洗20分钟，将上清过滤。该操作重复3次后，将过滤物在减压下在60度干燥17小时，制造含氟树脂颗粒(2)。

-含氟树脂颗粒(3)的制造-

在含氟树脂颗粒(1)的制造中，按照氧浓度达到8％的方式对袋整体进行氮气置换，除此以外，与含氟树脂颗粒(1)的制造同样地制造出含氟树脂颗粒(3)。

-含氟树脂颗粒(4)的制造-

在含氟树脂颗粒(2)的制造中，使用含氟树脂颗粒(3)来代替含氟树脂颗粒(1)，除此以外，与含氟树脂颗粒(2)的制造同样地制造含氟树脂颗粒(4)。

-含氟树脂颗粒(5)的制造-

向高压釜中投入去离子水3升和全氟辛酸铵3.0g、进一步投入作为乳化稳定剂的固体石蜡(日本石油株式会社制)110g，将体系内用氮气置换3次、用tfe(四氟乙烯)置换2次，除去氧后，利用tfe使内压为1.0mpa，一边在250rpm搅拌，一边将内温保持在70℃。接着，向体系内投入作为链转移剂的常压下150cc分的乙烷和作为聚合引发剂的溶解有300mg过硫酸铵的20ml水溶液，引发反应。在反应中，按照将体系内的温度保持在70℃、将高压釜的内压始终保持在1.0±0.05mpa的方式连续地供给tfe。添加引发剂后，在经反应消耗的tfe达到1000g的时刻，停止tfe的供给和搅拌，结束反应。然后通过离心分离将颗粒分离，进一步取甲醇400质量份，一边进行超声波照射，一边用搅拌机250rpm清洗10分钟，将上清过滤。将该操作重复3次后，将过滤物在减压下在60度干燥17小时。

经过以上步骤，制造出含氟树脂颗粒(5)。

-含氟树脂颗粒(6)的制造-

在含氟树脂颗粒(5)的制造中，在反应结束后添加三乙胺4.5g，除此以外与含氟树脂颗粒(5)的制造同样地制造含氟树脂颗粒(6)。

-含氟树脂颗粒(c1)的制造-

在含氟树脂颗粒(1)的制造中，在空气中进行放射线照射，除此以外与含氟树脂颗粒(1)的制造同样地制造出含氟树脂颗粒(c1)。

-含氟树脂颗粒(c2)的制造-

在含氟树脂颗粒(2)的制造中，使用含氟树脂颗粒(c1)来代替含氟树脂颗粒(1)，除此以外与含氟树脂颗粒(2)的制造同样地制造含氟树脂颗粒(c2)。

-含氟树脂颗粒(c3)的制造-

在含氟树脂颗粒(6)的制造中，使清洗操作为一次，除此以外与含氟树脂颗粒(6)的制造同样地制造含氟树脂颗粒(c3)。

<实施例1>

-感光体的制作-

使用所得到的含氟树脂颗粒，如下制作感光体。

将氧化锌(平均粒径70nm：tayca公司制造：比表面积值15m²/g)100份与四氢呋喃500份搅拌混合，添加硅烷偶联剂(kbe503：信越化学工业公司制造)1.4份，搅拌2小时。然后经减压蒸馏将甲苯蒸馏除去，在120℃进行3小时焙烧，得到硅烷偶联剂表面处理氧化锌。

将实施了上述表面处理的氧化锌110份与500份的四氢呋喃搅拌混合，添加将茜素0.6份溶解在50份四氢呋喃中而得到的溶液，在50℃搅拌5小时。然后通过减压过滤滤出被赋予了茜素的氧化锌，进一步在60℃进行减压干燥，得到附有茜素的氧化锌。

将该附有茜素的氧化锌60份、固化剂(封端异氰酸酯sumidur3175、sumitomobayerurethaneco.,ltd.制)13.5份、丁缩醛树脂(s-lecbm-1、积水化学工业公司制造)15份以及甲基乙基酮85份混合，得到混合液。将该混合液38份与甲基乙基酮25份混合，使用的玻璃珠利用砂磨机进行2小时的分散，得到分散液。

在所得到的分散液中添加作为催化剂的二月桂酸二辛基锡0.005份、有机硅树脂颗粒(tospearl145、momentiveperformancematerialsjapan合同会社)30份，得到底涂层用涂布液。将该涂布液利用浸渍涂布法涂布在圆筒状铝基材上，进行170℃、30分钟的干燥固化，得到厚度24μm的底涂层。

接着，将羟基镓酞菁(该羟基镓酞菁在x射线衍射光谱中在布剌格角(2θ±0.2°)为7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°、28.3°的位置具有强衍射峰)1份与聚乙烯醇缩丁醛(s-lecbm-5、积水化学工业公司制造)1份和乙酸正丁酯80份混合，将其与玻璃珠一起利用涂料摇摆器进行1小时分散处理，由此制备出电荷产生层用涂布液。将所得到的涂布液浸渍涂布在形成了底涂层的导电性支撑体上，在130℃加热干燥10分钟，形成膜厚0.15μm的电荷产生层。

将作为电荷传输材料的下述式(ctm1)所表示的联苯胺化合物45份、作为粘结性树脂的具有下述式(pcz1)所表示的重复单元的高分子化合物(粘均分子量：40,000)55份、作为酸性化合物的十二烷基苯磺酸0.0111份(100ppm)(下文中，酸性化合物按照表1所示的量(相对于最外表面层的固体成分的量(ppm))进行混配)溶解在甲苯350份、四氢呋喃150份中，加入含氟树脂颗粒(1)9.8份和含氟分散剂gf400(东亚合成公司制造)1份，利用高压均质器进行5次处理，制备电荷产生层用涂布液。

将所得到的涂布液利用浸渍涂布法涂布在上述电荷产生层上，在130℃进行45分钟的加热，形成膜厚31μm的电荷传输层。

[化11]

[化12]

经过以上步骤制作各感光体。

<实施例2～22、比较例1～3>

变更酸性化合物的种类和量以及含氟树脂颗粒的种类，除此以外与实施例1同样地制作感光体。

<评价>

(各种测定)

对于含氟树脂颗粒，按照上述方法进行下述特性的测定。

·羧基(表中记为“cooh”)相对于“每10⁶个碳原子数的个数(个)”

·碱性化合物量(ppm)

(实机评价)

-评价用图像形成装置-

将所得到的感光体电子照相感光体安装于富士施乐公司制造的docucentre-vc7775中。另外，使用表面电位计(trek公司制造、trek334)，在测定对象的区域将表面电位探针设于距感光体的表面1mm的位置。

将该装置作为评价用图像形成装置。

-充电性维持的评价-

对于所得到的感光体的充电性如下进行评价。

利用评价用图像形成装置将充电后的表面电位设定于-700v，然后在高温高湿环境下(温度28℃、湿度85％rh的环境下)以a4纸输出70,000张图像浓度30％的整面中间色调图像。之后利用表面电位计对表面电位进行测定，按下述评价基准进行评价。

5：表面电位为-700v以上且小于-690v

4：表面电位为-690v以上且小于-675v

3：面电位为-675v以上且小于-660v(实用上没有问题的水平)

2：表面电位为-660v以上且小于-640v

1：表面电位为-640v以上

―残余电位的评价―

对于所得到的感光体的残余电位如下进行评价。

利用评价用图像形成装置将充电后的表面电位设定于-700v，然后在高温高湿环境下(温度28℃、湿度85％rh的环境下)以a4纸输出70,000张图像浓度30％的整面中间色调图像。

之后利用表面电位计在输出100张后对于除电后的感光体的初期残余电位进行测定，在输出70,000张后对于除电后的感光体的经时残余电位进行测定，求出其差值(绝对值)，按下述基准进行评价。

5：残余电位的差值小于5v

4：残余电位的差值为5v以上且小于10v

3：残余电位的差值为10v以上且小于20v(实用上没有问题的水平)

2：残余电位的差值为20v以上且小于50v

1：残余电位的差值为50v以上

-环境变动的评价-

对于所得到的感光体的环境变动如下进行评价。

在上述残余电位的评价后，在低温低湿环境下(温度15℃、湿度10％rh的环境下)将表面电位设定于-700v后，测定输出100张之后的初期残余电位，求出其与高温高湿环境下的差值(绝对值)，按下述基准进行评价。

4：残余电位的差值小于10v

3：残余电位的差值为10v以上且小于20v(实用上没有问题的水平)

2：残余电位的差值为20v以上且小于50v

1：残余电位的差值为50v以上

下面将实施例以及比较例的详细内容一览示于表1～表2中。

需要说明的是，表1～表2中，简称的详情如下。

nh3：氨(沸点＝室温25℃以下)

tea：三乙胺(沸点89度)

dbs：十二烷基苯磺酸

[表1]

[表2]

由上述结果可知，本实施例中，与比较例相比，感光体的残余电位的评价良好。

另外可知，本实施例中，充电性、环境变动、带电维持性的评价也良好。