一种光学成像膜、制作方法及搭载其的电子设备盖板与流程

1.本技术涉及薄膜技术领域，具体的涉及一种位于曲面能正常显示图像的光学成像膜、制作方法及搭载其的电子设备盖板。


背景技术：

2.随着成像膜技术的发展，立体成像膜被广泛的应用。目前究其应用场合而言，目前其大都用于平面场合。用于曲面场合时，成像膜通过不干胶等粘剂贴合在曲面物体的表面，这时成像膜成像图案会局部扭曲变形的形象，导致成像图案的整体显示效果差，影响美观。目前尚未有专门为贴合面为曲面制作的立体成像膜。
3.因此，业内亟需一种新的位于曲面能清晰显示图像的成像膜。


技术实现要素：

4.为了解决上述的缺陷，本技术的目的在于：提供一种新的成像膜，其用于曲面时正常显示图像且不发生畸变的成像膜。
5.为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案,
6.一种光学成像膜，其特征在于，包括：依次层叠的聚焦层、基底层及图文层，
7.所述聚焦层，具有复数周期排布或随机排布的微透镜；
8.所述图文层，配置有复数周期排布或随机排布的子图文；所述微透镜与所述子图文一一匹配对应，
9.平面状态下所述微透镜坐标与匹配的子图文坐标的比例因子与预设的比例因子满足：s/s’＝(r+d)/r，
10.其中，r为曲面的曲率半径，d为基底层的厚度，
11.使得所述光学成像膜在曲面上呈现上浮和/或下沉的放大影像且影像不畸变。拓展了成像膜的应用场合。
12.在一实施方式中，该光学成像膜还包括保护层，其层叠于所述聚焦层的远离所述图文层侧。
13.在一实施方式中，该光学成像膜还包括中间层，其一侧覆盖所述图文层，另一侧用以连接曲面物体。
14.在一实施方式中，该光学成像膜通过不干胶、双面胶、热熔胶或静电吸附贴附于曲面。
15.在一实施方式中，该光学成像膜位于2个相同曲率的曲面之间，且被夹住贴附于曲面上。
16.在一实施方式中，该复数所述微透镜呈蜂窝分布的微透镜阵列。
17.本技术实施例提供一种光学成像膜的制作方法，该所述方法包括：
18.依据贴附曲面的曲率模型算出曲面状态下局部聚焦层和/或图文层的比例因子，
19.基于算出的比例因子对处于平面状态时的微透镜的周期和/或图文周期的进行预
补偿，使得光学成像膜贴附于曲面场合后微透镜周期与图文周期的比为预设的比例因子。
20.在一实施方式中，该方法还包括估算待贴附曲面的曲率。
21.在一实施方式中，平面状态下光学成像膜的微透镜坐标与匹配的子图文坐标的比例因子与曲面状态下预设的比例因子满足：s/s’＝(r+d)/r，
22.其中，r为曲面的曲率半径，d为基底层的厚度。
23.本技术实施例提供一种电子设备盖板，其包括上述的光学成像膜。
24.有益效果
25.本技术提出的成像膜贴附于曲面场合后，局部的微透镜周期发生某种程度的拉伸，因而微透镜周期tr与图文周期为tb的比例因子的比值为预设的比例因子，所成的影像不畸变，提高成像质量，拓展成像膜的应用场合。
附图说明
26.为了更清楚地说明本说明书实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本说明书中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图：
27.图1为本技术实施例的成像膜处于平面状态时的结构示意图；
28.图2为本技术实施例的成像膜处于曲面状态时的结构示意图；
29.图3-图5为本技术实施例的成像膜贴附于曲面场合时的示意图；
30.图6为本技术实施例的成像膜在曲面时所成像的示意图。
具体实施方式
31.为了使本技术领域的人员更好地理解本技术提出的技术方案，下面将结合本说明书实施例中的附图，对本说明书实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本说明书中的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本说明书中的一个或复数实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。
32.本技术提出一种成像膜，该成像膜包括：依次层叠的聚焦层、基底层及图文层，该聚焦层，具有复数周期排布或随机排布的微透镜；该图文层，配置有复数周期排布或随机排布的子图文；微透镜与子图文一一匹配对应。一种实施例中，子图文为预设图文，形成预设图文的放大影像；另一种实施例中，子图文为预设图文的部分图案，仍能形成预设图文的放大影像。
33.平面状态下微透镜坐标与子图文坐标的比例因子与预设的比例因子的比满足：
34.s/s’＝(r+d)/r，其中，r为曲率半径，d为基底层的厚度，这样使得光学成像膜在曲面状态(也称弯曲状态)下的微透镜坐标与子图文坐标的比为预设的比例因子，进而使得光学成像膜在曲面场合时上呈现正常影像。进而拓展了成像膜的应用场合。该基底层可以为基材，包括pet、玻璃、pc、pmma、pi、cpi等等，也可以为无基材，则基底层为除去聚焦结构和图文结构后的残胶层。
35.下面结合图1及图2来描述常规成像膜用于曲面时发生畸变的机理，成像膜包括
100：依次层叠的聚焦层102、基底层101及图文层103，图文层，其配置有复数周期排布的子图文，聚焦层与图文层相匹配；
36.在平面状态下，该微透镜周期为tr、图文周期为tb、基底层的厚度为d，微透镜周期为tr与图文周期为tb的比例因子s＝tb/tr，弯曲状态下(曲率为r)，微透镜周期发生某种程度的拉伸(微透镜周期变为tr’)，而图文周期不变，比例因子发生变化，导致局部图案会发生扭曲变形。在其他实施方式中，若平面状态下，微透镜采用随机分布，则比例因子s＝db/dr，采用坐标位置的形式配置。
37.为此申请人对该成像膜进行改进，提出一种新的成像膜，该成像膜包括：聚焦层、基底层及图文层，该聚焦层，其具有复数周期排布或随机排布的微透镜，图文层，其配置有复数周期排布或随机排布的子图文。本实施方式通过调整成像膜在平面状态下微透镜周期或微透镜周期及图文周期，使得成像膜在曲面场合下聚焦层的微透镜的周期发生某种程度的拉伸，拉伸后的微透镜周期tr’与图文周期为tb的比例因子为预设的比例因子，这样成像膜实现在曲面场合下呈现出正常影像，且影像不畸变，提高了成像质量。这样拓展了成像膜的应用场合。本实施方式中，假定成像膜在预设的曲率范围内弯曲时基底的厚度不发生变化，图文周期(tb)不发生变化，这时只是微透镜周期发生变化，周期由tr变化至tr’，而微透镜周期tr的变化与曲率半径r(曲面场合时的曲率)，基底层的膜厚d有关，曲率半径r越大，平面越趋向平整，tr发生变化，越小。基底层d越厚，在曲率半径不变时，微透镜周期tr越大，据此，在复杂曲面时，若曲面函数z＝f(x,y)，依据曲率半径计算公式：
[0038][0039]
据此在二维平面某点的处的曲率半径r＝
[0040]
这样对已知曲率的物体，依据曲率模型预先调整微透镜的周期，这样制成的成像膜贴附于曲面场合后(如图3所述)，成像膜100贴附于曲面物体200上的示意图。在一实施方式中，该成像膜还包括层104，其配置于聚焦层102的远离曲面物体200侧。聚焦层102配置于基底层101上。局部的微透镜周期某种发生程度的拉伸进而微透镜周期tr’与图文周期为tb的比例因子的比值为预设的比例因子，所成的影像不畸变，提高成像质量。本实施方式中，子图文可以设置为预设图案，比如e，形成预设图案的放大影像，比如放大的e(参见图6)；图文也可设置为预设图案的部分图案，比如为e的一部分，仍然能形成预设图案的放大影像。
[0041]
作为上述实施方式的变形，若成像膜用于复杂的曲面，复杂曲面的曲率已知，这样依据曲率模型(曲率半径计算公式)，对局部的放大系数作处理算出局部的放大倍数，进而对局部参数进行弥补，使得该成像膜用于复杂的曲面场合后所成的影像不发生畸变。
[0042]
下面以膜厚为70um，形成放大倍率150x的悬浮图像为例子处于平面的实施方式，其处于平面是的图像显示如图3所示，经过对微透镜的周期的预调整，贴合在曲率半径为35mm的曲面上的效果如图6所示。通过图6可看出通过对在平面状态下聚焦层的微透镜周期预调整后，该光学成像膜用于曲面场合下能呈现正常的影像e。
[0043]
该实施方式下，r＝35mm，d＝70μm假设平面正常显示时的s＝1.0066，则，根据公式，s’＝1.0066*35000/(35000+70)，则，制作时采用的是s’，制作完成后，在曲面上时，因为曲面的因素1.0066*[35000/(35000+70)]*[(35000+70)/35000]最后以1.0066正常显示。
[0044]
上述实施方式是通过预补偿在平面状态下微透镜周期。在其他的实施方式中，可通过预补偿在平面状态下微透镜周期和图文周期使得其处于预设的曲面下时，微透镜周期为tr’与图文周期为tb为预设的比例因子。在平面状态下，该微透镜周期为tr、图文周期为tb。
[0045]
在一实施方式中，该成像膜包括图文层、基底层及聚焦层，通过预补偿在平面状态下，图文层的图文周期，使得成像膜处于预设的曲面下时，微透镜周期为tr’与图文周期为tb为预设的比例因子。
[0046]
本技术实施例提供一种用于曲面的成像膜的制作方法，在制作方式包括：
[0047]
依据贴附曲面的曲率模型算出微透镜的局部的放大系数，基于算出微透镜的局部的放大系数对处于平面状态时的微透镜的周期的进行弥补(如对预先微透镜间的空白压缩)使得膜贴附于曲面场合后微透镜周期tr’与图文周期为tb的比例因子为预设的比例因子。较佳的，依据已知的基底层厚度d以及曲面场合的为曲率半径r，即正常状态下(曲面下的比例因子)，推算平面状态下的系数，满足s/s’＝(r+d)/r(推算过程可参考图6实施方式的描述)。这样使得光学成像膜在曲面状态下微透镜坐标与子图文坐标的比为预设的比例因子，进而使得光学成像膜在曲面场合时上呈现上浮和/或下沉的放大影像且影像不畸变。
[0048]
上述的成像膜的基底层可以为基材，包括pet、玻璃、pc、pmma、pi、cpi等等，也可以为无基材，则基底层为除去聚焦结构和图文结构后的残胶层。
[0049]
在一实施方式中，成像膜还包括中间层，其一侧覆盖所述图文层，另一侧用以连接曲面物体。较佳的，成像膜通过不干胶、双面胶、热熔胶等方式直接粘接或通过静电吸附(如图5所示)的方式粘接或采用2个相同曲率的曲面夹该成像膜的方式，使得成像膜贴附于曲面上。在一实施方式中，成像膜的聚焦层侧贴附于曲面。
[0050]
在一实施方式中，成像膜还包括保护层104(如图4所示)，其层叠于聚焦层上。
[0051]
在一实施方式中，成像膜还包括反射层，其配置于聚焦层的远离图文层侧。在一实施方式中，该光学成像膜还包括：油墨层，其配置于反射层的远离聚焦层侧。
[0052]
在一实施方式中，该复数周期排布或随机排布的微透镜为微透镜阵列或菲涅尔透镜。处于曲面状态下各聚焦结构为半球形的凸起，其直径介于20μm～1000μm。
[0053]
在一实施方式中，该微透镜呈蜂窝分布的微透镜阵列。
[0054]
在一实施方式中，该光学成像膜还包括：保护层，其设置于图文层的外侧。
[0055]
本技术实施例，提供一种电子设备盖板，其搭载上述的成像膜。其他实施例中，光学成像膜可设置比如产品表面或外包装等，也可应用于防伪领域。
[0056]
上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人是能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。凡如本技术精神实质所做的等效变换或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。