一种镭射修补装置的制作方法

1.本实用新型涉及激光修复领域，尤其涉及一种镭射修补装置。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，液晶显示器等平面显示装置因具有体积薄、重量轻、画面质量优异、功耗低、寿命长、数字化和无辐射等优点，已经广泛应用于电脑、电视、手机等电子产品上。
3.显示面板比如液晶显示面板主要包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，通过在夹设在彩膜基板和阵列基板之间的液晶分子层施加电场，从而控制液晶分子层中液晶分子的排列状况，以使显示面板显示图像。在显示面板比如彩膜基板或者掩膜版的制作过程中，会由于工艺和环境的因素产生损伤，产生不良产品。为了提高彩膜基板或者掩膜版的良率，减少生产报废，一般会对彩膜基板或者掩膜版制造过程中产生的不良和缺陷(比如黑缺陷或者白缺陷等)进行修正。目前，针对彩膜基板或者掩膜版的修正方法主要包括研磨修正、激光修正和油墨修正。其中，研磨修正和激光修正均可针对彩膜基板或者掩膜版上的黑缺陷进行修正。激光修正是利用激光高聚合能量垂直照射的方式，针对彩膜基板或者掩膜版上高度过高的黑缺陷加以去除，从而达到对黑缺陷进行修正的目的。
4.然而，当采用激光修正的方法利用激光垂直照射彩膜基板上的黑缺陷时，可能会击穿彩膜基板以及阵列基板上的像素电极。


技术实现要素：

5.本实用新型提供一种镭射修补装置，能够有助于显示面板的彩膜基板或者掩膜版上缺陷的修复。
6.本实用新型提供一种镭射修补装置，包括激光器组件、透镜组件和光学转向器，所述激光器组件用于发射激光，所述激光用于修正显示面板的待修正件上的缺陷；所述待修正件为所述显示面板的彩膜基板或者掩膜版；所述光学转向器斜设置在所述激光的传输光路上，光学转向器并位于所述透镜组件的背光侧，用于使透过所述透镜组件的所述激光沿水平或者呈倾斜方向照射并修正所述缺陷。
7.在一种可能的实施方式中，所述光学转向器与所述待修正件之间的夹角为40
°-
50
°
。
8.在一种可能的实施方式中，透过所述透镜组件的所述激光沿着垂直于所述待修正件的方向照射所述光学转向器时，所述光学转向器与所述待修正件之间的夹角为45
°
。
9.在一种可能的实施方式中，所述光学转向器为镭射反射镜。
10.在一种可能的实施方式中，还包括驱动件，所述驱动件包括固定座和驱动部，所述驱动部连接在所述固定座上，并与所述光学转向器连接，以带动所述光学转向器可相对于所述待修正件在竖直方向上移动。
11.在一种可能的实施方式中，所述光学转向器与所述待修正件之间的距离大于等于
1μm；
12.和/或，所述透镜组件包括多个具有不同倍数的透镜，所述透镜组件设在所述固定座朝向所述缺陷的一侧，并可相对于所述固定座旋转。
13.在一种可能的实施方式中，还包括可使所述激光透过的围挡，所述围挡位于所述光学转向器和所述透镜组件之间，并罩设在所述缺陷和所述光学转向器的顶部。
14.在一种可能的实施方式中，所述围挡在与所述透镜组件相对的位置处具有透光区所述透光区可使所述激光透过，所述光学转向器与所述透光区相对设置；
15.和/或，所述围挡的底部与所述待修正件之间存在间距。
16.在一种可能的实施方式中，所述围挡与所述驱动部连接，并在所述驱动部的带动下，可相对于所述待修正件在竖直方向上移动；
17.所述围挡和所述待修正件之间的距离与所述光学转向器和所述待修正件之间的距离相等。
18.在一种可能的实施方式中，还包括测高传感器，所述测高传感器与驱动部连接，并可相对于所述待修正件在竖直方向上移动，用于控制所述光学转向器与所述待修正件之间的距离。
19.在一种可能的实施方式中，所述测高传感器的底部与所述光学转向器的底部处于同一高度，或者，所述测高传感器的底部低于所述光学转向器的底部。
20.在一种可能的实施方式中，所述激光器组件包括激光组、光学元件和激光调节器，所述激光组用于发射所述激光，所述光学元件设在所述传输光路上，用于反射和/或透射所述激光，以使所述激光通过所述激光调节器；
21.所述激光调节器上具有尺寸可调的缝隙，所述缝隙可使所述激光通过，用于对所述激光的尺寸进行调节，以使所述激光达到镭射修正工艺所需要的尺寸。
22.在一种可能的实施方式中，所述激光组包括第一激光光源组、第二激光光源组，所述第一激光光源组和所述第二激光光源组可发射不同形式的所述激光，所述光学元件用于反射和/或透射所述第一激光光源组或所述第二激光光源组发射的所述激光。
23.本实施例提供一种镭射修补装置，通过将光学转向器倾斜设置在激光的传输光路上，并位于透镜组件的背光侧，相较于现有技术中激光的垂直照射，本实施例通过改变光学转向器的倾斜角度，使得透过透镜组件的激光能够沿水平或者倾斜方向照射并修正缺陷，在激光的作用下能够对缺陷过高的部分进行灼烧，从而在实现对显示面板的待修正件比如彩膜基板或者掩膜版上的缺陷进行修正，使得修正后的彩膜基板或者掩膜版能够符合显示面板的设计要求的同时，能够避免激光垂直照射缺陷击穿彩膜基板以及阵列基板上的像素电极的可能，进而提升待修正件和显示面板的良率。因此，本实用新型的镭射修补装置，能够有助于显示面板的彩膜基板或者掩膜版上缺陷的修复。
附图说明
24.为了更清楚地说明本实用新型或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作以简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1为本实用新型实施例提供的一种镭射修补装置的结构示意图；
26.图2为本实用新型实施例提供的一种修正前待修正件上的缺陷的结构示意图；
27.图3为本实用新型实施例提供的一种修正后待修正件上的缺陷的结构示意图。
28.附图标记说明：
29.100-镭射修补装置；10-激光器组件；11-激光组；111-第一激光光源组；1111-脉冲激光器；1112-第一衰减器；112-第二激光光源组；1121-连续式激光器；1122-第二衰减器； 1123-扩束镜；12-第一光学元件；13-第二光学元件；14-激光调节器；141-缝隙；20-透镜组件；21-透镜；30-光学转向器；40-驱动件；41-固定座；42-驱动部；50-围挡；51-长边； 52-短边；53-透光区；60-测高传感器；200-待修正件；210-缺陷。
具体实施方式
30.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
31.显示面板比如液晶显示面板，其可以包括彩膜基板(color filter基板，cf基板)、阵列基板、以及位于cf基板与阵列基板之间的液晶分子层，cf基板上设有公共电极。通常公共电极具有一定的电压，且该公共电极与阵列基板每个像素区域内的像素电极形成电压差，通过该电压差用于驱动液晶分子层中的液晶分子发生偏转，从而进行显示，并且通过控制液晶分子的偏转角度来实现液晶显示面板的不同亮度的显示。cf 基板是液晶显示面板上用来实现彩色显示的主要器件，cf基板一般通过将黑色矩阵 (black matrix，bm)、红色(red，r)光阻材料、绿色(green，g)光阻材料、蓝色(blue，b)光阻材料、间隔物(photo spacer，ps)涂布于玻璃基板上，经过曝光、显影和烘干后形成。cf基板和阵列基板上通常形成有配线图案和电极图案等，从而在基板上形成多个相互间隔的显示区域。cf基板和阵列基板上的图案通常是采用光刻技术 (photo)形成的。光刻技术主要是通过在基板(比如玻璃基板)上形成图案状的掩膜版，然后对掩膜版进行刻蚀，从而在基板上形成配线图案和电极图案等。
32.在显示面板比如cf基板或者掩膜版的制作过程中，会由于工艺和环境的因素产生损伤，产生不良产品。为了提高cf基板或者掩膜版的良率(及合格率)，减少生产报废，当针对cf基板或者掩膜版制造过程中产生的不良和缺陷(比如黑缺陷或者白缺陷等)对该不良和缺陷进行修正，从而提高cf基板或者掩膜版的良率。现有技术中的修正方法主要包括油墨修正、研磨修正和激光修正。其中，油墨修正主要是利用喷墨嘴对cf基板或者掩膜版上的白缺陷处注入与白缺陷周围相对应的光阻材料 (比如bm、r、g和b)，从而来实现对cf基板或者掩膜版上的白缺陷的修正。
33.研磨修正和激光修正均可针对彩膜基板或者掩膜版上的黑缺陷进行修正。研磨修正主要是利用研磨带将高度过高的缺陷比较黑缺陷加以研磨，使得缺陷的高度可以控制在2μm以内，从而实现对cf基板或者掩膜版上高度过高的缺陷进行修正，能够避免缺陷过高(比如大于2μm)影响cf基板或者掩膜版的良率。但是研磨修正技术会由于缺陷本身的形态
加上研磨的不稳定性，容易对产品(比如cf基板或者掩膜版)磨面造成刮伤严重影响产品品质。正如背景技术中所描述的，当采用激光修正的方法利用激光垂直照射cf基板上的黑缺陷时，可能会击穿彩膜基板以及阵列基板上的像素电极，从而出现cf基板以及显示面板的品质异常，影响cf基板和显示面板的良率。
34.为此，本实用新型实施例提供一种镭射修补装置，能够有助于显示面板的彩膜基板或者掩膜版上缺陷的修复。
35.实施例
36.图1为本实用新型实施例提供的一种镭射修补装置的结构示意图，图2为本实用新型实施例提供的一种修正前待修正件上的缺陷的结构示意图，图3为本实用新型实施例提供的一种修正后待修正件上的缺陷的结构示意图。
37.参考图1所示，本实用新型提供一种镭射修补装置100，其可以包括激光器组件10、透镜组件20和光学转向器30，激光器组件10用于发射激光，激光用于修正显示面板的待修正件200上的缺陷210；待修正件200可以为显示面板的彩膜基板或者掩膜版。待修正件200上的缺陷210可以理解为cf基板或者掩膜版上高度过高的黑缺陷或者其他高度过高的缺陷210。光学转向器30倾斜设置在激光的传输光路上，光学转向器30并位于透镜组件20的背光侧，用于使透过透镜组件20的激光沿水平或者呈倾斜方向照射并修正缺陷210。
38.相较于现有技术中激光的垂直照射，本实施例可以通过改变光学转向器30的倾斜角度，使得透过透镜组件20的激光能够沿水平或者倾斜方向照射并修正缺陷210，在激光的作用下能够对缺陷210过高的部分进行灼烧，从而在实现对显示面板的待修正件200比如cf基板或者掩膜版上的缺陷210进行修正，使得修正后的cf基板或者掩膜版能够符合显示面板的设计要求的同时，能够避免激光垂直照射缺陷210击穿cf基板以及阵列基板上的像素电极的可能，进而提升待修正件200和显示面板的良率。与研磨修正的方法相比，本实施例一方面可以减小或者避免修补过程中由于缺陷210属性(比如缺陷210本身的形态)加上修补异常会对加重品质不良的可能，能够提升待修正件200和显示面板的良率，另一方面可以减小研磨带的用量，节约对缺陷210进行修正的成本。因此，本实用新型的镭射修补装置100，能够有助于显示面板的cf基板或者掩膜版上缺陷210的修复。
39.其中，激光器组件10发射的激光可以为能够通过灼烧对上述缺陷210进行修正的高能激光射线，比如镭射激光等。由于激光器组件10发射的激光属于高能量激光，能够通过灼烧对待修正件200在制程中所阐述的缺陷210过高的部分进行修正，缺陷210被修正的部分经过镭射灼烧后不会出现异物掉落在制程待修正件200上的风险，即便有被灼烧的部分散落在待修正件200的修正区域也可以在后续的制程中被清洗掉，不会对待修正件 200的品质造成异常。因此，通过传输光路内光学转向器30的设置，不仅能够实现对待修正件200上高度过高的缺陷210进行修正，提升待修正件200和显示面板的良率，而且不会对待修正件200和显示面板的显示造成影响，具有较好的修正效果。
40.需要说明的是，现有技术中，根据激光对人体的损害程度可以将激光的安全级别分为四个等级，该四个级别从低到高分别为class1至class4。本实施例中，激光器组件10发射的激光，比如镭射激光可以看作低输出的可视激光(即class1，功率处于0.4mw-1mw 之间)，这样低输出的激光不会对人身体产生危害，可以保证设计的安全。
41.参考图1所示，激光器组件10可以包括激光组11、光学元件和激光调节器14，激光
组11用于发射激光，光学元件可以设在激光组11的传输光路上，用于反射和/或透射激光，以使激光通过激光调节器14。也就是说，光学元件可以通过反射和透射中的至少一者来改变激光组11发射的激光的传输方向，使得激光可以按照预设的光路通过激光调节器14的同时，能够有助于减小镭射修补装置100的结构尺寸，使得镭射修补装置100的结构更加紧凑。
42.激光调节器14上具有尺寸可调的缝隙141，缝隙141可使激光通过，用于对激光的尺寸进行调节，使激光达到镭射修正工艺所需要的尺寸。这样当激光通过缝隙141时，可以通过对缝隙141的尺寸比如大小的调节，从而实现对激光的尺寸比如激光的横截面的形状和大小的调节，使得激光可以达到镭射修正工艺所需要的尺寸，进而实现对不同尺寸大小的缺陷210进行修正。
43.作为一种可能的实施方式，激光调节器14可以为内部具有不同尺寸缝隙141的一个或者多个遮光板。也就是说，激光调节器14可以为一个遮光板，该遮光板上具有不同尺寸的缝隙141。或者，激光调节器14可以具有多个遮光板，每个遮光板上的缝隙141尺寸可以不同。这样可以通过匹配遮光板上的不同尺寸的缝隙141，或者更换遮光板，能够使得经光学元件反射和透射的激光能够进入并通过遮光板的缝隙141，从而通过不同尺寸的缝隙141实现对激光的尺寸的调节，以更好的满足对不同尺寸大小的缺陷210进行修正。
44.或者，作为另一种可能的实施方式，激光调节器14也可以包括多个(比如2个或4 个)遮光板，多个遮光板之间可以形成上述缝隙141。这样可以通过改变多个遮光板之间的距离来实现对缝隙141尺寸大小的调节。在本实施例中，对于激光调节器14的结构并不做进一步限定。
45.其中，参考图1所示，激光组11可以包括第一激光光源组111、第二激光光源组112，第一激光光源组111和第二激光光源组112可发射不同形式的激光。也就是说，第一激光光源组111和第二激光光源组112可以采用不同的激光器。光学元件用于反射和/或透射第一激光光源组111或第二激光光源组112发射的激光，以便第一激光光源组111或第二激光光源组112发射的激光在光学元件的作用下可以通过激光调节器14的缝隙141。
46.示例性的，第一激光光源组111可以采用脉冲激光器1111，第二激光光源组112可以采用连续式激光器1121。这样可以通过脉冲激光器1111和连续式激光器1121两种激光器的设置，通过控制脉冲激光器1111和连续式激光器1121单独发射，能够实现激光组 11不同的激光发射需要，使得镭射修补装置100可修补的缺陷210或者修补的效果更好。
47.相应的，光学元件也可以包括第一光学元件12和第二光学元件13，第一光学元件12 倾斜设置在脉冲激光器1111的激光发射路径上，用于反射脉冲激光器1111发射的脉冲式激光，以使脉冲式激光可以通过激光调节器14的缝隙141。第二光学元件13倾斜设置在连续式激光器1121的激光发射路径上，用于反射连续式激光器1121发射的连续式激光，以使连续式激光可以通过激光调节器14的缝隙141。
48.需要说明的是，为了减小镭射修补装置100的体积，当脉冲激光器1111和连续式激光器1121在竖直方向上水平设置，且脉冲激光器1111位于连续式激光器1121的上方时，脉冲式激光和连续式激光沿水平方向分别照射到第一光学元件12和第二光学元件13上，此时脉冲式激光可以透射第二光学元件13，以使脉冲式激光可以通过激光调节器14的缝隙141。为了使得脉冲式激光和连续式激光能够沿水平方向照射并修补缺陷210，第一光学元件12和第二光学元件13与水平方向之间的夹角均应为45
°
。
49.示例性的，第一光学元件12可以为能够反射脉冲式激光的反射镜或其他光学元件。第二光学元件13可以为能够透射脉冲式激光并反射连续式激光的透射镜或其他光学元件。
50.参考图1所示，第一激光光源组111还可以包括第一衰减器1112，这样通过第一衰减器1112能够降低脉冲式激光的强度，使其达到镭射修补工艺所需要的激光强度。第二激光光源组112还可以包括第二衰减器1122和扩束镜1123，扩束镜1123可以位于第二衰减器1122和第二光学元件13之间，这样在通过第二衰减器1122降低连续式激光的强度，使其达到镭射修补工艺所需要的激光强度之后，通过扩束镜1123可以准直输入的连续式激光的直径进行扩大，以便实现对缺陷210更好的修正效果。
51.其中，光学转向器30与待修正件200之间的夹角可以为40
°-
50
°
。这样可以通过调节光学转向器30的倾斜角度，以便实现使透过透镜组件20的激光沿水平或者呈倾斜方向照射并修正缺陷210。
52.应理解的是，根据光的反射原理，为了确保透过透镜组件20的激光可以沿水平或者呈倾斜方向照射并修正缺陷210，光学转向器30与待修正件200之间的夹角(即光学转向器30在激光的传输光路上的倾斜角度)还取决于激光进入或者透过透镜组件20的角度。因此，本实施例中，对于光学转向器30与待修正件200之间的夹角并不做进一步限定。
53.应理解的是，当透过透镜组件20的激光沿水平或者呈倾斜方向照射并修正缺陷210 时，为了满足修补后的缺陷的高度小于等于2μm，经光学转向器30反射后的激光应与竖直方向之间的夹角应大于等于90
°
并小于等于95
°
。
54.示例性的，参考图1至图3所示，透过透镜组件20的激光沿着垂直于待修正件200 的方向照射光学转向器30时，光学转向器30与待修正件200之间的夹角为45
°
。这样根据光的反射原理可以得知，透过透镜组件20的激光在光学转向器30的作用下可以沿水平方向(即与竖直方向呈90
°
)照射并修正缺陷210，对cf基板或者掩膜版上高度过高的缺陷210进行修正，使得修补后的缺陷高度小于等于2μm，以避免缺陷210过高影响cf 基板或者掩膜版的良率，使得修正后的cf基板或者掩膜版(如图3所示)能够符合显示面板的设计要求的同时，能够避免激光垂直照射缺陷210击穿cf基板以及阵列基板上的像素电极的可能，进而提升待修正件200和显示面板的良率。
55.示例性的，光学转向器30可以为镭射反射镜或者其他能反射镭射激光的光学元件。
56.示例性的，当透过透镜组件20的激光呈倾斜方向照射并修正缺陷210时，经光学转向器30反射后的激光应与竖直方向之间的夹角可以为95
°
，这样能够对cf基板或者掩膜版上高度过高的缺陷210进行修正，使得修补后的缺陷高度小于等于2μm，以避免缺陷 210过高影响cf基板或者掩膜版的良率。
57.为了便于实现对光学转向器30的高度的调节，参考图1所示，镭射修补装置100还可以包括驱动件40，驱动件40可以包括固定座41和驱动部42，驱动部42连接在固定座 41上，并与光学转向器30连接，以带动光学转向器30可相对于待修正件200在竖直方向上移动。这样当驱动部42在固定座41上相对于待修正件200在竖直方向上移动时，由于光学转向器30固定在驱动部42上，光学转向器30可以在驱动部42的带动下，与驱动部42同步运动，从而实现光学转向器30相对于待修正件200在竖直方向上移动，进而可以通过驱动部42对光
学转向器30与待修正件200之间距离的调节，在确保对于缺陷210 的修正效果的同时，能够避免光学转向器30对于待修补件的表面造成损伤。
58.示例性的，驱动件40可以为直线马达、伸缩马达或者其他的驱动部42可直线运动的驱动装置。其中，驱动件40可以架设在待修正件200之上，以便实现对待修正件200上高度过高的缺陷210进行修正。在本实施例中，对于驱动件40的结构并不做进一步限定。
59.进一步的，为了避免光学转向器30对待修正件200造成压伤或者磨面刮伤，光学转向器30与待修正件200之间的距离应大于等于1μm。应理解的，为了确保对于缺陷210 的修正效果，光学转向器30与待修正件200之间的距离可以控制在一定的范围内，该范围取决于缺陷210的高度、光学转向器30的长度以及光学转向器30与待修正件200之间的夹角，因此，在本实施例中，对于光学转向器30与待修正件200之间的距离的上限值并不做进一步限定。
60.其中，参考图1所示，透镜组件20可以包括多个具有不同倍数的透镜21，透镜组件 20可以设在固定座41朝向缺陷210的一侧，并可相对于固定座41旋转。这样通过固定座41可以实现对透镜组件20的固定的同时，可以根据镭射修补工艺的需求，通过旋转透镜组件20，使得透过激光调节器14的激光可以通过不同倍率的透镜21，通过光学转向器 30的反射照射到缺陷210上，以实现对缺陷210高度的修正。
61.作为一种可能的实施方式，透镜组件20还可以包括转换器，多个透镜21设在转换器上，转换器设在固定座41上并可相对于固定座41旋转，这样多个透镜21可以通过转换器固定在固定座41上，并可实现相对于固定座41的旋转。
62.为了提升镭射修补装置100的安全性能，参考图1所示，镭射修补装置100还可以包括可使激光透过的围挡50，围挡50可以位于光学转向器30和透镜组件20之间，并罩设在缺陷210和光学转向器30的顶部。这样在确保对缺陷210的高度进行修正的同时，可以通过围挡50对激光进行阻挡，以避免激光照射到镭射修补装置100的外部，对外界造成伤害，以进一步提升镭射修补装置100的安全性能。
63.为了便于激光透过，参考图1所示，围挡50在与透镜组件20相对的位置处具有透光区53，透光区53可使激光透过，光学转向器30可以与透光区53相对设置。这样能够缩短激光的传输光路，使得透过透光区53的激光可以直接照射到光学转向器30，以减小激光在传输中的损耗，有助于提高激光的利用率。
64.示例性的，透光区53可以为围档上可以激光透过的区域，该区域可以采用透光材料形成。或者，透光区53也可以围挡50上开设的通孔，透过透镜组件20的激光可以通过通孔照射到光学转向器30上。在本实施例中，对于透光区53的结构形式并不做进一步限定。
65.为了避免围挡50对待修正件200造成压伤或者磨面刮伤，围挡50的底部与待修正件 200之间存在间距。其中，围挡50的底部可以光学转向器30的底部处于同一高度上，或者，围挡50的底部也可以低于或者高度光学转向器30的底部。在本实施例中，对于围挡 50底部与光学转向器30底部的位置关系并不做进一步限定，只要满足围挡50能够避免激光照射到镭射修补装置100的外部，对外界造成伤害的同时，不与待修正件200的表面接触即可。
66.作为一种可能的实施方式，参考图1所示，围挡50可以与驱动部42连接，并在驱动部42的带动下，可相对于待修正件200在竖直方向上移动。这样围挡50可以和光学转向器30与驱动部42同步移动，以便于对围挡50和光学转向器30与待修正件200之间的距离进行控制。
67.示例性的，围挡50和待修正件200之间的距离与光学转向器30和待修正件200之间的距离相等。也就是说，围挡50底部与光学转向器30底部相对于待修正件200处于同一高度上，这样能够对围挡50和光学转向器30与待修正件200之间的距离进行更好的控制。
68.或者，作为另一种可能的实施方式，围挡50可以通过固定架或者其他结构固定在待修正件200上，并与待修正件200之间具有固定的间距(比如1μm)，驱动部42可以伸入围挡50内，并带动光学转向器30在围挡50内的竖直方向上移动。在本实施例中，对于围挡50的固定方式并不做进一步限定。
69.示例性的，围挡50可以采用如图1中所示的“l”形围挡50或者其他结构形式的围挡 50。当围挡50为“l”形围挡50时，围挡50的长边51罩设在缺陷210和光学转向器30的顶部，透光区53设在围挡50的长边51上。围挡50的短边52围设在缺陷210的侧边，并与光学转向器30位于缺陷210的不同侧。围挡50和待修正件200之间的距离可以理解为围挡50短边52的底部与待修正件200之间的距离。围挡50底部也可以理解为围挡50 短边52的底部。在本实施例中，对于围挡50的结构形式并不做进一步限定。
70.为了便于对光学转向器30与待修正件200之间的距离进行控制，参考图1所示，镭射修补装置100还可以包括测高传感器60，测高传感器60可以与驱动部42连接，并可相对于待修正件200在竖直方向上移动，用于控制光学转向器30与待修正件200之间的距离。这样由于测高传感器60与驱动部42连接，可以在驱动部42的带动下和光学转向器30一起相对于待修正件200在竖直方向上同步移动，这样在测高传感器60与光学转向器30的位置相对固定时，可以通过测高传感器60测量的测高传感器60与待修正件200 之间的距离，实现对光学转向器30与待修正件200之间的距离的控制和调节。
71.作为一种可能的实施方式，测高传感器60的底部与光学转向器30的底部可以处于同一高度。也就是说，测高传感器60的底部与待修正件200的表面之间的距离和光学转向器30的底部与待修正件200的表面之间的距离相等。这样可以通过控制测高传感器60的底部与待修正件200的表面之间的距离进而来实现对光学转向器30与待修正件200之间距离的控制，以避免光学转向器30对待修正件200造成压伤或者磨面刮伤。
72.或者，作为另一种可能的实施方式，测高传感器60的底部也可以低于光学转向器30 的底部。这样当测高传感器60在驱动部42的驱动下在竖直方向上朝着待修正件200的方向运动时，测高传感器60相较于光学转向器30先接触待修正件200，这样可以根据测高传感器60与光学转向器30之间的高度差，可以通过控制测高传感器60的底部与待修正件200的表面之间的距离进而来实现对光学转向器30与待修正件200之间距离的控制和调节。在本实施例中，对于测高传感器60的设置以及与光学转向器30的相对位置并不做进一步限定，只要能够通过测高传感器60对光学转向器30与待修正件200之间的距离进行控制和调节即可。
73.本实用新型的镭射修补装置，通过将光学转向器倾斜设置在激光的传输光路上，并位于透镜组件的背光侧，能够使得透过透镜组件的激光能够沿水平或者倾斜方向照射并修正缺陷，使得修正后的彩膜基板或者掩膜版能够符合显示面板的设计要求的同时，能够避免激光垂直照射缺陷击穿彩膜基板以及阵列基板上的像素电极的可能，进而提升待修正件和显示面板的良率。
74.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限
制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。