用于组装掩模版组件的设备的制作方法

用于组装掩模版组件的设备
1.相关申请的交叉引用
2.本技术要求于2019年2月28日提交的ep申请19159943.0、于2019年3月19日提交的ep申请19163828.7以及于2019年8月12日提交的ep事情19191214.6的优先权，其通过引用全部并入本文。
技术领域
3.本发明涉及一种用于组装光刻设备的掩模版组件的设备和关联方法，该掩模版组件包括连接至掩模版的表膜组件。


背景技术：

4.光刻设备是被构造为将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以被用于例如集成电路(ic)的制造中。例如，光刻设备可以将图案从图案形成装置(例如掩模)投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
5.由光刻设备用于将图案投影到衬底上的辐射波长确定了可以在该衬底上形成的特征的最小尺寸。使用euv辐射(波长在范围4至20nm内的电磁辐射)的光刻设备可以被用于在衬底上形成比传统光刻设备(例如可以使用波长为193nm的电磁辐射)更小的特征。
6.被用于在光刻设备中将图案赋予辐射束的图案形成装置(例如掩模)可以形成掩模组件的一部分。掩模组件可以包括保护图案形成装置免受颗粒污染的表膜。表膜可以由表膜框架支撑。
7.可能期望提供一种设备，该设备消除或减轻与现有技术相关联的一个或多个问题。


技术实现要素：

8.根据本发明的第一方面，提供了一种用于处置大致平面物体的物体处置设备，该物体处置设备包括：两个支撑臂，该两个支撑臂中的至少一个相对于另一支撑臂能够大致在平面中移动，使得两个支撑臂能够操作以夹持和保持设置在所述平面中的物体；其中支撑臂中的每个支撑臂包括至少一个支撑垫和至少一个对准器，支撑垫被配置为局部地接触物体的表面并向其施加大致垂直于平面的力以支撑物体，并且对准器被配置为局部地接触物体的表面并向其施加大致在平面中的力以对准物体。
9.物体处置设备是有利的，因为它减少了臂和物体之间的摩擦量。反过来，这可以减少可能由这种摩擦产生的微粒碎片的量。物体可以是表膜组件或图案形成装置。物体处置设备特别有利于在处置表膜组件或图案形成装置时使用，因为这些物体保持清洁并且没有污染物是特别重要的。
10.要了解的是，由于支撑垫和对准器中的每一个仅与物体局部地接触，因此它们仅与物体的相对较小的部分接触。有利地，这可以会降低产生微粒污染物的风险(与接触表膜组件或图案形成装置的整个外周的支撑机制相比)。
11.对准器被布置为确保当物体被支撑臂夹持时，物体相对于物体处置设备处于已知的固定位置。
12.根据本发明的第二方面，提供了一种用于处置大致平面物体的物体处置设备，该物体处置设备包括：两个支撑臂，该两个支撑臂中的至少一个支撑臂相对于另一支撑臂能够大致在平面中移动，使得两个支撑臂能够操作以夹持和保持设置在所述平面中的物体；支撑结构；以及阻尼器组件；其中两个支撑臂经由阻尼器组件被连接至支撑结构，阻尼器组件被配置为当物体由支撑臂夹持时，抑制物体在垂直于物体平面的方向上的移动。
13.物体可以是表膜组件或图案形成装置。阻尼器组件可以被配置为抑制在物体(例如表膜组件或图案形成装置)通常被提供给物体处置设备的方向上的移动。
14.支撑结构可以是轨条。有利地，这种布置可以使表膜组件或图案形成装置的位置能够沿着轨条的轨道移动，同时防止损坏表膜组件或图案形成装置(例如由掉落表膜组件或图案形成装置引起)。
15.根据本发明的第三方面，提供了一种表膜框架附接设备，包括：表膜组件处置设备，被配置为处置表膜组件；图案形成装置处置设备，被配置为处置图案形成装置；以及轨条，其中表膜组件处置设备包括被配置为夹持和保持表膜组件的支撑臂，并且图案形成装置处置设备包括被配置为夹持和保持图案形成装置的支撑臂，并且其中表膜组件处置设备由轨条中的一个轨条支撑并且相对于轨条中的一个轨条是可移动的，并且其中图案形成装置处置设备由轨条中的一个轨条支撑并且相对于轨条中的一个轨条是可移动的。
16.在光刻设备中，掩模组件可以被使用。掩模组件可以包括图案形成装置(其在使用中将期望图案赋予辐射束)和表膜组件(其防止污染物颗粒到达图案形成装置)。表膜组件可以包括贴附至表膜组件的框架的接合机构。表膜组件可以经由接合机构使用螺柱被附接至图案形成装置。表膜框架附接设备可以被用于将表膜组件附接至图案形成装置。
17.当将表膜组件固定至图案形成装置(从而形成掩模组件)时，重要的是表膜组件的接合机构和图案形成装置的螺柱被精细地处置并且很好地对准。表膜框架附接设备可以包括用于表膜组件的处置设备和用于图案形成装置的处置设备，以准确且精细地夹持、移动和放置表膜组件和图案形成装置。
18.表膜组件处置设备可以包括可以被描述为表膜组件夹持器的部分。图案形成装置处置设备可以包括可以被描述为图案形成装置夹持器的部分。夹持器可以被可移动地附接至轨条。夹持器可以能够操作以沿着设置在轨条内的轨道手动移动。有利地，将表膜组件夹持器和图案形成装置夹持器可移动地附接至共轨可以允许对表膜组件和图案形成装置进行准确且安全的处置。
19.表膜组件处置设备可以包括根据本发明的第一方面的物体处置设备。
20.图案形成装置处置设备可以包括根据本发明的第一方面的物体处置设备。
21.表膜组件处置设备可以包括根据本发明的第二方面的物体处置设备。
22.图案形成装置组件处置设备可以包括根据本发明的第二方面的物体处置设备。
23.根据本发明的第四方面，提供了一种用于测量物体的测量系统，包括：辐射源，用于产生非偏振辐射束；分束器；四分之一波片；以及成像传感器；其中辐射源被布置为使得非偏振辐射的一部分传播通过分束器和四分之一波片；并且其中成像传感器被布置为使得非偏振辐射的所述一部分的反射部分在入射到成像传感器之前通过四分之一波片和分束
器。
24.光学测量系统可以能够操作以测量表膜框架的位置。光学测量系统可以包括辐射源、分束器、四分之一波片和成像传感器。
25.辐射源可以发射非偏振光。非偏振光可以被分束器拆分。这可能会产生线性偏振光。至少部分线性偏振光然后可以传播通过四分之一波片，从而变成圆偏振的。表膜组件(包括表膜和表膜框架)和图案形成装置(诸如掩模版)可以被布置为使得圆偏振光在传播通过表膜和/或表膜框架之后从图案形成装置反射。反射的圆偏振光然后可以通过四分之一波片和分束器传播回，并被入射到成像传感器上。由成像传感器进行的测量可以使得表膜框架(并因此表膜组件)的位置能够被确定。
26.由四分之一波片生成的圆偏振束的至少一部分可以被入射到图案形成装置上，并由图案形成装置反射。表膜框架的边缘可能会阻碍从图案形成装置反射的光。由图案形成装置反射的辐射的至少一部分被入射到成像传感器上，并且可以在成像传感器处具有取决于表膜框架的边缘的位置而变化的测量空间强度(诸如测量图像)。具体地，光通过表膜和表膜框架的透射水平的差异可能会在强度测量中给出空间对比度。这种空间对比度对于测量表膜组件的位置并随后对准表膜组件可能特别有用。
27.当光传播通过四分之一波片时，四分之一波片在从图案形成装置反射的光中实现相移(电场强度的两个正交分量之间)。这种相移使得从图案形成装置反射的光最大程度地透射通过分束器。光通过分束器的最大透射可能会导致由成像传感器执行的强度测量中的高信号。例如，由成像传感器进行的测量可能会受到背景光的影响，这可能会降低表示表膜和表膜框架的边缘的图像中的对比度。然而，这种背景辐射可以是非偏振的，因此只有这种背景辐射的一小部分(例如一半)可以到达成像传感器。相比之下，信号辐射(即，从图案形成装置反射的辐射部分)最大程度地透射通过分束器。有利地，该信号光通过分束器的最大透射可能会导致由成像传感器执行的测量中的高空间对比度。这可能会导致表膜组件的位置测量的高准确度。
28.根据本发明的第五方面，提供了一种用于测量物体相对于参考物体的位置的测量系统，该物体被提供有物体标识，并且参考物体被提供有具有参考标识的窗，测量系统包括：辐射源，用于产生辐射束；以及成像传感器；辐射源被布置为使得辐射束以辐射的反射衍射级被法向入射到成像传感器上的这种角度被入射到参考标识和物体标识上。
29.光学测量系统可以能够操作以测量物体相对于参考物体的位置。物体可以是图案形成装置(诸如掩模版)。物体可以被提供有物体标识。物体标识可以包括衍射光栅。物体标识可以包括对准标记。参考物体可以是窗。参考物体可以被提供有参考标识。参考标识可以包括衍射光栅。参考标识可以包括对准标记。光学测量系统可以包括辐射源和成像传感器。
30.辐射源可以发射束。束可以朝着物体和参考物体传播。束的一部分可以从参考标识背散射(例如反射)。束的另一部分可以透射通过参考物体。束的这部分随后可以从物体标识背散射(例如反射)。物体标识和参考标识中的每一个可以被布置为形成反射衍射光栅。从物体标识和参考标识中的每一个背散射的束部分可以形成多个衍射级。一级反射束可以被入射到成像传感器上。因此，成像传感器可以能够操作以测量对应于物体相对于参考物体的位置的信号。零级反射束(对应于标准反射)可能未被入射到成像传感器上。光学测量系统可以能够操作以测量物体标识(相对于物体固定)和参考标识(相对于参考物体固
定)的位置。因此，光学测量系统可以能够操作以测量物体相对于参考物体的位置。这可以被用于将物体与参考物体对准。例如，光学测量系统可以被用于将图案形成装置与另一设备对准。
31.有利地，通过以下方式测量物体标识和参考标识的位置：测量光的衍射级(如上所述)；并使用相同的测量设备(光学测量系统)，可以导致准确测量物体相对于参考物体的位置。这可以导致物体位置的测量比物体(诸如图案形成装置)的位置基于测量物体边缘(诸如图案形成装置的边缘)的位置更准确。
32.一种表膜框架附接设备包括本发明的第四方面的测量系统或者本发明的第五方面的测量系统。
33.根据本发明的第六方面，提供了一种表膜框架附接设备，包括：支撑结构，被配置为支撑表膜组件；以及可线性移动操纵器销，被配置为相对于支撑结构移动，以在由支撑结构支撑时接触贴附至表膜组件的框架的接合机构的接合臂的远端，以弹性地弯曲接合臂；其中操纵器销在大致垂直于接合臂的方向上延伸，并且在该方向上能够移动；并且其中操纵器销的表面是凸曲表面，使得所述表面与接合臂之间的接触表面面积被最小化。
34.要了解的是，当操纵器销移动并接触大致垂直的接合臂(例如弹性的悬臂接合臂)时，它可以移动接合臂的远端，从而旋转接合臂。当操纵器销在线性方向上移动时，操纵器销和接合臂之间的接触点将沿着接合臂的表面移动。通过为操纵器销提供凸曲表面，操纵器销和接合臂之间的接触表面面积被最小化。这种布置可以确保操纵器销和接合臂之间的滑动最小。有利地，这可以降低产生微粒污染物的风险(与操纵器销和部件彼此滑动的接合机构之间的界面相比)。
35.该设备还可以包括：致动器，能够操作以移动支撑结构的位置；以及多个钩形销，被设置在支撑台上并且从支撑台突出，其中多个钩形销被配置为在表膜组件和图案形成装置的接合或脱离期间适当地将接合机构可释放地夹紧至支撑结构，并且其中如果支撑台的移动被阻碍，则致动器或上面提供有钩形销的多个可拆离插入件中的任一个或两者能够从支撑台拆离。
36.钩形销可以用于在表膜组件和图案形成装置的接合或脱离期间保持表膜组件固定至支撑结构。这允许支撑结构的移动以引起表膜组件的对应移动。然而，钩形销可能无法从表膜框架脱离。上述拆离机制提供了一种安全机制，以在移动被阻碍时将钩形销从致动机制拆离，以防止损坏表膜组件。在一些实施例中，拆离机制可以使得支撑台与致动器拆离。在一些实施例中，拆离机制可以通过在可拆离插入件(被可拆离地连接至支撑结构)上提供钩形销来这样实现。
37.根据本发明的第七方面，提供了一种螺柱附接设备，包括：支撑结构，被配置为保持图案形成装置；以及螺柱操纵器，被配置为使螺柱与图案形成装置接触，其中螺柱操纵器使用多个片簧被贴附至外框架。
38.螺柱可以被附接至图案形成装置，使得表膜组件可以被附接至图案形成装置。螺柱可以使用螺柱附接设备被附接至图案形成装置。螺柱附接设备可以包括处置螺柱的螺柱操纵器。螺柱操纵器可以被附接至外框架。该附接可以包括多个片簧。多个片簧允许螺柱操纵器和外框架之间的一些相对移动(例如当螺柱的基底接触图案形成装置时)。
39.每个片簧的尺寸被设计为使得螺柱操纵器(相对于外框架)在螺柱可以被施加到
图案形成装置的方向(例如z方向)上的移动是许可的，同时在其他方向上的移动可忽略。进一步地，通过使用多个片簧而不是单个片簧，螺柱操纵器(以及因此螺柱)在xz或yz平面中的旋转可忽略。有利地，这可能会导致更受控的螺柱位置和更准确地将螺柱放置在图案形成装置上。
40.螺柱操纵器可以包括螺柱支架，其被布置为在重力作用下或使用真空机制保持螺柱。
41.螺柱操纵器可以包括胶分配器。胶分配器可以被配置为分配聚(甲基丙烯酸甲酯)基胶。如本文使用的，聚(甲基丙烯酸甲酯)基胶可以被称为pmma胶。胶分配器可以被配置为提供pmma胶作为一种或多种组分。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给螺柱的表面。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给图案形成装置的表面。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给螺柱的表面，并且将pmma胶的至少一种组分提供给图案形成装置的表面。当螺柱通过螺柱操纵器与图案形成装置接触时，螺柱可以通过pmma胶被贴附至图案形成装置。
42.pmma胶包括由甲基丙烯酸甲酯(mma)单体的聚合形成的热塑性树脂。pmma胶通常是包括mma单体和一种或多种其他组分(诸如引发剂、促进剂、交联剂和其他添加剂)的树脂制剂。要了解的是，如本文使用的，提供具有pmma胶的表面可以指提供具有pmma胶的一种或多种组分(例如包含pmma胶的促进剂或引发剂的树脂组分)的所述表面。还要了解的是，如本文使用的，使表面与另一表面接触可以指使两个表面彼此间接接触(例如经由粘合至两个表面的胶)。
43.例如，pmma胶的处理包括提供包括mma单体与促进剂的混合物的第一胶组分和包括mma单体和引发剂的混合物的第二胶组分。优选地，当第一胶组分和第二胶组分被组合时，引发剂以适合于第一胶组分和第二胶组分的总量的量提供。胶组分的施加例如通过将第一胶组分施加到第一衬底上并且将第二胶组分施加到第二衬底上来完成。例如，包括mma单体的第一胶组分被施加到表膜框架表面上，并且包括引发剂的第二胶组分被施加到图案形成装置表面上，以被粘结至涂覆有第一胶组分的表膜框架。备选地，两种胶组分可以以相反的方式施加。当两个衬底被联合时，就会发生固化。
44.pmma胶可以被用于将第一光刻部件的表面粘合至第二光刻部件的表面。第一光刻部件和第二光刻部件中的至少一个可以是euv光刻设备的部件。例如，第一光刻部件是表膜，并且第二光刻部件是表膜框架。在另一示例中，第一光刻部件是表膜框架，并且第二光刻部件是图案形成装置。在再一示例中，第一光刻部件是第一表膜框架部件，诸如表膜框架接合机构的第一部件，并且第二光刻部件是表膜框架接合机构的第二部件。
45.在替代方法中，第一组分和第二组分可以被并排施加到同一衬底上，然后第二衬底可以被施加到其上，使得pmma胶组分被夹在两个衬底之间。在替代方法中，当第一组分和第二组分由于被封闭在两个表面之间而彼此充分接触时，然后发生固化。其他替代处理方法也可以被应用。
46.pmma胶组分可以作为单一连续形状被施加为层，或者它可以作为离散珠粒施加。作为珠粒施加的粘合剂的优点在于它在胶合的表面中提供较小的张力，例如在表膜和框架之间或在框架和掩模版表面之间。在这种情况下，珠粒充当两个表面之间的弹性弹簧。
47.优选地，层或珠粒的厚度小于0.6mm，更优选地小于0.5mm。这是为了实现最佳聚
合，因为聚合在层或珠粒的一侧开始并进行到另一侧。
48.本文的珠粒是指胶组分的离散部分而不是连续层，并且可以具有任何形状，诸如球形、半球形或准矩形，这取决于pmma树脂的润湿性和黏度。
49.pmma树脂黏度优选地为至少8000mpas，更优选地至少10.000mpas。pmma胶的硬化可以通过化学方法或通过加热来促进。
50.如根据标准iso 4587(oi3)测试的，用于将表膜附接至表膜框架或将表膜框架附接至掩模版的胶或粘合剂优选地具有>5mpa、更优选地>10mpa的搭接剪切强度。当根据iso 527测量时，用于将表膜附接至表膜框架或将表膜框架附接至掩模版的胶或粘合剂的杨氏模量优选地在0.5至10gpa的范围内，更优选地在1至5gpa的范围内。
51.优选地，用于将表膜附接至表膜框架或将表膜框架附接至掩模版的胶或粘合剂的除气<6e
‑
06[mbar.l/s.cm2]，更优选地<8e
‑
09[mbar.l/s.cm2]，甚至更优选地<8e
‑
10[mbar.l/s.cm2]。
[0052]
根据本发明的第八方面，提供了一种表膜附接设备，包括：表膜操纵器；以及胶分配器。表膜附接设备可以用于由第一物品和第二物品制备表膜组件的至少一部分。表膜操纵器可以被配置为使第一物品与第二物品接触。胶分配器可以被配置为提供pmma胶作为一种或多种组分。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给第一物品的表面。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给第二物品的表面。胶分配器可以被配置为将pmma胶的至少一种组分提供给第一物品的表面，并且将pmma胶的至少一种组分提供给第二物品的表面。当第一物品与第二物品接触时，第一物品可以被贴附至第二物品。
[0053]
第一物品可以是框架。该框架可以是表膜框架。第二物品可以是表膜(即，薄膜或隔膜)。当表膜组件被粘结至图案形成装置时，表膜框架可以是被构造为诸如提供气封空间的框架。
[0054]
第二物品可以是接合机构。
[0055]
表膜操纵器可以包括用于拉紧表膜的部件。例如，表膜操纵器可以在使表膜与框架接触之前拉紧表膜。
[0056]
根据本发明的第九方面，提供了一种表膜组件。表膜组件可以包括表膜。表膜组件可以包括框架。pmma胶可以被设置在表膜与框架之间，并且可以与表膜和框架接触，以将表膜贴附至框架。
[0057]
根据本发明的第十方面，提供了一种图案形成装置。图案形成装置可以包括多个螺柱。pmma胶可以被设置在图案形成装置和多个螺柱中的每个螺柱之间，并且可以与图案形成装置和多个螺柱中的每个螺柱接触，以将图案形成装置贴附至多个螺柱中的每个螺柱。
[0058]
根据本发明的第十一方面，提供了一种掩模组件，包括：根据本发明的第九方面的表膜组件；以及根据本发明的第十方面的图案形成装置。
[0059]
pmma胶的用途提供了若干优点。
[0060]
pmma胶的固化需要几分钟才能完成，这是比已知环氧胶的固化过程(通常需要几个小时)要短得多的固化过程。因此，有利地，使用根据本发明的一些方面的pmma胶将表膜框架贴附至表膜导致产生表膜组件所需的时间明显更短(与使用已知的环氧胶相比)。进一步地，有利地，使用pmma胶将螺柱贴附至图案形成装置需要明显更少的时间(与使用已知的
环氧胶相比)。这为大批量制造带来了关联优点。
[0061]
pmma胶通常比环氧胶更有弹性。pmma胶可以比环氧胶更容易地从表面(例如从图案形成装置的表面)去除。因此，有利地，一旦螺柱被去除，使用pmma胶(与使用已知的环氧胶相比)将螺柱贴附至图案形成装置导致螺柱去除程序和图案形成装置清洁程序更容易。
[0062]
可能需要加热器和/或烘箱来加热已知的环氧胶，以推动已知环氧胶的固化。有利地，不需要加热来推动pmma胶的固化。这导致更简单的制造程序，这也可能会减少已制造产品(诸如表膜组件或提供有螺柱的图案形成装置)的缺陷和损坏风险。
[0063]
根据本发明的第十二方面，提供了一种掩模组件。掩模组件可以包括表膜组件和图案形成装置。表膜组件可以包括表膜和框架。粘合剂可以被设置在框架与图案形成装置之间，并且可以与框架和图案形成装置接触，以将框架贴附至图案形成装置。
[0064]
粘合剂可以以单一连续形状提供。该形状可以与框架的形状大致匹配。
[0065]
气封空间可以被形成在表膜组件和图案形成装置之间。在这种实施例中，表膜组件被称为“闭合框架”系统。
[0066]
粘合剂可以是pmma胶。
[0067]
出于若干原因，根据本发明的第十二方面的掩模组件是有利的。
[0068]
根据本发明的第十二方面的掩模组件可以在表膜组件和图案形成装置之间提供气封空间。有利地，这可以防止污染物颗粒进入所述空间，并在由光刻设备施加到衬底的图案中引起误差。
[0069]
根据本发明的第十二方面的掩模组件特别优于已知的布置，该已知布置通常使用被贴附至图案形成装置并与表膜组件接合的中间固定构件(称为螺柱)，如现在讨论的。
[0070]
根据本发明的第十二方面的掩模组件包括比掩模组件更少的部件，该掩模组件使用诸如螺柱(贴附至图案形成装置)和接合机构(设置在表膜组件上)等中间固定构件以与中间固定构件(螺柱)接合。因此，有利地，根据本发明的第十二方面的掩模组件可以相对简单地制造。较少数量的部件和较简单的制造程序可能会导致较低的制造成本。
[0071]
利用使用粘合至图案形成装置的螺柱的已知布置，螺柱和图案形成装置之间的总接触面积相对较小。因此，典型地，图案形成装置的接触每个螺柱的表面区域被蚀刻，以形成螺柱着陆垫。相比之下，在根据本发明的第十二方面的掩模组件中，被贴附至表膜框架的图案形成装置的表面面积通常显着大于在使用螺柱的掩模组件的替代设计中将被贴附至螺柱的图案形成装置的总面积。因此，有利地，在根据本发明的第十二方面的掩模组件中，不需要选择性地蚀刻图案形成装置的表面(这在掩模组件的这种替代设计中可能是必要的，以增加图案形成装置和设置在其上的一个或多个螺柱之间的粘合)。有利地，这可以减少根据本发明的第十二方面的掩模组件的制造时间和制造成本。
[0072]
由于pmma胶的固化(与其他胶相比)，pmma胶的材料特点，特别是pmma胶的弹性和pmma胶可以被施加的尺寸会导致图案形成装置的相对较低的变形。相比之下，如果表膜框架使用已知的环氧胶被直接贴附至图案形成装置，则由于环氧胶固化导致的图案形成装置的变形会明显更大，从而导致由光刻设备投影到衬底上的图案出现误差。因此，通过克服与使用已知环氧胶相关联的问题，使用pmma胶能够生产根据本发明的第十二方面的改进的掩模组件。
[0073]
与已知的环氧胶相比，pmma胶更容易去除，并且相对更具弹性。有利地，这可以使
得形成根据本发明的第十二方面的掩模组件的一部分的表膜组件能够被更容易地替换。
[0074]
要了解的是，上面描述或以下描述中引用的一个或多个方面或特征可以与一个或多个其他方面或特征组合。
附图说明
[0075]
现在本发明的实施例将参照所附示意图仅以示例的方式描述，其中：
[0076]
‑
图1是包括光刻设备和辐射源的光刻系统的示意图；
[0077]
‑
图2是根据本发明的实施例的各种设备和光刻设备的示意图；
[0078]
‑
图3是根据本发明的实施例的掩模组件的透视图；
[0079]
‑
图4是图3的掩模组件的一部分的截面图；
[0080]
‑
图5描绘了形成图3的掩模组件的一部分的接合机构；
[0081]
‑
图6示意性地描绘了根据本发明的实施例的表膜框架附接设备；
[0082]
‑
图7示出了根据本发明的实施例的表膜组件处置系统；
[0083]
‑
图8示出了根据本发明的实施例的图案形成装置处置系统；
[0084]
‑
图9示出了根据本发明的实施例的图7和图8所示的处置系统的布置；
[0085]
‑
图10示出了根据本发明的实施例的光学系统；
[0086]
‑
图11示出了根据本发明的又一实施例的光学系统；
[0087]
‑
图12是表膜框架附接设备的一部分的透视图；
[0088]
‑
图13更详细地示出了表膜框架附接设备的一部分；
[0089]
‑
图14示意性地描绘了表膜框架附接设备的不同部分之间的相互关系；
[0090]
‑
图15和16示意性地描绘了由表膜框架附接设备进行的接合机构的操作；
[0091]
‑
图17更详细地描绘了由表膜框架附接设备进行的接合机构的操作；
[0092]
‑
图18示意性地描绘了根据本发明的实施例的螺柱附接设备；
[0093]
‑
图19在截面中描绘了螺柱附接设备的一部分；以及
[0094]
‑
图20在截面中描绘了图19所示的螺柱附接设备的变型；
[0095]
‑
图21描绘了使用聚(甲基丙烯酸甲酯)基粘合剂将两个主体贴附至彼此的方法；以及
[0096]
‑
图22描绘了根据本发明的实施例的掩模组件的两种设计。
具体实施方式
[0097]
图1示出了光刻系统。光刻系统包括辐射源so和光刻设备la。辐射源so被配置为生成极紫外(euv)辐射束b。光刻设备la包括照射系统il、被配置为支撑包括图案形成装置ma(例如掩模)的掩模组件15的支撑结构mt、投影系统ps和被配置为支撑衬底w的衬底台wt。照射系统il被配置为在辐射束b被入射到图案形成装置ma上之前对其进行调节。投影系统被配置为将辐射束b(现在由图案形成装置ma图案化)投影到衬底w上。衬底w可以包括先前形成的图案。在这种情况下，光刻设备将由图案化的辐射束b与先前形成在衬底w上的图案对准。
[0098]
辐射源so、照射系统il和投影系统ps都可以被构造和布置为使得它们可以与外部环境隔离。压力低于大气压的气体(例如氢气)可以在辐射源so中提供。真空可以在照射系
统il和/或投影系统ps中提供。压力远低于大气压的少量气体(例如氢气)可以在照射系统il和/或投影系统ps中提供。
[0099]
图1所示的辐射源so是可以被称为激光产生等离子体(lpp)源的类型。激光器1(例如可以是co2激光器)被布置为经由激束2将能量沉积到燃料中，诸如从燃料发射器3提供的锡(sn)。虽然锡在以下描述中引用，但是任何合适的燃料可以被使用。燃料可以例如是液体形式，并且可以例如是金属或合金。燃料发射器3可以包括喷嘴，该喷嘴被配置为沿着轨线朝着等离子体形成区域4引导锡，例如以液滴的形式。激束2被入射到等离子体形成区域4处的锡上。将激光能量沉积到锡中在等离子体形成区域4处产生等离子体7。在等离子体的离子去激活和重组期间，包括euv辐射的辐射从等离子体7发射。
[0100]
euv辐射由近法向入射辐射收集器5(有时更一般地称为法向入射辐射收集器)收集和聚焦。收集器5可以具有被布置为反射euv辐射(例如具有诸如13.5nm等期望波长的euv辐射)的多层结构。收集器5可以具有椭圆结构，具有两个椭圆焦点。如下面讨论的，第一焦点可以在等离子体形成区域4处，并且第二焦点可以在中间焦点6处。
[0101]
在激光产生等离子体(lpp)源的其他实施例中，收集器5可以是所谓的掠入射收集器，其被配置为以掠入射角接收euv辐射并将euv辐射聚焦在中间焦点处。掠入射收集器可以例如是嵌套收集器，包括多个掠入射反射器。掠入射反射器可以围绕光轴轴向对称地设置。
[0102]
辐射源so可以包括一个或多个污染陷阱(未示出)。例如，污染陷阱可以位于等离子体形成区域4和辐射收集器5之间。污染陷阱可以例如是旋转箔片陷阱，或者可以是任何其他合适形式的污染陷阱。
[0103]
激光器1可以与辐射源so分离。在这种情况下，激束2可以借助于束传送系统(未示出)从激光器1传递到辐射源so，该束传送系统包括例如合适的取向反射镜和/或扩束器和/或其他光学器件。激光器1和辐射源so可以一起被认为是辐射系统。
[0104]
由收集器5反射的辐射形成辐射束b。辐射束b在点6处聚焦以形成等离子体形成区域4的图像，其充当照射系统il的虚拟辐射源。辐射束b被聚焦的点6可以被称为中间焦点。辐射源so被布置为使得中间焦点6位于辐射源so的封闭结构9中的开口8处或附近。
[0105]
辐射束b从辐射源so传递到照射系统il中，该照射系统il被配置为调节辐射束。照射系统il可以包括琢面场反射镜装置10和琢面光瞳反射镜装置11。琢面场反射镜装置10和琢面光瞳反射镜装置11一起提供具有期望截面形状和期望角分布的辐射束b。辐射束b从照射系统il穿过，并且被入射到由支撑结构mt保持的掩模组件15上。掩模组件15包括图案形成装置ma和由表膜框架17保持就位的表膜19。图案形成装置ma反射辐射束b，并对其进行图案化。照射系统il可以包括其他反射镜或装置，除了或代替琢面场反射镜装置10和琢面光瞳反射镜装置11。
[0106]
在从图案形成装置ma反射之后，图案化的辐射束b进入投影系统ps。投影系统包括多个反射镜，其被配置为将辐射束b投影到由衬底台wt保持的衬底w上。投影系统ps可以对辐射束应用缩减因子，从而形成特征比图案形成装置ma上的对应特征小的图像。例如，缩减因子4可以被应用。尽管投影系统ps在图1中具有两个反射镜，但是投影系统可以包括任何数量的反射镜(例如六个反射镜)。
[0107]
光刻设备可以例如在扫描模式下使用，其中在赋予辐射束的图案被投影到衬底w
上(即，动态曝光)时，支撑结构(例如掩模台)mt和衬底台wt被同步地扫描。衬底台wt相对于支撑结构(例如掩模台)mt的速度和方向可以通过投影系统ps的缩小率和图像反转特点来确定。被入射到衬底w上的图案化辐射束可以包括辐射带。辐射带可以被称为曝光狭缝。在扫描曝光期间，衬底台wt和支撑结构mt的移动可以使得曝光狭缝在衬底w的曝光场上方行进。
[0108]
图1所示的辐射源so和/或光刻设备可以包括未被图示的部件。例如，光谱滤光片可以在辐射源so中提供。光谱滤光片对于euv辐射可以基本上是透射的，但是对于诸如红外辐射等其他波长的辐射基本上是阻挡的。
[0109]
在光刻系统的其他实施例中，辐射源so可以采用其他形式。例如，在替代实施例中，辐射源so可以包括一个或多个自由电子激光器。一个或多个自由电子激光器可以被配置为发射可以被提供给一个或多个光刻设备的euv辐射。
[0110]
如上面简要描述的，掩模组件15包括表膜19，该表膜19设置在图案形成装置ma附近。表膜19被设置在辐射束b的路径中，使得辐射束b在它从照射系统il接近图案形成装置ma时以及在它由图案形成装置ma朝着投影系统ps反射时，穿过表膜19。表膜19包括对euv辐射基本上透明的薄膜(尽管它会吸收少量的euv辐射)。通过euv透明表膜或对euv辐射基本上透明的膜在本文中是指表膜19对于euv辐射的至少65％、优选地至少80％并且更优选地euv辐射的至少90％是透射的。表膜19用于保护图案形成装置ma免受颗粒污染。
[0111]
虽然可以努力维持光刻设备la内部的清洁环境，但是颗粒可能仍然存在于光刻设备la内部。在没有表膜19的情况下，颗粒可以被沉积到图案形成装置ma上。图案形成装置ma上的颗粒可能不利地影响被赋予辐射束b的图案和被转印至衬底w的图案。表膜19有利地在图案形成装置ma与光刻设备la中的环境之间提供阻挡物，以防止颗粒被沉积到图案形成装置ma上。
[0112]
表膜19被定位在距图案形成装置ma一定距离处，该距离足以使被入射到表膜19的表面上的任何颗粒不在光刻设备la的场平面中。表膜19和图案形成装置ma之间的这种分离用于减小表膜19的表面上的任何颗粒向被成像到衬底w上的辐射束b赋予图案的程度。要了解的是，在颗粒存在于辐射束b中但位于不在辐射束b的场平面中的位置(即，不在图案形成装置ma的表面)的情况下，那么颗粒的任何图像将不会在衬底w的表面处的焦点中。在没有其他考虑的情况下，可能期望将表膜19定位在离图案形成装置ma相当远的距离处。然而，实际上，由于存在其他部件，在光刻制作la中可用于容纳表膜的空间是有限的。在一些实施例中，表膜19和图案形成装置ma之间的间隔可以例如大约在1mm和10mm之间，例如在1mm和5mm之间，更优选地在2mm和2.5mm之间。
[0113]
通过将表膜附接至表膜框架并且通过将表膜框架附接至图案形成装置，掩模组件可以被制备用于光刻设备中。包括图案形成装置ma和由表膜框架支撑在图案形成装置附近的表膜的掩模组件可以远离光刻设备la制备，并且掩模组件可以被输送给光刻设备la以在光刻设备la中使用。例如，支撑表膜的表膜框架可以被附接至图案形成装置，以便在图案被赋予到图案形成装置上的地点处形成掩模组件。掩模组件然后可以被输送给光刻设备la所在的单独地点，并且掩模组件可以被提供给光刻设备la以在光刻设备la中使用。
[0114]
其中表膜由表膜框架保持就位的掩模组件可能是精细的，并且掩模组件的输送可能有损坏表膜的风险。附加地，在单独的环境中将掩模组件组装到光刻设备la可能会导致
掩模组件被暴露于各种压力条件。例如，掩模组件可以在环境压力条件下被输送给光刻设备。掩模组件然后可以经由负载锁被装载到光刻设备la中，该负载锁被泵送至真空压力条件。掩模组件被暴露的压力条件的变化可能会导致跨表膜存在压力差，这可能会导致表膜弯曲并可能有损坏表膜的风险。在实施例中，光刻系统可以包括连接至表膜框架附接设备的光刻设备la。在这种情况下，包括掩模和表膜的掩模组件可以直接从表膜框架附接设备转移到光刻设备，同时保持在受控环境(例如真空环境)中。
[0115]
图2是适合于组装掩模组件15并将掩模组件转移到光刻设备la的设备的示意图。图2描绘了可以被用于将表膜19附接至表膜框架17的表膜附接设备855以及可以被用于输送表膜组件的表膜组件输送装置881。另外，螺柱附接设备840被描绘，其可以被用于将螺柱51附接至图案形成装置ma。螺柱51允许将表膜框架17(和表膜19)可释放地附接至图案形成装置ma。可以被用于输送具有已经被附接螺柱的掩模的掩模输送装置880也被描绘了。表膜框架附接设备857也被描绘了，其可以被用于将表膜框架17(和表膜19)附接至图案形成装置ma，从而形成掩模组件15。掩模组件输送装置853还被示出了，其可以被用于将掩模组件15从表膜框架附接设备857输送给光刻设备la。
[0116]
表膜附接设备855可以位于与光刻设备所在地点不同的地点。螺柱附接设备840可以位于与光刻设备la所在地点不同的地点。备选地，表膜附接设备855和螺柱附接设备840中的任一个或两者可以位于与光刻设备la所处地点相同的地点(例如在光刻工厂中)。
[0117]
表膜附接设备855容纳表膜19、表膜框架17和接合机构(未图示)。表膜19和表膜框架17可以被手动放置在表膜附接设备855中。胶被分配在表膜框架17中的接合机构容纳开口处(例如下面进一步描述的位置)。胶分配可以是手动的，或者可以是自动的(或部分自动的)。
[0118]
接合机构和表膜框架17相对于彼此对准(例如使用光学对准设备)，然后接合机构被插入到表膜框架17中的开口中。
[0119]
胶也被分配到表膜框架17上(例如在表膜框架17周围的间隔开的位置处)。胶分配可以是手动的，或者可以是自动的(或部分自动的)。光学对准系统被用于将表膜19相对于表膜框架17对准，然后表膜被压靠表膜框架。
[0120]
表膜19可以由表膜操纵器操纵，该表膜操纵器形成表膜附接设备855的一部分。表膜操纵器可以包括用于拉紧表膜19的部件。表膜操纵器可以拉紧表膜19，并在室温下在足以允许胶固化的时间段内将表膜19保持抵靠表膜框架17，从而将表膜19固定至表膜框架17。然后表膜19上的压力被去除。然后，胶使用固化炉(其可以形成表膜附接设备855的一部分)执行胶在升高温度下的附加固化。这也将会固化把接合机构附接至表膜框架17的胶。在替代方法中，当表膜19被保持抵靠表膜框架时，一些加热可以被施加以固化胶(而不是允许固化在室温下进行)。
[0121]
胶可以由胶分配器提供。胶分配器可以形成表膜附接设备855的一部分。胶分配器可以包括注射器。注射器可以分配胶的限定体积的一种或多种组分。胶分配器可以包括喷嘴。例如，喷嘴可以被连接至注射器，并且胶的一种或多种组分可以使用连接至喷嘴的注射器来提供。胶可以用圆柱形喷嘴施加。胶可以用锥形喷嘴施加。胶分配器可以包括刷子，并且可以使用刷子施加胶的一种或多种组分。胶分配器可以包括海绵，并且可以使用海绵施加胶的一种或多种组分。胶分配器可以包括用于提供胶的一种或多种组分的印刷设备(例
如丝网印刷设备)。胶分配器可以包括用于提供胶的一种或多种组分作为喷雾的分配设备(例如气溶胶喷雾分配系统可以被使用)。要了解的是，胶可以以任何已知的方式提供。
[0122]
胶分配器可以提供多种组分的胶(例如胶的促进剂和引发剂)。胶的一种组分可能比胶的另一组分具有更高的黏度。即，可能存在具有相对较高黏度的胶组分(“厚”组分)和具有相对较低黏度的胶组分(“薄”组分)。在示例实施例中，胶分配器可以使用注射器和喷嘴来分配胶的厚组分。在示例实施例中，胶分配器可以使用刷子、海绵、丝网印刷设备或气溶胶喷雾分配系统来分配胶的薄组分。
[0123]
虽然使用胶将表膜19附接至表膜框架17在上面描述了，但是表膜可以使用任何合适类型的粘结(包括不使用胶)被附接至表膜框架。
[0124]
使用颗粒检查工具来检查所得的表膜组件16。颗粒检查工具可以形成表膜附接设备855的一部分(或者可以是单独的工具)。颗粒检查工具可以被配置为检查设置在表膜19和/或表膜框架17上的颗粒。颗粒检查工具可以例如拒绝颗粒数量大于给定颗粒阈值的表膜组件16。颗粒检查工具还可以被用于在表膜和表膜框架被胶合在一起之前检查表膜19和/或表膜框架17。
[0125]
表膜附接设备855可以被配置为在检查之后将表膜组件16密封在表膜组件输送装置881(密封盒)中。如所描绘的，表膜组件输送装置881可以被布置为将表膜组件保持在表膜19在表膜框架17下方的取向上。因为输送装置881是密封的，所以表膜组件可以在表膜组件16未被污染的情况下输送。表膜组件16可以在输送装置881中被输送给表膜框架附接设备857。
[0126]
表膜附接设备855可以包括清洁环境以减少密封环境内的颗粒数量，从而减少可以被沉积在表膜19上的颗粒数量。表膜附接设备855可以例如位于表膜被制造的地点。在一些实施例中，表膜19可以从制造表膜19的表膜制造工具(未示出)直接被提供给表膜附接设备855。例如，表膜19可以在将表膜19保持在清洁环境内的同时，从表膜制造工具被提供给表膜附接设备855。这可以减少表膜19在被提供给表膜附接设备855之前被污染或损坏的机会。清洁环境可以例如是密封环境(即，与外部环境完全隔离)。密封环境可以被泵送以在密封环境中维持真空。
[0127]
表膜19到表膜框架17的附接可以被控制，以便在表膜19中实现期望的张力。例如，表膜19中的张力可以在将表膜19附接至表膜框架17期间或之后被测量，并且该张力可以响应于测量而被调整，以便在表膜19中实现期望的张力。表膜19中的张力可以例如通过向表膜框架17的部件施加向外的力来维持，以拉紧表膜19。表膜19中的张力可以例如通过使用表膜框架和表膜之间的热膨胀系数的差异来维持。
[0128]
在实施例中，图案形成装置(其可以被称为掩模)ma可以被提供有由接合机构(例如下面进一步描述的)容纳的突起。图案形成装置可以例如容纳四个突起(在本文中称为螺柱)。如图2所描绘的，螺柱附接设备840可以被用于将螺柱51附接至图案形成装置ma。
[0129]
螺柱51和图案形成装置ma可以被手动放置在螺柱附接设备840中。图案形成装置ma可以被保持在与螺柱附接设备840的其余部分分离的受控环境841中。分离或间隔可以由具有开口的分割区842提供，螺柱51可以通过开口突出以接触图案形成装置ma。受控环境841可以被保持在比螺柱附接设备840的其他部分更高的压力下(例如通过受控环境中的出口传送气体)。这将禁止或防止污染颗粒从螺柱附接设备的其他部分传递到受控环境841
中。
[0130]
螺柱附接设备840可以包括螺柱操纵器(未描绘)，诸如用于准确地放置螺柱的机器人或致动器。用于将螺柱放置到图案形成装置上的合适的致动器的示例是洛伦兹(lorentz)致动器(未描绘)。螺柱附接设备840还可以包括用于自动向螺柱表面提供给定量的胶或粘合剂的装置，以被附接至图案形成装置ma。施加胶或粘合剂也可以手动完成。来自胶或粘合剂的污染物对图案形成装置ma的污染通过从分割区842上方的受控环境841到分割区下方的空气流来防止或减少(空气流是由分割区上方的压力比分割区下方的压力高引起的)。
[0131]
螺柱附接设备840还可以包括光学对准系统，该光学对准系统将螺柱相对于掩模版上存在的对准标识对准以便准确地定位螺柱。例如，传统上设置在图案形成装置ma上并用于图案对准的对准标识也可以被用于对准螺柱。
[0132]
螺柱附接设备可以包括支撑结构，其在x
‑
y
‑
z和rz方向上可移动，用于调整图案形成装置ma的位置。保持图案形成装置ma的支撑结构的位置可以借助于粗调和细调机械装置手动调整，或使用自动(或半自动)致动器或者适合于对准和定位的被耦合至图案形成装置台的任何其他类型的装置。
[0133]
一旦螺柱51和图案形成装置ma已经被对准，那么螺柱51被压靠图案形成装置ma。螺柱51可以在室温下在足以允许胶固化的时间段内被保持抵靠图案形成装置ma，从而将螺柱51固定至掩模ma。备选地，螺柱51可以被加热以促进胶的固化。然后可以使用固化炉(其可以形成表膜附接设备840的一部分)执行胶在升高温度下的附加固化。
[0134]
胶可以由胶分配器提供。胶分配器可以形成螺柱附接设备840的一部分。胶分配器可以包括注射器。注射器可以分配胶的限定体积的一种或多种组分。胶分配器可以包括喷嘴。例如，喷嘴可以被连接至注射器，并且胶的一种或多种组分可以使用连接至喷嘴的注射器来提供。胶可以用圆柱形喷嘴施加。胶可以用锥形喷嘴施加。胶分配器可以包括刷子，并且可以使用刷子施加胶的一种或多种组分。胶分配器可以包括海绵，并且可以使用海绵施加胶的一种或多种组分。胶分配器可以包括用于提供胶的一种或多种组分的印刷设备(例如丝网印刷设备)。胶分配器可以包括分配设备(例如气溶胶喷雾分配系统可以被使用)，用于提供胶的一种或多种组分作为喷雾。要了解的是，可以以任何已知的方式提供胶。
[0135]
胶分配器可以提供多种组分的胶(例如胶的促进剂和引发剂)。胶的一种组分可能比胶的另一组分具有更高的黏度。即，可能存在具有相对较高黏度的胶组分(“厚”组分)和具有相对较低黏度的胶组分(“薄”组分)。在示例实施例中，胶分配器可以使用注射器和喷嘴分配胶的厚组分。在示例实施例中，胶分配器可以使用刷子、海绵、丝网印刷设备或气溶胶喷雾分配系统来分配胶的薄组分。
[0136]
图案形成装置ma和螺柱51可以使用颗粒检查工具(其可以形成螺柱附接设备840的一部分)来检查。
[0137]
螺柱附接设备840将图案形成装置ma和螺柱51密封在掩模输送装置880(密封盒)中。因为掩模输送装置880是密封的，所以图案形成装置ma和螺柱51可以在掩模ma未被污染的情况下输送。图案形成装置ma和螺柱可以在掩模输送装置880中被输送给表膜框架附接设备857。
[0138]
在实施例中，掩模ma在密封盒中被提供给螺柱附接设备840(以降低污染的风险)。
盒子可以保持密封，直到在螺柱51将被附接至图案形成装置ma之前，从而最小化污染可能行进到掩模ma的时间。
[0139]
螺柱附接设备840的受控环境841可以部分地由壳体提供，该壳体随后形成图案形成装置ma输送装置880(密封盒)。壳体可以形成掩模输送装置880的壁和顶板，掩模输送装置880的底板由在螺柱51已经被附接之后(例如紧接其后)装配的板形成。通过这种方式使用壳体可以辅助防止污染被入射到图案形成装置ma上。壳体可以包括传送盒的盖子。螺柱附接设备840的掩模台可以被配置为容纳壳体。
[0140]
类似地，表膜附接设备855也可以部分地由壳体形成，该壳体随后形成表膜组件输送装置881的一部分。
[0141]
表膜组件输送装置881中的表膜组件16和掩模输送装置880中的图案形成装置ma(和螺柱51)都被输送给表膜框架附接设备857。表膜框架附接设备857可以在一个或多个光刻设备也被提供的工厂中提供。
[0142]
表膜框架附接设备857被配置为将表膜组件16的表膜框架17附接至图案形成装置ma上的螺柱51以形成掩模组件15。表膜框架附接设备857可以包括受控环境860，其与表膜框架附接设备857的其余部分分离或间隔。分离或间隔可以由具有开口的分割区862提供，操纵器延伸通过该开口(未在图2中示出)。操纵器可以由控制系统870(下面进一步描述的)操作。受控环境860可以被维持为清洁环境，以减少受控环境内的颗粒数量，从而减少可以被沉积在掩模组件15上的颗粒数量。受控环境860可以被保持在比表膜框架附接设备857的其他部分高的压力下(例如通过受控环境860中的出口传送气体)。这将禁止或防止污染颗粒从表膜框架附接设备857的其他部分传递到受控环境860中。
[0143]
由表膜框架附接设备857组装的掩模组件15在掩模组件输送装置853中从表膜框架附接设备857输送给光刻设备la。掩模组件输送装置853可以包括掩模组件15被输送的密封和清洁环境。这减少了掩模组件15的运输期间掩模组件15被污染或损坏的机会。密封和清洁环境可以例如被泵送至真空。
[0144]
表膜框架附接设备857可以被用于将表膜组件16安装、拆卸或重新安装至图案形成装置ma/从图案形成装置ma安装、拆卸或重新安装表膜组件16。表膜框架附接设备857可以包括被布置为操纵表膜框架17的接合机构的操纵器(如下面进一步描述的)。
[0145]
例如，图案形成装置ma可以被提供有对准标记。表膜框架17可以相对于图案形成装置ma上的对准标记定位。将表膜框架17相对于图案形成装置ma上的对准标记对准可以有利地提高表膜框架17在将表膜框架17附接至图案形成装置ma期间被定位在图案形成装置ma上的准确度。
[0146]
在一些实施例中，图案形成装置ma可以在表膜框架附接设备857中清洁，例如以从图案形成装置ma去除颗粒。在其他实施例中，图案形成装置ma的清洁可以在专用清洁工具中执行。
[0147]
虽然所图示的实施例示出了表膜框架17被附接至掩模ma的前面，但是在其他实施例中，表膜框架17可以被附接至掩模ma的其他部分。例如，表膜框架17可以被附接至掩模ma的侧面。这可以例如使用子安装台来实现，该子安装台在表膜框架17和掩模ma的侧面之间提供可释放的可接合附接。在替代布置中，表膜框架17可以通过掩模ma侧面的一些附接位置和掩模ma前面的一些附接位置的组合而被附接至掩模ma。附接可以例如由可释放地接合
表膜框架17和掩模ma的子安装台提供。
[0148]
在一些实施例中，表膜框架附接设备857可以包括颗粒检查工具(未示出)。颗粒检查工具可以被配置为针对设置在掩模组件15上的颗粒检查掩模组件15。颗粒检查工具可以例如拒绝设置在它们上的颗粒数量大于给定颗粒阈值的掩模组件15。
[0149]
在一些实施例中，表膜框架附接设备857可以包括图案检查系统，其检查图案形成装置ma上的图案是否有任何缺陷。图案检查系统可以在表膜框架17被附接至图案形成装置ma之前和/或之后检查图案形成装置ma上的图案。
[0150]
表膜框架17到图案形成装置ma的附接可以被控制，以便在表膜19中实现期望的张力。例如，表膜19中的张力可以在将表膜框架17附接至图案形成装置ma期间测量，并且张力可以响应于测量而被调整以便在表膜19中实现期望张力。
[0151]
光刻设备la可以例如对应于图1所描绘的光刻设备la。光刻设备la可以包括被配置为从掩模组件输送装置853接收掩模组件15并将掩模组件15装载到光刻设备la的支撑结构mt上的部件。掩模组件15可以用由照射系统il提供的经调节的辐射束b来照射。掩模组件15的图案形成装置ma可以在其截面中向经调节的辐射束赋予图案，以形成图案化的辐射束。图案化的辐射束可以由投影系统ps投影到由衬底台wt保持的衬底w上。经调节的辐射束可以例如包括euv辐射。在经调节的辐射束包括euv辐射的实施例中，掩模组件15的表膜19可以基本上对euv辐射透明。
[0152]
在一些实施例中，表膜组件16可以被附接至图案形成装置ma，以便在表膜框架附接设备857中的真空条件下形成掩模组件15。掩模组件15随后可以由掩模组件输送装置853在真空条件下被输送给光刻设备la，并且可以在光刻设备la中被保持在真空条件下。因此，掩模组件15可以在其在表膜框架附接设备857中的整个组装过程中被暴露于近似相同的压力条件，并且在光刻设备la中使用。这有利地减少了掩模组件15被暴露的任何压力变化，并因此减少了可能在表膜19上产生的任何压力差。
[0153]
在一些实施例中，在部件被保持在真空中的同时，图案形成装置ma和/或表膜19可以针对表膜框架附接设备857中的颗粒和/或缺陷检查。因此，有利地，图案形成装置ma和/或表膜19在与它们在光刻设备la中使用期间所暴露的压力条件类似的压力条件下进行检查。这是有利的，因为在泵送至真空条件期间可以被沉积到图案形成装置ma和/或表膜上的任何颗粒可以在表膜框架附接设备857中检测。
[0154]
在一些实施例中，光刻系统还可以包括单独的检查设备(未示出)，其被配置为针对颗粒和/或缺陷检查掩模组件15的一个或多个部件。在被组装在表膜框架附接设备857中之后并且在将掩模组件15输送给光刻设备la之前，掩模组件15可以例如被输送给检查设备(例如由掩模组件输送装置853)。
[0155]
如上所述的本发明的实施例有利地允许掩模组件15在自动(或半自动)过程中被组装并传递给光刻设备la。掩模组件15的组装和输送都可以在密封的清洁环境中进行，该环境可以例如被泵送至真空压力条件。这可以减少在光刻设备la中使用掩模组件15之前掩模组件15的部件被污染或损坏的机会。
[0156]
通常，表膜19的有用寿命可能小于图案形成装置ma的有用寿命。因此，可能期望从图案形成装置ma去除表膜组件16，并用新的表膜组件替换表膜组件以允许继续使用图案形成装置ma。例如，表膜组件16的替换可以在表膜框架附接设备857中执行。例如，在光刻设备
la中使用之后，针对表膜框架附接设备857中的表膜组件替换，掩模组件15可以使用掩模组件输送装置853被传递回表膜框架附接设备857。在表膜组件16被去除之后，图案形成装置ma可以经受清洁过程，以从图案形成装置ma去除污染。在图案形成装置经受清洁过程之前，螺柱51可以从图案形成装置ma去除。
[0157]
要注意的是，在图2所描绘的各种操作期间，图案形成装置ma的图案化侧被定向向下。保持图案形成装置ma的图案化侧向下是有利的，因为这降低了污染颗粒被入射到图案上的可能性。由于重力，较大的污染颗粒倾向于向下落下，因此会被入射到掩模的相对侧。较小的污染颗粒受重力的影响较小，而可能会受到其他输送物理学的影响。本发明的实施例的设备可以包括旨在解决这个问题的装置。例如，该设备可以包括电离器以去除静电荷，从而降低静电导致颗粒被附接至表膜的风险。
[0158]
掩模组件在图3至5中图示。表膜框架17和表膜19相对于图案形成装置ma悬挂。表膜框架17与图案形成装置ma可释放地接合。可释放接合由包括多个子安装台10(例如2、3、4个甚或更多子安装台)的安装台提供。该安装台允许以容易且方便的方式将表膜框架17(和表膜19)从图案形成装置ma去除。从图案形成装置ma去除表膜框架17和表膜19可以是清洁的，即，可以基本上不生成污染颗粒。一旦表膜框架17已经从图案形成装置ma去除，图案形成装置ma可以使用检查工具来检查(并且如果需要的话可以被清洁)。表膜框架17和表膜19随后可以被容易地重新附接至图案形成装置ma，或者可以用新的表膜框架17和表膜19替换。安装台的每个子安装台10由接合机构和突起形成(下面参照图4更详细地讨论)。
[0159]
首先参照图3，表膜19被附接至表膜框架17。表膜19可以例如被胶合至表膜框架17。表膜框架17被提供有四个接合机构50a至50d。每个接合机构50a至50d被设置在斜坡部分49a至49d上。斜坡部分49a至49d通常是梯形的。斜坡部分49a至49d被附接至表膜框架17，并且在表膜框架17的主平面中从表膜框架17突出。每个接合机构50a至50d被配置为容纳从图案形成装置ma延伸的突起51(其可以例如被称为螺柱51)(如下面结合图4描述的)。两个接合机构50a、50b被设置在表膜框架17的一侧，并且两个接合机构50c、50d被设置在表膜框架17的相对侧。其他组合也是可能的，诸如接合机构50在四个框架侧中的每个框架侧等。接合机构50a至50d被设置在表膜框架17的侧面，其在光刻设备la中使用期间将在扫描方向上取向(根据惯常标记法，在图3中被指示为y方向)。然而，接合机构50a至50d也可以被设置在表膜框架17的侧面，其在光刻设备la中使用期间将垂直于扫描方向取向(根据传统符号，在图3中被指示为x方向)。
[0160]
由接合机构50a至50d容纳的突起51可以位于图案形成装置ma的前表面上。附加地或备选地，突起51可以位于图案形成装置ma的侧面。突起51可以从图案形成装置ma的侧面向上延伸。在这种布置中，突起51可以分别具有平坦的侧表面，以有助于稳固地粘结至图案形成装置ma的一侧。
[0161]
图3描绘了固定至表膜框架17的四个接合机构50a至50d。两个接合机构50a、50d被配置为允许在y方向上的移动(即，在y方向上提供可挠性或顺应性)。两个接合机构50b、50c被配置为允许在x方向上的移动(即，在x方向上提供可挠性或顺应性)。然而，所有四个接合机构50a至50d都被配置为允许经由y方向上的移动在接合机构50a至50d和突起51(未描绘)之间实现，因此，如可以看到的，所有四个接合机构50a至50d都包括在y方向上延伸的接合臂80。这种配置的可能缺点是在y方向扫描移动期间突然减速可能会导致接合机构50a至
50d滑出与突起的附接(由于表膜框架17的惯性)。例如，如果掩模支撑结构mt发生
‘
碰撞’，则可能会发生这种情况(参见图1)。在替代布置中，所有四个接合机构50a至50d可以包括在x方向(即，非扫描方向)上延伸的接合臂80。使接合臂80全部沿着非扫描方向延伸是有利的，因为这避免了y方向突然减速导致接合机构50a至50d脱离的可能性。通常，每个接合机构50a至50d的接合臂80都可以沿着基本上相同的方向延伸。
[0162]
为了允许在x方向上的移动/可挠性，支撑两个接合机构50b、50c的锁定构件的臂62在y方向上延伸。这些臂62在x方向上是弹性可挠性的，并且因此提供在x方向上的移动/可挠性。因此，两个接合机构50b、50c的接合臂80大致平行于那些接合机构的臂62延伸。为了允许在y方向上的移动/可挠性，支撑其他两个接合机构50a、50d的锁定构件的臂62在x方向上延伸。这些臂62在y方向上是弹性可挠性的，并且因此提供在y方向上的移动/可挠性。因此，两个接合机构50a、50d的接合臂80大致垂直于那些接合机构的臂62延伸。由接合机构50a至50d提供的移动/可挠性允许在发生温度变化时根据需要使表膜框架17相对于图案形成装置ma折曲。这是有利的，因为它避免了在表膜框架17中产生的潜在破坏性热应力。
[0163]
图3中的接合机构50a至50d被描绘有与图5所描绘的突片56具有不同配置的突片56。然而，突片56提供有助于接合机构50a至50d和表膜框架17之间的接合的相同功能。任何合适配置的突片56可以被使用。
[0164]
图4在截面中描绘了一个接合机构50a连同从图案形成装置ma突出的突起51。接合机构50a和突起51一起构成子安装台10。突起51(可以被称为螺柱)例如可以被胶合至图案形成装置ma，或可以通过其他粘结部件(光学接触力、磁力或范德华力等)附接。突起51包括位于从基底57延伸的轴55上的远侧头部53。基底57例如通过使用胶被固定至图案形成装置ma。轴55和远侧头部53可以是圆柱形的，或者它们可以具有任何其他合适的截面形状。
[0165]
子安装台10相对于图案形成装置ma悬挂表膜框架17，使得表膜框架17和图案形成装置ma之间存在间隙g(其可以被认为是狭缝)。间隙g可以通过接合机构50a的帽66与突起51的远侧头部53之间的接合(或通过一些其他移动限制部件)来维持。间隙g可以足够宽，以允许外部环境和表膜19与图案形成装置ma之间的空间之间的压力平衡。间隙g也可以足够窄，以提供对污染颗粒从外部环境到表膜19和图案形成装置ma之间的空间的潜在路线的期望限制。间隙g可以例如至少为100微米，以允许外部环境和表膜19与图案形成装置ma之间的空间之间的压力平衡。间隙g可以例如小于500微米，更优选地小于300微米。间隙g可以例如在200微米和300微米之间。
[0166]
图5更详细地描绘了图4的子安装台10(包括接合机构50a和突起51)。附接至接合机构50a的表膜框架17未在图5中描绘。类似地，突起51从其突出的图案形成装置ma未在图5中描绘。图5a示出了从下面查看的子安装台10，并且图5b在从下面看到的透视图中示出了子安装台10。
[0167]
接合机构50a包括被容纳在表膜框架17中的开口中的矩形外壁60(参见图3)。一对臂62在y方向上延伸穿过由外壁60限定的空间。连接构件63在臂62的远端之间延伸。臂62是弹性构件的示例。其他弹性构件可以被使用。臂62和连接构件63一起形成大致u形的支撑件。锁定构件70被连接至大致u形支撑件的远端。锁定构件70与突起51(其可以被称为螺柱)接合，从而将表膜框架17固定至图案形成装置ma。
[0168]
锁定构件70包括配备有接合突片81的一对接合臂80，并且还包括帽66。如在图5b
中可以最好地看到的，当锁定构件70与突起51接合时，接合突片81压靠突起51的远侧头部53的下表面，并且帽66压靠远侧头部53的外表面。接合突片81和帽66这种压靠突起51的远侧头部53将接合机构50a固定至突起，以提供固定的子安装台10。这提供了表膜框架17和图案形成装置ma之间的固定连接。
[0169]
帽66和接合臂80从中间臂82a、82b延伸。中间臂82a、82b从连接构件63延伸，并且沿着y方向向回延伸穿过通常由外壁60限定的空间。连接构件83在中间臂82a、82b之间延伸。中间臂82a、82b和连接构件83一起形成大致u形的支撑件。
[0170]
因此，由臂62和连接构件63形成的第一大致u形支撑件在y方向上延伸跨过通常由外壁60限定的空间，并且由支撑臂82a、82b和连接构件83形成的第二u形支撑件向回延伸跨过该空间。
[0171]
形成第一大致u形支撑件的臂62在x方向上具有一些可挠性，并且这允许锁定构件70在x方向上的一些移动。因此，子安装台10允许表膜框架相对于该子安装台位置处的图案形成装置在x方向上的一些移动。臂62由弹性材料形成，并且因此倾向于返回到其原始取向。子安装台10可以被认为是运动子安装台。臂62在z方向上明显比在x方向上厚(如在图5b中可以最好地看到的)，因此与臂在x方向上的弯曲相比，臂在z方向上的弯曲可能显着更少。由于臂在y方向上延伸，因此它们不提供在y方向上的显着移动。臂62因此可以防止或基本上防止表膜框架17在y和z方向上的局部移动，同时允许表膜框架17在x方向上的一些移动。
[0172]
帽66自第一支撑臂82a延伸。接合臂80自第二支撑臂82b延伸。第一支撑臂82a在x方向上明显比臂62厚，因此允许相对于臂62在x方向上的显着移动。第二支撑臂82b在x方向上具有与臂62类似的厚度，但是在中间臂82a、82b之间延伸的连接构件83禁止第二支撑臂82b在x方向上的移动，因为只有在第一支撑臂82a也移动时才可能会发生这种移动。
[0173]
接合臂80从第二支撑臂82b沿着帽66的大体方向延伸。接合臂80的近端沿着第二支撑臂82b的大部分延伸(从而基本上防止接合臂80在大致平行于图案形成装置ma的图案化表面的方向上折曲)。接合臂80在它们沿着帽66的大体方向延伸时逐渐变细。接合突片81从接合臂80的远端向内延伸，以与突起51的远侧头部53的下表面接合。块54被设置在接合突片81上方，并提供致动器容纳表面，如下面进一步解释的。接合臂80在z方向上可弹性变形。接合臂80可以足够薄以致它们在z方向上弯曲。附加地或备选地，接合臂80在z方向上的一些弯曲可以通过在接合臂80连接至支撑臂82b的点处在y方向上延伸的凹槽59来促进。
[0174]
突片56从外壁60向外延伸。突片56可以被用于将接合机构50a固定至表膜框架。这在图3中描绘，但具有不同配置的突片56。
[0175]
表膜框架附接设备857的实施例在图6中描绘。表膜框架附接设备857可以对应于图2所示的表膜框架附接设备857。图6在截面中示意性地示出了表膜框架附接设备857。掩模组件15包括提供有表膜框架17和表膜19(未描绘)的图案形成装置ma。框架17被提供有四个接合机构50，其对应于上面结合图3至5进一步描述的接合机构50a至50d。表膜框架附接设备857的销1090通过分割区862中的孔895突出。分割区862可以对应于支撑结构101或位于支撑结构101的顶部。窗893、894位于支撑结构101中，并且成像传感器105、106位于窗893、894下方。对准标记109被设置在窗893、894上。对准标记704也被设置在图案形成装置ma上。
[0176]
附加支撑结构97被设置在表膜框架附接设备857的外周处。附加支撑结构可以具有固定位置(如所描绘的)，并且在本文中被称为固定支撑结构97。中间支撑结构98被设置在固定支撑结构97的顶部。中间支撑结构98从固定支撑结构97向内延伸，如所描绘的。在将表膜框架17附接至图案形成装置ma之前，中间支撑结构98支撑表膜框架17和图案形成装置ma。中间支撑结构98和其他实体之间的触点99可以例如是运动学连接。触点99可以被提供有聚醚醚酮(peek)涂层。
[0177]
在使用中，表膜组件16被装载到表膜框架附接设备857中。它可以被转移到表膜框架附接设备857，而不使其暴露于污染。例如，表膜组件输送装置881可以被容纳在表膜框架附接设备857内的负载锁或受控流动环境中，并且表膜组件16可以从负载锁或受控流动环境内的输送装置去除。然后表膜组件16可以被转移到分割区862上方的受控环境857。
[0178]
表膜组件16可以相对于表膜框架附接设备857定位，例如使用表膜组件处置系统。表膜组件处置系统可以包括表膜组件夹持器。图7示出了表膜组件夹持器400的示例。图7a示出了表膜组件夹持器400的顶视图。图7a还示出了表膜组件16。图7a所示的表膜组件16可以对应于图3所示的表膜组件16。图7b示出了表膜组件夹持器400的透视图。表膜组件夹持器400包括：第一臂402a；第二臂402b；多个表膜组件对准器406；以及多个表膜组件支撑垫408。
[0179]
第一臂402a和第二臂402b分别包括基座部410和夹持部分412。第一臂402a和第二臂402b中的每一个的基座部410可移动地附接至表膜组件夹持器控制设备422。具体地，第一臂402a和第二臂402b中的每一个的基座部410可旋转地或枢转地附接至表膜组件夹持器控制设备422。第一臂402a和第二臂402b中的每一个可以被描述为在至少打开位置和闭合位置之间可移动。第一臂402a的夹持部分412与第二臂402b的夹持部分412之间的间隙414可以变化。间隙414可以通过移动第一臂402a和第二臂402b中的任一个或两者来改变。间隙414可以使用形成表膜组件夹持器控制设备422的一部分的表膜组件夹持器控制旋钮424来改变。表膜组件夹持器控制旋钮424被配置为使得其旋转更改臂402a、402b的位置和/或旋转，从而更改间隙414。表膜组件夹持器400可以被描述为处于打开配置或闭合配置。表膜组件夹持器400的打开配置可以对应于表膜组件夹持器400的第一臂402a和第二臂402b，其限定比表膜组件夹持器400处于闭合配置时存在的间隙414更宽的间隙414。在图7中，表膜组件夹持器400被示出为处于闭合配置。在表膜组件夹持器400的闭合配置中，间隙414的大小与表膜框架17的外部尺寸近似相同。在表膜组件夹持器400的打开配置中，间隙414大于表膜框架17的所述外部尺寸。
[0180]
多个表膜组件对准器406和多个表膜组件支撑垫408被布置为使得至少一个表膜组件对准器406和至少一个表膜组件支撑垫408被设置在每个臂402a、402b的夹持部分412上。图7所示的表膜组件夹持器400包括每个臂402a、402b上的两个表膜组件对准器406和两个表膜组件支撑垫408。每个表膜组件对准器406被设置在间隙414内。每个表膜组件支撑垫408被设置在间隙414内。表膜组件对准器406和表膜组件支撑垫408的大致立方体主体416的表面可以是大致平坦的。具体地，表膜组件对准器406和表膜组件支撑垫408的大致立方体主体416的面向间隙414的表面可以是大致平坦的。每个表膜组件支撑垫408包括被提供有搁板420的大致立方体主体416。每个搁板420从对应的大致立方体主体416突出。每个搁板420突出到间隙414中。每个支撑垫408可以被描述为大致呈l形。支撑垫408(即，搁板420)
的突出部分可以被描述为提供凸耳。支撑垫408的搁板420被成形和设置为支撑表膜框架17的部分。每个搁板420被配置为能够支撑表膜组件16的斜坡部分49(参见图3)。具体地，支撑垫408的搁板420被成形和设置为当表膜组件16被放置在表膜组件夹持器400的夹持部分412内并且当表膜组件夹持器400处于闭合配置时，支撑表膜框架17的斜坡部分49。支撑垫408的搁板420被配置为局部地接触表膜组件16的斜坡部分49的表面，并向其施加大致垂直于表膜组件16的平面的力以支撑表膜组件16。
[0181]
每个表膜组件对准器406包括被附接至对准头418的大致立方体主体416。每个对准头418自对应的大致立方体主体416的一部分突起。每个对准头418突起到间隙414中。每个对准头418可以是圆形的。对准器406的对准头418被成形和设置为与表膜框架17的部分接触。每个对准头418被配置为能够与表膜组件16的斜坡部分49的边缘接触(参见图3)。具体地，支撑垫408的对准头418被成形和设置为确保当表膜组件16被放置在表膜组件夹持器400的夹持部分412内并且当表膜组件夹持器400处于闭合配置时，确保表膜框架17处于预定位置。对准器406的对准头418被配置为局部地接触表膜组件16的斜坡部分49的表面，并大致在表膜组件16的平面中向其施加力以对准表膜组件16。
[0182]
多个表膜组件对准器406和多个表膜组件支撑垫408可以由peek形成。备选地，多个表膜组件对准器406和/或多个表膜组件支撑垫408可以由不同材料形成。
[0183]
表膜组件夹持器400的部件可以根据用户要求形成。第一臂402a和第二臂402b中的每一个都可以由材料的连续区段形成。第一臂402a和第二臂402b中的每一个都可以由材料的多个子区段形成。第一臂402a和第二臂402b中的每一个可以包括一个或多个切口(例如空隙、孔隙或凹部)。切口可能有益于减轻臂402a、402b的重量。切口可能有益于降低臂402a、402b的制造成本。切口可以被形成为使得切口不包括尖角。切口的角可以是圆形的。切口的圆角可能有益于减少切口被提供的结构内的机械应力(相对于圆角未被提供)。在图7中，第一臂402a包括具有圆角的单个切口，并且第二臂包括具有圆角的两个切口。
[0184]
切口可以提供内部铰链点419(例如形成为活动铰链)。切口可以被成形为使得它们为由铰链点启用的任何移动提供终点止动件。切口可以被描述为构成表膜组件夹持器400的结构的活动部分。有利地，切口可以减少部件之间的摩擦(相对于使用标准铰链)。较低的摩擦可能会导致较少的微粒生成和随后的污染。进一步地，切口可以减少公差积累(相对于使用标准铰链)。
[0185]
图案形成装置ma(具有螺柱51)可以被转移到表膜框架附接设备857，而不将其暴露于污染。例如，掩模输送装置881可以被容纳在表膜框架附接设备857内的负载锁或受控流动环境中，并且图案形成装置ma可以从负载锁或受控流动环境内的输送装置去除。然后图案形成装置ma可以被转移到分割区862上方的受控环境857。
[0186]
可以，例如使用图案形成装置处置系统，相对于表膜框架附接设备857定位图案形成装置ma。图案形成装置处置系统可以包括图案形成装置夹持器。图8示出了图案形成装置夹持器500的示例。图8a示出了图案形成装置夹持器500的顶视图。图8b示出了图案形成装置夹持器500的透视图。图案形成装置夹持器500包括：第一臂502a；第二臂502b；第三臂502c；多个图案形成装置对准器506；以及多个图案形成装置支撑指状物508。
[0187]
第一臂502a和第二臂502b中的每一个是大致l形的。第一臂502a和第二臂502b中的每一个包括基座部501和远侧部503。基座部501和对应的远侧部503通常相互垂直。第一
臂502a和第二臂502b中的每一个的基座部501从图案形成装置夹持器控制系统522延伸。第一臂502a的基座部501和第二臂502b的基座部501通常相互垂直。第三臂502c的形状与第二臂502b的基座部501大致相同。第三臂502c不包括远侧部。在图8a所示的图案形成装置夹持器500的顶视图中，第三臂502c基本上被第二臂502b隐藏而看不见。第三臂502c可以被描述为设置在第二臂502b的基座部501下方。由于第三臂502c在图8a和8b中通常被隐藏而看不见，因此区域516在这些附图中提供，其图示了第三臂(在第二臂502b下方)的空间范围。
[0188]
臂502a、502b、502c中的每一个的基座部501被固定至图案形成装置夹持器控制设备522。臂502a、502b、502c中的每一个的基座部501可移动地附接至图案形成装置夹持器控制设备522。具体地，臂502a、502b、502c中的每一个的基座部501可旋转地或枢转地附接至图案形成装置夹持器控制设备522。臂502a、502b、502c中的每一个被附接至图案形成装置夹持器控制系统522的点可以是弹簧负载的。臂502a、502b、502c中的每一个都围绕由点限定的轴线可旋转(相对于图案形成装置夹持器控制系统522)，其中臂502a、502b、502c中的每一个分别可移动地附接至图案形成装置夹持器控制系统522。臂502a、502b、502c中的每一个可以被描述为在至少打开位置和闭合位置之间可移动。臂502a的基座部501和臂502b、502c的基座部501之间的角度可以通过臂502a、502b、502c的移动而改变。然而，当臂502a、502b、502c中的每一个被设置在闭合位置时，臂502a的基座部501大致垂直于臂502b、502c的基座部501。臂502a、502b、502c被成形和设置为使得臂502a、502b、502c在它们之间限定大致矩形的空间514。
[0189]
大致矩形的空间514的大小和形状可以变化。通过相对于图案形成装置夹持器控制系统522移动臂502a、502b、502c，可以改变大致矩形空间514的大小和形状。使用形成图案形成装置夹持器控制设备522的一部分的图案形成装置夹持器控制旋钮524，可以变化大致矩形空间514的大小和形状。图案形成装置夹持器控制旋钮524被配置为使得其旋转更改臂502a、502b、502c(相对于图案形成装置夹持器控制系统522)的位置和/或旋转，从而更改大致矩形空间514的大小和形状。图案形成装置夹持器500可以被描述为处于打开配置或闭合配置。图案形成装置夹持器500的打开配置可以对应于图案形成装置夹持器500的臂502a、502b、502c，当图案形成装置夹持器500处于闭合配置时，其限定了比大致矩形空间514更大的大致矩形空间514。在图8中，图案形成装置夹持器500被示出为处于闭合配置。在图案形成装置夹持器500的闭合配置中，大致矩形空间514的尺寸类似于但略小于图案形成装置ma的两个外部尺寸。当图案形成装置夹持器500处于闭合配置时，臂502a、502b、502c中的每一个与图案形成装置夹持器控制系统522之间的弹簧负载连接允许大致矩形的空间514被增大到图案形成装置ma的两个外部尺寸的大小。在图案形成装置夹持器500的打开配置中，大致矩形空间514大于由图案形成装置ma的两个外部尺寸限定的空间。
[0190]
每个图案形成装置支撑指状物508包括突起510。每个突起510从臂502a、502b、502c之一突出到大致矩形空间514中。在图8所示的图案形成装置夹持器500中，一个图案形成装置支撑指状物508被附接至第一臂502a的基座部501，一个图案形成装置支撑指状物508被附接至第一臂502a的远侧部503，并且一个图案形成装置支撑指状物508被附接至第二臂502b的基座部501。
[0191]
图案形成装置支撑指状物508的突起510可以被描述为提供凸耳。图案形成装置支撑指状物508的突起510被成形和设置为支撑图案形成装置ma的部分。具体地，当图案形成
装置ma 16被放置在大致矩形空间514内并且当图案形成装置夹持器500处于闭合配置时，支撑指状物508的突起510被成形和设置为支撑图案形成装置ma的部分。图案形成装置支撑指状物508的突起510被配置为局部地接触图案形成装置的表面，并向其施加大致垂直于图案形成装置的平面的力以支撑图案形成装置。
[0192]
每个图案形成装置对准器506包括大致圆柱形构件。大致圆柱形的构件可以被描述为轮子。每个图案形成装置对准器506使用轴线和一个或多个补充构件被附接至臂502a、502b、502c之一，使得每个图案形成装置对准器506围绕其纵轴可旋转。每个图案形成装置对准器506从臂502a、502b、502c之一突出到大致矩形空间514中。在图8所示的图案形成装置夹持器500中，一个图案形成装置对准器506被附接至第一臂502a的基座部501，一个图案形成装置对准器506被附接至第一臂502a的远侧部503，一个图案形成装置对准器506被附接至第三臂502c，并且两个图案形成装置对准器506被附接至第二臂502b的远侧部503。图案形成装置对准器506被成形和设置为与图案形成装置ma的部分接触。具体地，图案形成装置对准器506被成形和设置为当图案形成装置ma被放置在大致矩形空间514内并且当图案形成装置夹持器500处于闭合配置时，确保图案形成装置ma处于预定位置。图案形成装置对准器506被配置为局部地接触图案形成装置ma的表面，并且大致在图案形成装置ma的平面中向其施加力以对准图案形成装置ma。
[0193]
多个图案形成装置对准器506和多个图案形成装置支撑指状物508可以由peek形成。备选地，多个图案形成装置对准器506和/或多个图案形成装置支撑指状物508可以由不同材料形成。
[0194]
图案形成装置夹持器500的部件可以根据用户要求形成。臂502a、502b、502c中的每一个可以由材料的连续区段形成。臂502a、502b、502c中的每一个都可以由材料的多个子区段形成。臂502a、502b、502c中的每一个可以包括一个或多个切口(例如空隙、孔隙或凹部)。所述切口可能有益于减轻臂502a、502b、502c的重量。所述切口可能有益于降低臂502a、502b、502c的制造成本。所述切口可以被形成为使得切口不包括尖角。所述切口的角可以是圆形的。切口的圆角可能有益于减少切口被提供的结构内的机械应力(相对于圆角未被提供)。图8所示的图案形成装置夹持器500的臂502a、502b、502c中的每一个包括具有圆角的多个切口。
[0195]
切口可以提供内部铰链点419(例如形成为活动铰链)。切口可以被成形为使得它们为由铰链点启用的任何移动提供终点止动件。切口可以被描述为构成图案形成装置夹持器500的结构的活动部分。有利地，切口可以减少部件之间的摩擦(相对于使用标准铰链)。较低的摩擦可能会导致较少的微粒生成和随后的污染。进一步地，切口可以减少公差积累(相对于使用标准铰链)。
[0196]
图9a示出了示例布置200，其包括图7a和7b所示的表膜组件夹持器400和图8a和8b所示的图案形成装置夹持器500。
[0197]
如图9a所示，第一臂402a、第二臂402b和表膜组件夹持器控制系统422被附接至第一中间构件426。第一中间构件426包括：手柄428；竖直控制旋钮430；以及锁定块432。类似地，图案形成装置夹持器控制系统522被附接至第二中间构件526。第二中间构件526包括：手柄528；竖直控制旋钮530；以及锁定块532。第一中间构件426被附接至阻尼器组件201。第二中间构件526被附接至阻尼器组件202。
[0198]
阻尼器组件202在图9b中更详细地示出。阻尼器组件202包括：具有空腔212的主体210；以及被设置在空腔212内的阻尼器机制214。阻尼器机制214包括：活塞壳体204；活塞206；以及紧固装置208。活塞206能够相对于活塞壳体204移动。活塞206能够相对于活塞壳体204通常仅在一个维度上移动。该维度可以是z维度(参见图9a和9b中的轴线)。活塞206被可移动地附接至活塞壳体204的端部，使得活塞206被包含在活塞壳体204内的程度可以变化。除非受到外力作用，否则活塞206将通常保持静止。活塞206的功能是阻尼移动。阻尼可以使用活塞壳体204内的液压阻尼机制来实现。阻尼器机制214能够抑制活塞206(相对于活塞壳体204)在活塞206可以移动的一个维度上的移动。紧固装置208被固定至活塞206的端部，该端部与活塞206的靠近活塞壳体204的端部相对。
[0199]
在图9a所示的布置200中，第二中间构件526支撑图案形成装置夹持器500，并且第二中间构件526被固定至紧固装置208。竖直控制旋钮530可操作以升高或降低图案形成装置夹持器500的位置。这对于使用图案形成装置夹持器500定位图案形成装置ma可能是有用的。竖直控制旋钮530可以被手动操作。图案形成装置夹持器500的竖直(图9中的z方向)移动可以被阻尼器组件202抑制。具体地，由使用竖直控制旋钮530引起的图案形成装置夹持器500的竖直移动可以被阻尼器组件202抑制。进一步地，为了将第二中间构件526紧固至紧固装置208，第二中间构件526还可以通过其他部件被附接至阻尼器组件202，同时仍然允许阻尼器机制214抑制图案形成装置夹持器500的移动。
[0200]
要了解的是，第一中间构件426和阻尼器组件201可以分别包括与第二中间构件526和阻尼器组件202基本上相同的部件。还要了解的是，第一中间构件426和阻尼器组件201可以分别提供与第二中间构件526和阻尼器组件202基本上相同的功能性。具体地，表膜组件夹持器400的竖直移动可以通过竖直控制旋钮430来实现，并且表膜组件夹持器400的竖直移动可以被阻尼器组件201抑制。
[0201]
阻尼器组件201和阻尼器组件202中的每一个被可移动地附接至轨条218。第二中间构件526支撑图案形成装置夹持器500，并被附接至阻尼器组件202的紧固装置208。第一中间构件426支撑表膜组件夹持器400，并且被附接至阻尼器组件201中的紧固装置，该紧固装置等同于阻尼器组件202的紧固装置208。
[0202]
锁定块432在图9c中更详细地示出。锁定块432包括：壳体222；销224；销柄226；轮子228；以及多个紧固螺栓230。锁定块432的壳体222使用多个紧固螺栓被固定至第一中间构件426和阻尼器组件201。销224被设置在壳体222内，并从壳体222的两个相对侧突出。销柄226被附接至销224的一端。轮子228被设置在销224的与销柄226相对的端部，使得销224通过轮子228的中心孔隙突出。轮子228和销224具有共同的纵轴。轮子228被附接至壳体222，使得轮子228可操作以围绕轮子228和销224的共同纵轴旋转。轮子228可以使用包括滚珠轴承的机制被附接至壳体222。又一滚珠轴承机制可以被设置在销224和轮子228之间。销224可操作以在平行于轮子228和销224的共同纵轴的方向上移动。壳体222内所包含的机制(诸如弹簧机制)将销224偏置到平衡位置，其中销224从壳体222的表面突出预定量。销柄226可以被操作，使得销224在平行于轮子228和销224的共同纵轴的方向上移动。具体地，销柄226可以被手动拉动，导致销224在朝着销柄226的方向上移动。当销柄226未被操作时，壳体222内所包含的机制(诸如弹簧机制)使销224返回到销224的平衡位置。
[0203]
图9d示出了轨道232、234突出显示的轨条218。锁定块432的轮子228的尺寸被设计
为使得轮子228装配在设置在轨条218内的第一轨道232内。第一轨道232限定通常为平行于x方向的直线的路径(参见图9d中的轴线)。使用手柄428(参见图9a)，表膜组件夹持器400可以沿着轨条218中的第一轨道232手动移动。锁定块432可以被用于锁定和解锁表膜组件夹持器400相对于轨条218中的第一轨道232的位置。当锁定块432未被操作时，销224从壳体222突出并与轨条218接合，使得表膜组件夹持器400沿着由第一轨道232限定的路径的位置是固定的。拉动销柄226使销224至少部分地缩回到壳体222中，销224不再与轨条218接合，并且表膜组件夹持器400可以使用手柄428沿着由第一轨道232限定的路径移动。
[0204]
锁定块532与锁定块432相同。使用多个紧固螺栓以与上述锁定块432、第一中间构件426和阻尼器组件201等效的设置将锁定块532的壳体固定至第二中间构件526和阻尼器组件202。锁定块532的轮子的尺寸被设计为使得所述轮子装配在设置在轨条218内的第二轨道234内，如图9d所示。第二轨道234限定路径，其一部分通常是平行于x方向的直线，并且其一部分具有在z方向上的分量(参见图9d中的轴线)，使得第二轨道234被部分地设置在第一轨道232下方。使用手柄528(参见图9a)，图案形成装置夹持器500可以沿着轨条218中的第二轨道234手动移动。锁定块532提供用于锁定和解锁图案形成装置夹持器500相对于轨条218中的第二轨道234的位置的机制，类似于上述锁定块432。
[0205]
锁定块432、532可操作以锁定夹持器400、500的位置。这在使用夹持器400、500以将表膜组件16和图案形成装置ma提供给表膜框架附接设备857的中间支撑结构98时可能是有用的(参见图6)，如下面更详细地描述的。进一步地，沿着第一轨道232移动表膜组件夹持器400或沿着第二轨道234移动图案形成装置夹持器500通常需要使用两只手(一只手保持手柄428、528，并且另一只手操作销柄226)。这可以防止在夹持器400、500相对于轨道232、234的移动期间竖直控制旋钮430、530的意外操作。这可以被描述为安全机制。
[0206]
表膜组件夹持器400可操作以夹持表膜组件16。表膜组件夹持器400和/或表膜组件16可以被调遣，使得当表膜组件夹持器400处于打开配置时，第一臂402a和第二臂402b围绕表膜组件16。然后可以使用表膜组件夹持器控制旋钮424移动表膜组件夹持器400的臂402a、402b，使得表膜组件夹持器400处于闭合配置。表膜组件16可以通过该动作抓取。多个表膜组件对准器406确保表膜组件16处于期望位置。多个表膜组件支撑垫408支撑表膜组件16。具体地，表膜组件16被提供给表膜组件夹持器400，并且支撑垫408的突起420被布置为接触表膜框架17的不面向图案形成装置ma的一侧。表膜组件对准器406和表膜组件支撑垫408(并且没有其他部件)与表膜组件16的表膜框架17直接接触。因此，只有表膜框架17的一小部分周长使用表膜组件夹持器400连接。有利地，与接触表膜框架17的更多周长的夹持器相比，这可以降低表膜组件16被颗粒污染的风险。
[0207]
表膜组件夹持器400和控制系统870(参见图6)可以形成表膜框架附接设备857的一部分。表膜组件夹持器400(抓取表膜组件16)和/或控制系统870可以被调遣，使得表膜组件16位于表膜框架附接设备857的分割区862上方。通过使用表膜组件夹持器控制旋钮424将表膜组件夹持器400切换为打开配置，表膜组件夹持器400然后可以将表膜组件16释放到中间支撑结构98上(参见图6)。
[0208]
图案形成装置夹持器500可操作以夹持图案形成装置ma。图案形成装置夹持器500和/或图案形成装置ma可以被调遣，使得当图案形成装置夹持器500处于打开配置时，臂502a、502b、502c围绕图案形成装置ma。然后臂502a、502b、502c可以使用图案形成装置夹持
器控制旋钮524移动，使得图案形成装置夹持器500处于闭合配置。图案形成装置ma可以通过该动作抓取。多个图案形成装置对准器506确保图案形成装置ma处于期望位置。多个图案形成装置支撑指状物508支撑图案形成装置ma。图案形成装置对准器506和图案形成装置支撑指状物508(并且没有其他部件)与图案形成装置ma直接接触。因此，仅一小部分图案形成装置ma使用图案形成装置夹持器500接触。有利地，与接触更多图案形成装置ma的夹持器相比，这可以降低用颗粒污染图案形成装置ma的风险。
[0209]
图案形成装置夹持器500和控制系统870(参见图6)可以形成表膜框架附接设备857的一部分。图案形成装置夹持器500(夹持图案形成装置ma)和/或控制系统870可以被调遣，使得图案形成装置ma位于表膜框架附接设备857的分割区862上方的位置。图案形成装置夹持器500然后可以将图案形成装置ma释放到表膜框架附接设备857的中间支撑结构98上，使得如上所述，图案形成装置ma被设置在已经被放置在中间支撑结构98上的表膜组件16上方。通过使用图案形成装置夹持器控制旋钮524将图案形成装置夹持器500切换为打开配置，图案形成装置夹持器500可以释放图案形成装置ma。
[0210]
图案形成装置ma可能因例如掉落图案形成装置ma而损坏。例如，通过将图案形成装置ma掉落到图案形成装置夹持器500的大致矩形空间514中，图案形成装置ma可能被损坏。由于第二中间构件526经由阻尼器组件202被附接至轨条218，所以图案形成装置夹持器500平行于z轴的移动被抑制。阻尼器组件202因此可以减少图案形成装置ma被掉落到图案形成装置夹持器500的大致矩形空间514中的冲击力。有利地，这可以减少对图案形成装置ma的损坏。
[0211]
如上所述，调遣表膜组件夹持器400可以涉及相对于轨条218的第一轨道232移动表膜组件夹持器400。这可以被手动执行。手柄428可以被用于表膜组件夹持器400的手动移动。如上所述，调遣图案形成装置夹持器500可以涉及相对于轨条218的第二轨道234移动图案形成装置夹持器500。这可以被执行手动。手柄528可以被用于图案形成装置夹持器500的手动移动。轨条218可以形成表膜框架附接设备857的一部分。
[0212]
要了解的是，在图9a所示的布置200的替代布置中，第一中间构件426和第二中间构件526中的任一个或两者可以被直接可移动地附接至轨条218(即，未提供阻尼器组件201、202)。作为又一替代方案，表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500可以被可移动地附接(具有或没有阻尼器组件201、202)至分离的轨条。这些单独的轨条可以形成表膜框架附接设备的一部分。将表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500可移动地附接至共轨218(如图9a的布置200所示)可以允许表膜组件16和图案形成装置ma的更准确的相对定位。
[0213]
表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500在上面已经在表膜框架附接设备857的上下文中进行了描述。要了解的是，表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500可操作以分别操纵用于其他应用的表膜组件16和图案形成装置ma。例如，表膜组件夹持器400可以被用于处置表膜附接设备855中的表膜组件16(参见图2)。作为又一示例，图案形成装置夹持器500可以被用于处置螺柱附接设备840中的图案形成装置ma(参见图2)。当表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500在其他应用中使用时，上述表膜组件夹持器400和图案形成装置夹持器500的优点将通常适用。
[0214]
参照回图6，表膜框架附接设备857包括致动器111，该致动器111可以被用于调整
表膜组件16在x、y和z方向上的位置并且围绕z方向旋转表膜组件。
[0215]
分割区862被设置有四个窗893、894。窗893、894可以例如由石英形成。窗893中的两个被定位以允许成像传感器106查看设置在图案形成装置ma上的对准标记。要注意的是，两个窗893中的仅一个窗和两个成像传感器106中的仅一个成像传感器在图6中可见。其他两个窗894被定位以允许成像传感器105查看表膜框架17(例如查看表膜框架的角)。
[0216]
图10更详细地示出了用于使用成像传感器105测量表膜组件16的位置的布置600。图10所示的设备的布置600可以形成图6所示的表膜框架附接设备857的一部分。图10所示的设备的布置600示出了未在图6中示出的部件。这些部件可以形成表膜框架附接设备857的一部分，但为了清楚起见未在图6中示出。要注意的是，图10中的设备具有与图6中的设备垂直的取向。
[0217]
布置600包括：成像传感器105；辐射源602；分束器604；四分之一波片606；包括对准标记109的窗894；保护窗607；具有表膜框架17的表膜19；以及图案形成装置ma。成像传感器105可以包括传感器元件阵列，并且可以例如是相机。辐射源602可以是发光二极管(led)。窗894、607通常可以是透明的。保护窗607可以保护对准标记109免受微粒污染或其他碎片的影响。
[0218]
在图10中，成像传感器105、窗894、保护窗607、表膜19和图案形成装置ma以与图6所示相同的方式设置。分束器604被设置在成像传感器105和窗894之间。四分之一波片606被设置在分束器604和窗894之间。成像传感器105、分束器604、四分之一波片606、窗894和保护窗607可以被描述为对准，使得它们都位于轴线618上并且在轴线618的方向上间隔开。该轴线618是z轴。辐射源602靠近分束器604设置。辐射源602被设置为使得辐射源602和分束器604在垂直于轴线608(诸如y轴)的方向上分离。
[0219]
布置600可以被称为光学测量系统。图10中例示的光学测量系统可操作以测量表膜框架17相对于对准标记109的位置。光学测量系统可以以5um或更好的准确度提供表膜框架17的位置的测量结果。光学测量系统可以基于远心光学系统。
[0220]
在使用中，辐射源602在垂直于轴线618的方向上发射非偏振束608。非偏振束608被入射到分束器604上。分束器604将非偏振束608拆分为在相互垂直的方向上传播的线性偏振束610、612。第一束610是p偏振的。即，第一束610是线性偏振的，偏振方向垂直于入射平面(即，在图10的平面外)。第一束610在与辐射源602发射的非偏振束608相同的方向上传播。第二束612是s偏振的。即，第二束612是线性偏振的，偏振方向平行于入射平面(即，在图10的平面中)。第二束612平行于轴线618朝着四分之一波片606传播。
[0221]
四分之一波片606被布置为使得四分之一波片606的轴线相对于第二束612的线性偏振方向以45
°
对准。已经传播通过四分之一波片606的第二束612变为圆偏振束614。圆偏振束614可以至少部分地透射通过窗894、保护窗607、表膜19和/或表膜框架17。圆偏振束614可以至少部分地从对准标记109、表膜19、表膜框架17和/或图案形成装置ma反射。已被反射的圆偏振束614变为具有与圆偏振束614的圆偏振方向相反方向的圆偏振的反射圆偏振束616。反射的圆偏振束616朝着四分之一波片606传播。
[0222]
已传播通过四分之一波片606的反射圆偏振束616变为线性偏振束618。线性偏振束618的线性偏振方向相对于第二束612的线性偏振方向旋转90
°
。具体地，第二束612是s偏振的(具有在图10的平面中的偏振方向)，并且线性偏振束618是p偏振的(具有在图10的平
面外的偏振方向)。线性偏振束618传播通过分束器604。作为线性偏振束618的p偏振的结果，线性偏振束618未被分束器604拆分。相反，线性偏振束618透射通过分束器604作为透射束620。然后透射束620被入射到成像传感器105上。
[0223]
表膜19对于来自圆偏振束614的辐射可以比表膜框架17(其可以基本上阻挡所有的辐射)更具透射性。圆偏振束614的至少一部分被入射到图案形成装置ma上并被其反射。表膜框架17的边缘可能会阻碍从图案形成装置ma反射的光。由图案形成装置ma反射的辐射的至少一部分被入射到成像传感器105上(作为透射束620)，并且可以在成像传感器105处具有测量的空间强度(诸如测量的图像)，其取决于表膜框架17的边缘的位置。具体地，通过表膜19和表膜框架17的光透射水平的差异可以在强度测量中给出空间对比度。这种空间对比度对于测量表膜组件16的位置并随后对准表膜组件16可能特别有用。例如，表膜组件16相对于对准标记109的位置可以被测量，该对准标记109也由成像传感器105成像。
[0224]
四分之一波片606实现从图案形成装置ma反射的光(诸如反射的圆偏振束616)中的相移(在电场强度的两个正交分量之间)，因为光传播通过四分之一波片606。这种相移使得从图案形成装置ma反射的光最大程度地透射通过分束器604。光通过分束器604的最大透射可能会导致由成像传感器105执行的强度测量中的高信号。例如，由成像传感器105进行的测量可能会受到背景光的影响，这可能会降低表示表膜19和表膜框架17的边缘的图像中的对比度。然而，这种背景辐射可能是非偏振的，因此只有这种背景辐射的一小部分(例如一半)可以到达成像传感器。相比之下，信号辐射(即，从图案形成装置ma反射的透射束620的部分)最大程度地透射通过分束器604。有利地，该信号光通过分束器604的最大透射(由图10所示的布置600实现)在由成像传感器执行的测量中可能会导致高空间对比度。这可能会导致表膜组件16的位置测量的高准确度。
[0225]
图11更详细地示出了用于使用成像传感器106测量图案形成装置ma的位置的布置700。图11所示的设备的布置700可以形成图6所示的表膜框架附接设备857的一部分。图11所示的设备的布置700示出了未在图6中示出的部件。这些部件可以形成表膜框架附接设备857的一部分，但为了清楚起见未在图6中示出。要注意的是，图11中的设备具有与图6中的设备垂直的取向。
[0226]
布置700包括：成像传感器106；辐射源702；包括对准标记109的窗893；以及包括对准标记704的图案形成装置ma。成像传感器106可以包括传感器元件阵列，并且可以例如是相机。辐射源702可以是led。对准标记109被布置在窗893上，使得对准标记109构成衍射光栅。对准标记704被布置在图案形成装置ma上，使得对准标记704构成衍射光栅。
[0227]
在图11中，成像传感器106、窗893和图案形成装置ma以与图6所示相同的方式设置。辐射源702被设置为使得辐射源702不阻碍成像传感器106和窗893之间的光路。辐射源702可以靠近成像传感器106设置。
[0228]
布置700可以被称为光学测量系统。图11中例示的光学测量系统可操作以测量图案形成装置ma相对于对准标记109的位置。
[0229]
在使用中，辐射源702发射束706。束706朝着窗893传播。束706的一部分可以从对准标记109背散射(例如反射)。束706的另一部分可以透射通过窗893，并且随后从对准标记704背散射(例如反射)。由于对准标记109、704被布置为形成反射衍射光栅，束704的从对准标记109、704背散射的部分形成多个衍射级。图11示出了束708，其对应于来自设置在窗893
上的对准标记109和来自设置在图案形成装置ma上的对准标记704的束706的零级反射。图11还示出了束710，其对应于来自设置在窗893上的对准标记109和来自设置在图案形成装置ma上的对准标记704的束706的一级(反射)衍射级。一级束710被入射到成像传感器106上。因此成像传感器106可操作以测量对应于图案形成装置ma的位置的信号。零级束708(对应于标准反射)未被入射到成像传感器106上。
[0230]
束706从对准标记109、704背散射的角度取决于束706和对准标记109、704之间的入射角。所述角度还取决于束706的波长。所述角度也随着对准标记109、704的间距而变化。在图11所示的布置700中，入射角、光的波长和对准标记109、704的间距可以被选择，使得一级束710法向于图案形成装置ma的平面。等效地，一级束可以被配置为法向于表膜19的平面。
[0231]
可以期望测量在螺柱附接设备840和/或表膜框架附接设备857中的图案形成装置ma的位置(参见例如图2)。当图案形成装置ma被用于其他情况(诸如在光刻设备la中)时，还可以期望测量图案形成装置ma的位置。对准标记704可以被设置在图案形成装置ma上，以便当图案形成装置ma被用于其他情况(诸如在光刻设备la中)时，能够测量图案形成装置ma的位置。
[0232]
图11所示的布置700可操作以测量对准标记109(其相对于表膜框架附接设备857固定)和对准标记704(其相对于图案形成装置ma固定)的位置。因此，图11所示的布置700可操作以测量图案形成装置ma相对于表膜框架附接设备857的位置。这可以被用于将图案形成装置ma相对于表膜框架附接设备857对准。有利地，测量对准标记109和对准标记704的位置是基于测量光的衍射级(如上所述)，并且使用相同的测量设备(布置700)来执行。这可能会导致图案形成装置ma的位置的准确测量。这可以导致图案形成装置ma的位置测量比图案形成装置ma的位置基于测量图案形成装置ma的边缘的位置时更准确。
[0233]
布置600、700在上面已经在表膜框架附接设备857的情境中进行了描述。要了解的是，布置600、700可以被用于其他应用。例如，布置600可以被用于测量表膜附接设备855中的表膜组件16的位置(参见图2)。作为又一示例，布置700可以被用于测量螺柱附接设备840中的图案形成装置ma的位置(参见图2)。当布置600、700在其他应用中使用时，上述布置600、700的优点将通常适用。
[0234]
对准标记109、704可以被提供有贴纸。贴纸可以由阳极氧化铝形成。贴纸可能是黑色的。贴纸可以具有大致圆形的形状。贴纸可以包括孔隙。贴纸可以增大对准标记109、704的有效尺寸。贴纸可以减少从对准标记109、704反射的光与任何其他光之间的干扰。提供贴纸可以增加使用成像传感器105、106获取的图像的对比度。具体地，提供贴纸可以增加对准标记109、704相对于浅色背景的可见性。贴纸的提供可以限制从对准标记109、704反射的光的色散。因此，由成像传感器105、106测量的对准标记109、704可以显得更清晰。这可以提高基于测量对准标记109、704的位置的位置测量的准确度。
[0235]
当使用图12所示的布置600测量表膜组件16的位置和/或当使用图13所示的布置700测量图案形成装置ma的位置时，提供贴纸的优点可能是有益的。备选地，涂层可以被提供给对准标记109、704，这实现了与贴纸相同的优点。
[0236]
图10和11所示的成像传感器105、106可以对应于图6所示的成像传感器105、106。
[0237]
使用对准标记来对准两个实体是本领域公知的，并且此处不再进一步描述。致动
器111和布置600、700可以被统称为控制系统870。
[0238]
图12更详细地描绘了分割区862。气体出口(未描绘)可以被配置为在图12中可见的分割区862的一侧供应气体。气体可以在高于分割区862的相对侧的气压的压力下传送。分割区862还被提供有孔895，该孔被定位为对应于表膜组件16的接合机构50的位置。孔895中的一个孔在图13中更详细地描绘。孔895的尺寸被设计为允许销1090和操纵器销1092通过孔突出。钩状构件1091从孔的侧面突出。换言之，钩状构件1091被固定至分割区862并从分割区突出。销1090、钩状构件1091和操纵器销1092也在图6、12和14中描绘。
[0239]
如上面进一步提到的，分割区862上方的受控环境859可以被保持在比分割区下方的压力更高的压力下(例如通过在分割区上方传送气体)。如从图12了解的，分割区862中的开口895相对较小，因此限制了污染通过开口传递到受控环境中的可能性。这种可能性通过受控环境859相对于进料分割区862中的环境的更高压力而进一步降低。更高的压力确保空气向下流动通过孔895，从而将污染从表膜19带走。
[0240]
当将表膜组件16固定至图案形成装置ma时，成像传感器105、106被用于监测表膜组件16相对于图案形成装置ma的位置。这发生在表膜组件16通过销1090从中间支撑结构98提升之后。表膜组件16的位置使用致动器111来调整。这移动了支撑结构101，并因此相对于图案形成装置ma移动了表膜组件16。致动器111的操作可以是手动的，或者可以由自动控制器控制。支撑结构101的移动可以继续，直到表膜组件16相对于图案形成装置ma对准为止。
[0241]
一旦表膜组件16已经相对于图案形成装置ma正确定位，销1090、钩状构件1091和操纵器销1092被用于将接合机构50接合至从图案形成装置ma突出的螺柱51。
[0242]
销1090、钩状构件1091和操纵器销1092能够相对于彼此移动的方式在图14中示意性地图示。如上面提及的，钩状构件1091从支撑结构101延伸，并且因此无法相对于支撑结构移动。如上面解释的，支撑结构本身101可以被移动，包括在大致竖直方向(z方向)上的移动。操纵器销1092通过致动器320在大体竖直的方向(z方向)上可移动。操纵器销1092都被固定至致动器320，并且因此两者一起移动。支撑表膜框架17的销1090相对于操纵器销1092无法主动移动。销1090经由弹簧322被连接至致动器320。因此，致动器320的向上和向下移动将引起销1090的对应移动，除非销与表膜框架17接触。如果销1090与表膜框架17接触，那么致动器320的进一步向上移动将不会导致销进一步向上移动，而是会导致弹簧322的压缩。一旦弹簧322被压缩，致动器320的向下移动将不会引起销1090的向下移动，直到弹簧322已经膨胀到松弛配置。
[0243]
每个操纵器销1092包括在大致圆柱形主体区段的端部处的弯曲表面(例如大致凸曲表面)。所述弯曲表面在操纵器销1092的端部处，当销1090、钩状构件1091和操纵器销1092被用于将接合机构50接合至从图案形成装置ma突出的螺柱51时，该端部与接合机构50的一部分接触。该过程在下面参照图17d进一步解释。弯曲表面被成形为使得操纵器销1092和接合机构50的所述部分之间的滑动被最小化。
[0244]
图15和16示意性地描绘了接合机构50与突起51(其也可以被称为螺柱)接合的方式。图15和16在从一侧查看并且也从下面查看的截面中示出了接合机构50和突起51。首先参照图15，使用推抵接合臂80的远端的操纵器销1092(未描绘)将接合臂80推离帽66。从图15可以看出，此时在接合机构50和突起51之间没有触点。
[0245]
接合机构沿着x方向移动，直到突起51的远侧头部53位于从接合臂80突出的接合
突片81上方。该移动是通过移动接合机构50被固定至的表膜框架17来实现，并因此一致地移动所有接合机构50。
[0246]
一旦接合机构50就位，将接合臂80推离突起51的远侧头部53的操纵器销被去除。由于接合臂80是弹性的，它们向下移动并推抵远侧头部53的内表面。接合突片81因此将远侧头部53压靠帽66，从而将接合机构50固定至突起51。这是在图16中描绘的。
[0247]
可能期望从图案形成装置ma去除表膜组件16(例如如果污染在表膜上检测到)。该去除可以由表膜框架附接设备857执行。上述顺序被颠倒，以将接合机构50与突起51断开。
[0248]
销1090、钩状构件1091和操纵器销1092的操作可以是手动的、自动的或半自动的。
[0249]
销1090、钩状构件1091和操纵器销1092可以例如由钢形成。接触接合机构50的销1090、钩状构件1091和操纵器销1092的表面可以被设置有诸如peek或某种其他鲁棒材料等材料涂层。备选地，接触表面可以简单地是销1090、钩状构件1091和操纵器销1092的抛光表面。
[0250]
一旦表膜组件16和图案形成装置ma已经被连接在一起以形成掩模组件15，掩模组件可以被放置在掩模组件输送装置853中，以用于输送给光刻设备la(参见图2)。
[0251]
图17a至17h更详细地描绘了接合机构50可以与突起51接合的一种方式。首先参照图17a，销1090在z方向上移动，直到它接触接合机构50的帽66为止。销1090在z方向上进一步移动，以提升接合机构50。由于接合机构被固定至框架17(参见图3)，这提升了整个表膜组件16。销1090是四个销1090中的一个销(参见图12)，并且销1090被一致地移动。表膜组件16因此被四个销1090提升，并由那些销1090支撑。表膜组件16的位置然后使用致动器111调整(参见图6)，直到表膜组件相对于图案形成装置ma对准为止。
[0252]
参照图17b，然后两个钩状构件在z方向上移动，直到它们的远端超出第一支撑臂82a的最上表面为止。然后钩状构件1091在x方向上移动，直到钩状构件的远端在支撑臂82a的角板1089上方。
[0253]
如图17c所描绘的，钩状构件1091然后被向下移动，直到它们与支撑臂82a的角板1089接触为止。销1090和钩状构件1091一起夹持接合机构50，以允许接合机构的后续操作。
[0254]
参照图17d，操纵器销1092在大致竖直方向上移动，并推抵设置在接合臂80的远端的块54。操纵器销1092向上推动接合臂80，从而扩大接合突片81和帽66之间的空间。如上所述，与接合臂80的远端(特别是设置在接合臂80的远端上的块54)接触的每个操纵器销1092的表面是弯曲表面。所述弯曲表面可以是大致凸曲表面。操纵器销1092的弯曲表面被成形为使得当操纵器销1092向上推动接合臂80时，操纵器销1092和接合臂80的远端之间的接触边缘沿着弯曲表面平滑地移位。这最小化了操纵器销1092和设置在接合臂80的远端上的块54之间的接触表面面积。有利地，操纵器销1092的这种设计可以确保操纵器销1092和设置在接合臂80的远端上的块54之间的滑动最小化。由于用于生成附图的软件的限制，接合臂80在图17d中没有向上弯曲。
[0255]
参照图17e和17f，接合机构50然后在x方向上移动，直到突起51的远端53位于帽66上方并且位于接合突片81下方。
[0256]
如上面进一步提到的，所有接合机构50a
‑
d经由销1090的移动而一致地移动。在替代布置中，图案形成装置ma和突起51可以被全部移动，而不是移动表膜框架17。通常，仅需要突起和接合机构之间的横向相对移动。横向移动的方向将取决于接合臂80的取向(并且
可以例如是y方向而不是x方向)。
[0257]
参照图17f，一旦帽66被定位在远侧头部53下方并且接合突片81位于远侧头部53上方，操纵器销1092被缩回。接合臂80的弹性使得它们朝着它们的原始位置返回，并因此将接合突片81压靠远侧头部53。接合突片81将远侧头部53推向帽66。这将接合机构50固定至突起51。
[0258]
参照图17g，钩状构件1091向上(在z方向上)移动，然后侧向移动(沿x方向)，直到钩状构件1091远离支撑臂82a的角板1089定位。然后钩状构件1091被缩回(沿负z方向移动)。
[0259]
参照图17h，在最终步骤中，销1090被缩回。参照图6，当销1090被缩回时，表膜框架17不再由销1090支撑，而是表膜框架17通过其与从图案形成装置ma突出的突起51的连接而被支撑。换言之，表膜框架17被附接至图案形成装置ma并由其支撑。
[0260]
接合机构50被固定至突起51，并且因此提供用于表膜框架的固定子安装台10(参见图3)。表膜框架17因此被固定地附接至图案形成装置ma。然后表膜、表膜框架和图案形成装置(它们可以一起被称为掩模组件)可以被放置在输送装置853中，以用于输送给光刻设备la(参见图2)。
[0261]
图17a至17h所描绘的步骤被颠倒，以将接合机构50与突起51拆离并由此将表膜框架17与图案形成装置ma拆离。
[0262]
接合机构50被固定至突起51的所有步骤都不需要部件之间的任何滑动移动。换言之，在滑动运动中不需要表面彼此摩擦。这是有利的，因为这种摩擦可能易于引起不希望的微粒污染。图17d所描绘的步骤需要单独部件的机械接触。因此，该步骤可能特别易于引起微粒污染。与不具有这种弯曲表面的操纵器销相比，提供给操纵器销1092的大致凸曲表面减少了操纵器销1092和块54之间的接触表面面积。提供给操纵器销1092的大致凸曲表面还使操纵器销1092的表面和块54的表面之间滑动(即，摩擦)的风险最小化。因此可能导致微粒污染的微粒物的产生可以被避免。
[0263]
替代顺序的步骤(未描绘)可以被用于将接合机构50附接至突起51。在该替代顺序中，在销被用于升高表膜框架17之前，钩状构件1091被移动到接合突片1089上方的位置中。一旦钩状构件1091就位，销1090然后向上移动以压靠接合机构50。接合机构50因此被钩状构件1091和销1090抓取。接合机构50然后通过向上移动钩状构件1091和销1090来提升。相同的动作针对其他接合机构50执行，因此表膜组件16被提升。使用致动器111和成像传感器105、106(参见图6)，表膜组件16然后相对于图案形成装置ma对准。剩余步骤可以如上面参照图17a至17h描述的。
[0264]
与上面参照图17g描述的接合机构50与突起51接合的步骤相关的安全系统被提供。在钩状构件1091缩回之前，钩状构件1091可能无法与接合机构50完全脱离。例如，如果如上所述，钩状构件1091在x方向上移动的距离不够，则钩状构件1091的钩状部分和支撑臂82a的角板1089可能重叠。当钩状构件1091未从接合机构50完全脱离时钩状构件1091缩回可能会导致表膜组件16和/或其他部件的损坏和/或故障。控制支撑结构101的z位置(并进而控制钩状构件1091的z位置)的致动器111可操作以与支撑结构101拆离。如果支撑结构101在致动器111上施加高于阈值阻力的阻力(响应于由致动器111施加在支撑结构101上的致动力)，则致动器111可操作以与支撑结构101拆离。这可以被描述为如果支撑结构101的
移动受到阻碍，则支撑结构101能够从致动器111拆离。有利地，致动器111的可拆离性质防止过大的力被施加到接合机构50。在钩状构件1091在钩状构件1091缩回之前未从接合机构50完全脱离的情况下，这有益于表膜组件16和/或其他部件的损坏和/或故障。
[0265]
作为对上述安全系统的修改，钩状构件1091可以被设置在插入件上，该插入件被设置在支撑结构101的顶表面内。插入件可以是可拆离的插入件。如果支撑结构101的移动受到阻碍，则支撑结构101不是能够从致动器111拆离，而是如果支撑结构101的移动受到阻碍，则插入件能够从支撑结构101拆离。上述安全系统的优点可以应用于安全系统的这种修改。
[0266]
来自所描述的安全系统的两个变型的特征可以被隔离地使用。来自所描述的安全系统的两个变型的特征可以彼此组合地使用。进一步地，所描述的安全系统的变型可以被提供，其实现了基本上相同的安全特征。
[0267]
螺柱附接设备的实施例现在结合图18至20描述。
[0268]
图18在截面中示意性地描绘了根据本发明的实施例的螺柱附接设备840。螺柱附接设备840与图6所描绘的表膜框架附接857设备具有相似性。螺柱附接设备840的部分可以与那些其他设备的部分相对应。
[0269]
螺柱附接设备840包括支撑结构101和螺柱操纵器1100，该螺柱操纵器1100被配置为竖直移动突起51(其也可以被称为螺柱)，使得它们与图案形成装置ma接触。窗107、108被设置在支撑结构101中，并且成像传感器105、106(例如相机)被定位为通过窗107、108朝着图案形成装置ma观看。图18所示的成像传感器105、106可以对应于图10和11所示的成像传感器105、106。对准标记109被设置在窗107、108上，并且可以被用于相对于图案形成装置对准支撑结构101。致动器111被提供以移动支撑结构101，从而移动由支撑结构101保持的螺柱51。致动器111能够在x、y和z方向上移动支撑结构，并且还能够围绕z方向旋转支撑结构。致动器111可以是自动的、手动的或半自动的(即，部分自动和部分手动的)。螺柱附接设备840还包括附加的支撑结构97，其被配置为支撑图案形成装置ma。该附加支撑结构可以是固定的，并且在本文中被称为固定支撑结构97。
[0270]
每个螺柱51的基座可以用制备液制备。制备液可以是异丙醇(或另一醇)、丙酮或超纯水。制备液可以是这些物质中的一种物质与软化水的混合物。制备液可以使用拭子(诸如微拭子)被施加到每个螺柱51的基座。在生产和清洁螺柱之后，箔片(诸如塑料箔片)可以被施加到每个螺柱51的基座。代替或除了用制备液制备每个螺柱15的基底，箔片的施加可以被执行。使用制备液制备螺柱51可以从螺柱51的基底去除污染物。将箔片施加到螺柱51可以防止新的污染物被沉淀在螺柱51的基底上。当螺柱51将被附接至图案形成装置ma(例如紧接在将螺柱15附接至图案形成装置ma之前)时，箔片可以被去除。
[0271]
然后，可以在每个螺柱51的基底上提供胶，同时螺柱由形成支撑结构101的一部分的螺柱操纵器1100保持。胶可以由胶分配器提供。胶分配器可以形成螺柱附接设备840的一部分。要了解的是，胶可以以任何已知的方式提供。分配胶的量可以通过选择胶分配的压力和脉冲时间来控制。分配胶的量可以使用体积分配来控制。体积分配可能有益于准确地控制胶，因为在胶被分配时胶的黏度可能会变化。
[0272]
然后图案形成装置ma被放置在固定支撑结构97上，使得图案形成装置ma被定位在支撑结构101上方几毫米处。致动器111被用于移动支撑结构101，直到设置在窗107、108中
的对准标记109与设置在图案形成装置ma上的对准标记对准。螺柱51由螺柱操纵器1100保持，并且在相对于支撑结构101的x和y方向上具有固定位置。螺柱51(实际上可以具有四个)之间的间隔是固定的预定间隔。螺柱51之间的间隔对应于设置在表膜框架17(参见图3)上的接合构件50a至50d之间的间隔，该表膜框架17将被附接至图案形成装置ma。
[0273]
一旦支撑结构101已经相对于图案形成装置ma正确定位，支撑结构101向上移动并靠近图案形成装置ma。螺柱操纵器1100然后被用于将螺柱51从螺柱51的基底不接触图案形成装置ma的位置向上移动到螺柱51的基底压靠图案形成装置ma的位置。加热器然后可以被用于加热螺柱51，以推动在螺柱51的基底和图案形成装置ma之间的界面处的胶的固化。
[0274]
图案形成装置ma与螺柱附接设备840接触的点可以被提供有peek或某种其他稳健材料的涂层。类似地，图案形成装置ma与壳体879接触的点可以被提供有peek或某种其他稳健材料的涂层。
[0275]
螺柱附接设备840的一部分在图19中更详细地描绘。螺柱操纵器1100与螺柱51和图案形成装置ma(例如掩模)一起描绘。还描绘了分割区842，其将图案形成装置被提供的环境与螺柱操纵器1100被提供的环境分离。螺柱操纵器1100包括杯1102，其尺寸被设计为容纳螺柱51(也可以被称为突起)，使得螺柱51的底面(即，基底)从杯1102向外。螺柱51可以通过重力在杯1102中保持就位。备选地，螺柱51可以使用真空机制(未在图21中示出)在杯1102中保持就位。所述真空机制可以将螺柱51固定地临时保持在杯1102中。杯1102可以例如由peek或某种其他稳健材料形成。杯1102被保持在操纵器头部1104中，该操纵器头部1104又被支撑在操纵器主体1106上。弹簧1108抵靠设置在操纵器主体上的凸缘1109容纳，并且向上偏置操纵器头部1104和螺柱51。螺柱51相对于掩模的对准使用图18所描绘的成像传感器105、106和致动器111实现。当致动器已将螺柱51对准图案形成装置ma时，螺柱操纵器1100向上移动以将螺柱51压靠图案形成装置ma。螺柱操纵器1100由同时向上移动所有四个螺柱操纵器1100的致动器(未描绘)向上移动。当螺柱操纵器1100将螺柱51压靠图案形成装置ma时，弹簧1108被压缩。弹簧1108部分地确定了螺柱51被压靠图案形成装置ma的力。较弱的弹簧将减小螺柱被压靠图案形成装置的力，而较强的弹簧将增大螺柱被压靠图案形成装置的力。因此，经由选择具有期望强度的弹簧1108，螺柱51被压靠图案形成装置ma的力可选择(至少部分地)。弹簧1108可以例如被预加载有向上推动螺柱操纵器1100和螺柱51的力。预加载的力可以例如小于5n。
[0276]
螺柱操纵器1100将螺柱51推向图案形成装置ma，从而允许螺柱51被固定至掩模。如上面提到的，螺柱51可以在其基底上被提供有胶或粘合剂，并且螺柱操纵器1100可以将螺柱51压靠图案形成装置ma，直到胶或粘合剂已经硬化为止。一旦这已经发生，螺柱操纵器1100可以从图案形成装置ma移开(和/或图案形成装置ma可以从螺柱操纵器1100移开)。
[0277]
在实施例中，螺柱操纵器1100可以包括被配置为加热螺柱51的加热器1111。加热器1111可以是电加热器(例如电阻式电加热器)的形式。当螺柱51被保持在图案形成装置ma上时，加热器1111被用于加热螺柱51。由加热器1111提供的螺柱51的局部加热是有利的，因为它促进了胶或粘合剂的固化。这增加了螺柱附接设备840的吞吐量。通过加热螺柱51提供的固化可以是预固化，或可以是完全固化。在预固化被使用的情况下，图案形成装置ma和螺柱51可以被转移到烘箱以进行固化。在加热螺柱51提供完全固化的情况下，不需要将图案形成装置ma和螺柱51转移到烘箱。这是有利的，因为烤箱可能是污染颗粒的来源。
[0278]
在实施例中，螺柱操纵器1100可以包括致动器(未描绘)，其可操作以将螺柱51压靠图案形成装置ma(除了弹簧1108之外或代替弹簧1108)。一旦螺柱已经被固定至图案形成装置ma，致动器可以另外将杯1102从螺柱51移开。
[0279]
密封件1112围绕操纵器头部1104的外周延伸。密封件1112的形状为环形。然而，密封件可以具有任何合适的形状。密封件1112由弹性材料(例如peek)形成，并且在分割区842上方和螺柱51上方突出。因此，当螺柱51被压靠图案形成装置ma时，密封件1112被向下推动。密封件1112的弹性性质意味着密封件压靠图案形成装置ma，并由此形成对图案形成装置ma的密封。这将图案形成装置ma的部分密封在密封件1112的周长内，并将其与图案形成装置ma的在密封件1112的周长外的部分隔离。
[0280]
气体抽取通道1114被设置在操纵器头部1104中，气体抽取通道1114远离操纵器头部1104的外表面延伸。附加的气体抽取路线由围绕操纵器头部1104的环形空间1115提供。气体传送通道1118被设置在密封件1112的一侧，并允许气体被传送给位于密封件1112内的图案形成装置ma的区域。这由图19中的箭头示意性地描绘。气体经由操纵器头部1104中的气体抽取通道1114和操纵器头部1104周围的环形空间1115抽取。气体抽取通道1114被分布在操纵器头部1104周围。将污染物输送出气体抽取通道1114和环形空间1115的气流被提供，从而防止这些污染物粘合至图案形成装置ma的表面。污染可以例如是源自设置在螺柱51上的胶的微粒或来自胶的化学蒸气。当胶被加热以进行固化时，化学蒸气尤其可能会被生成。使用气流去除污染是有利的，因为如在其他地方解释的，图案形成装置ma的表面上的微粒或其他污染可能会导致由光刻设备投影到衬底上的图案中的误差。例如，气体可以是空气。
[0281]
图20示出了螺柱附接设备843的替代实施例。图20所示的螺柱附接设备843与图19所示的螺柱附接设备840共享许多特征。共享的特征具有共同的附图标记。为了清楚起见，仅螺柱附接设备843的部件的子集在图20中示出。要了解的是，螺柱附接设备843可以适当地包括图19所示的螺柱附接设备840的上述特征中的任何一个。螺柱附接设备843包括图19中的弹簧1108的替代弹簧机制。螺柱附接设备843包括两个片簧1110。两个片簧1110将操纵器主体1106连接至支撑结构101。
[0282]
在使用中，两个片簧1110提供了在xy平面中的螺柱操纵器头部1100(以及随后的螺柱51)的限定的大致固定的位置。两个片簧1110允许螺柱操纵器主体1100和支撑结构101之间的一些相对移动(在z方向上)(例如当螺柱51的基底接触图案形成装置ma时)。因此，当螺柱附接设备843在z上被下压时，操纵器头部1104(经由运动安装台1130)和部分1116(参见图19)之间的连接丢失。
[0283]
有利地，每个片簧1110的尺寸被形成为使得螺柱操纵器1100(相对于支撑结构101)在z方向上的移动是许可的，而在其他方向上的移动可忽略。进一步地，通过使用多个片簧1100(例如两个)而不是单个片簧，螺柱操纵器1100(以及因此螺柱51)在xz平面rxz中的旋转可忽略。图20所示的螺柱附接设备843中的片簧1110的布置确保螺柱操纵器1100(以及因此螺柱51)在所有三个轴线上的旋转以及在xy平面中的平移可忽略。因此，螺柱附接设备843的多个片簧1110在相对于图案形成装置ma准确定位螺柱51方面提供优于螺柱附接设备840的弹簧1108的优点。
[0284]
本文档中对掩模的引用可以被解释为对图案形成装置的引用(掩模是图案形成装
置的实例)，并且这些术语可以互换使用。
[0285]
本文档中对胶的引用可以被解释为对粘合剂的引用，并且这些术语可以互换使用。
[0286]
上面已经在表膜附接设备(诸如表膜附接设备855)的情境中引用了胶。具体地，胶可以被用于将框架17贴附至表膜19，并且附加地或备选地，胶可以被用于将接合机构50a至50d(具体地斜坡部分49a至49d)贴附至框架17。上面在螺柱附接设备(诸如螺柱附接设备840、843)的情境中也对胶进行了引用。具体地，胶可以被用于将螺柱51贴附至图案形成装置ma。
[0287]
许多已知类型的胶可能易于在euv光刻设备内的环境中除气(其可能在真空条件下，并且其中可能存在euv辐射和/或氢等离子体)。因此，在表膜组件和/或掩模组件的构造中，可能期望选择不除气(或在这种条件下不显着除气)的胶。实际上，这可能会限制适合于将框架17贴附至表膜19或将螺柱51贴附至图案形成装置ma的胶列表。已知在表膜附接设备(用于将框架17贴附至表膜19)和在螺柱附接设备(用于将螺柱51贴附至图案形成装置ma)中使用环氧胶。然而，将环氧胶用于上述目的存在缺点。
[0288]
根据本发明的实施例，建议使用聚(甲基丙烯酸甲酯)基胶，也称为pmma胶。具体地，建议在表膜附接设备(用于将框架17贴附至表膜19和/或用于将接合机构50a至50d贴附至框架17)和螺柱附接设备(用于将螺柱51贴附至图案形成装置ma或用于将表膜组件16的框架17直接贴附至图案形成装置ma)中使用pmma胶。
[0289]
这种pmma胶通常包括两种组分，当它们彼此接触时，引发pmma胶的固化过程。这两种组分可以被描述为促进剂和引发剂。促进剂和引发剂中的每一个都可以在树脂中提供。备选地，促进剂和/或引发剂可以在不是树脂的物质中提供。包括促进剂的物质的黏度可以高于或低于包括引发剂的物质。要了解的是，如本文使用的，“树脂”可以指pmma胶的组分被提供的任何物质。图21a和21b示意性地描绘了用于使用pmma胶将两个表面彼此贴附的两个过程的示例。
[0290]
在图21a中，第一主体b1上的表面被提供有包含促进剂ra的树脂，并且第二主体b2上的表面被提供有包含引发剂ri的树脂。这在图21a的上半部中示出。然后第二主体b2上的表面相对于第一主体b1上的表面移动(如箭头所指示的)，使得包含引发剂ri的树脂与包含促进剂ra的树脂接触。所得布置在图21a的下半部中示出。引发剂与促进剂的接触引发了pmma胶的固化过程，从而借助于固化的pmma胶g’将第一主体b1上的表面贴附至第二主体b2上的表面。
[0291]
在图21b中，第一主体b1上的表面被提供有：多行树脂，包含促进剂ri；和多行树脂，包含引发剂ri。这些行被布置为使得促进剂行ra和引发剂行ri交替。这在图21a的上半部中示出。然后，第二主体b2上的表面相对于第一主体b1上的表面移动(如箭头所指示的)，使得第一主体b1上的表面上的树脂行被第二主体b2上的表面压缩。所得布置在图21b的下半部中示出。树脂行ra、ri的这种压缩使引发剂与促进剂接触，从而使引发剂和促进剂混合，因此引发pmma胶的固化过程并借助于固化的pmma胶g'将第一主体b1上的表面贴附至第二主体b2上的表面。
[0292]
要了解的是，当如上所述使第一主体b1上的表面和第二主体b2上的表面彼此接触时，第一主体b1上的表面可以被移动并且第二主体b2上的表面可以保持静止，第一主体b1
上的表面可以保持静止并且第二主体b2上的表面可以被移动，或者两个表面都可以被移动。
[0293]
第一主体b1上的表面可以对应于表膜框架17的表面，并且第二主体b2上的表面可以对应于表膜19的表面。备选地，第一主体b1上的表面可以对应于表膜框架17的表面，并且第二主体b2上的表面可以对应于接合机构50a至50d的表面。备选地，第一主体b1上的表面可以对应于螺柱51的表面(例如螺柱51的基础表面)，并且第二主体b2上的表面可以对应于图案形成装置ma的表面。将任何第一表面贴附至任何第二表面可以以图21a、图21b或其任何变型所示的方式使用pmma胶执行。
[0294]
pmma胶的固化过程需要几分钟才能完成。与在已知表膜附接设备和已知螺栓附接设备中使用的已知环氧粘合剂的固化过程相比，这是明显更短的固化过程，该过程通常需要几个小时。因此，有利地，使用根据本发明的一个方面的pmma胶将表膜框架17贴附至表膜19导致产生表膜组件16所需的时间明显更短(与使用已知的环氧胶相比)。同样地，使用pmma胶将接合机构50a至50d贴附至框架17导致产生表膜组件16所需的时间明显更短(与使用已知的环氧胶相比)。进一步地，有利地，使用pmma胶将螺柱51贴附至图案形成装置ma需要明显更少的时间(与使用已知的环氧胶相比)。这为大批量制造带来了关联优点。
[0295]
由于pmma胶通常被提供为包含引发剂(ri)的树脂和包含促进剂(ra)的树脂，所以pmma胶可以被描述为被提供为多于一种组分。
[0296]
要了解的是，本文档中对胶的所有引用，特别是对在表膜附接设备(诸如表膜附接设备855)和螺柱附接设备(诸如螺柱附接设备840、843)中使用的胶的引用可以被认为是指pmma胶。还要了解的是，本文档中对使用胶彼此贴附或粘合的表面等的所有引用都可以被认为是指使用图21a和21b所描绘的方法彼此贴附或粘合的表面(尽管这不是限制性的，并且其他方法可以被使用)。
[0297]
可能期望从表面去除胶。例如，可能期望从图案形成装置ma去除螺柱51和胶。pmma胶通常比环氧胶更有弹性。pmma胶可以比环氧胶更容易地从表面(例如从图案形成装置ma的表面)去除。因此，有利地，一旦螺柱51被去除，使用pmma胶(与使用已知的环氧胶相比)将螺柱51贴附至图案形成装置ma导致螺柱去除程序和图案形成装置清洁程序更容易。
[0298]
表膜附接设备(诸如表膜附接设备855)和/或螺柱附接设备(例如螺柱附接设备840、843)可以包括加热器。加热器可以被用于加热已知的环氧胶，以推动已知环氧胶的固化。被提供有已知环氧胶的部件可以被放置在加热已知环氧胶的烘箱中，以推动已知环氧胶的固化。有利地，不需要加热来推动pmma胶的固化。这导致更简单的制造程序，这也可能会减少已制造产品(诸如表膜组件16或提供有螺柱51的图案形成装置ma)的缺陷和损坏风险。
[0299]
pmma胶的使用允许掩模组件15'的替代设计被形成。掩模组件15'的这种替代设计提供了优于掩模组件15的若干优点。掩模组件的这种替代设计在下面参照图22b描述，并与图22a所描绘的掩模组件15进行了比较。
[0300]
图22a示出了使用上面参照图2描述的设备和方法组装的掩模组件15的一部分。使用已知的环氧胶g，螺柱51被贴附至图案形成装置ma(仅一个螺柱51在图22a示出)。可能有必要将已知的环氧胶g施加到高度(在z方向上)近似为50um的层中。表膜组件16包括被贴附至表膜框架17的表膜19。接合机构50从表膜框架17突出(仅一个接合机构50在图22a中示
出)。每个接合机构50与对应的螺柱51接合，从而形成掩模组件15。
[0301]
图22b示出了掩模组件15'的替代设计的一部分。表膜组件16'包括被贴附至表膜框架17的表膜19。表膜框架17使用pmma胶g'被直接贴附至图案形成装置ma。pmma胶g'可以被设置在表膜框架17的整个周长周围。表膜组件16'由此被贴附至图案形成装置ma，因此形成掩模组件15'。
[0302]
当所述胶固化时，任何胶都可以空间变形。pmma胶g'比较有弹性(与环氧胶g相比)。进一步地，pmma胶g'可以被施加到比环氧胶g被施加的层更薄(在x方向上更小)和更高(在z方向上更大)的层中。由于pmma胶g'的固化，pmma胶g'的弹性和pmma胶g'可以被施加的尺寸导致图案形成装置ma的低变形。相比之下，如果表膜框架17使用已知的环氧胶被直接贴附至图案形成装置ma(如图22b所示)，则由于环氧胶固化导致的图案形成装置ma的变形会更大，从而导致由光刻设备投影到衬底上的图案出现误差。因此，使用pmma胶g’允许生产掩模组件15’，这克服了与使用已知环氧胶相关联的问题。
[0303]
通过使用pmma胶g'启用的掩模组件15'出于若干原因是有利的，如下所述。
[0304]
掩模组件15'可以在表膜组件16'和图案形成装置ma之间提供气封空间(参见图22b)。该掩模组件15’因此可以被描述为
‘
闭合框架’系统。有利地，这可以防止污染颗粒：粘合至图案形成装置ma的面向表膜19的一侧；粘合至表膜19的面向图案形成装置ma的一侧；和/或被设置在表膜19和图案形成装置ma之间的空间中。这可以防止这种颗粒在由光刻设备施加到衬底的图案中出现误差。
[0305]
掩模组件15'(图22b)包括比掩模组件15(图22a)更少的部件。具体地，掩模组件15包括从表膜框架17和螺柱51突出的接合机构50。在掩模组件15'中不需要这种接合机构50和螺柱51。有利地，这可能会导致掩模组件15'的制造程序更简单(与掩模组件15相比)。进一步地，所需的部件数量越少并且制造程序越简单可能会导致掩模组件15'的制造成本越低(与掩模组件15相比)。
[0306]
参照图22a，环氧胶g在每个螺柱51下方的图案形成装置ma上提供。参照图22b，pmma胶g'在图案形成装置ma上提供，使得pmma胶g'在表膜框架17的整个周长周围被设置在表膜框架17之间，并且与表膜框架17接触。因此，与掩模组件15(图22a)中被贴附至所有螺柱51的图案形成装置ma的总面积相比，在掩模组件15'(图22b)中被贴附至表膜框架17的图案形成装置ma通常具有大得多的面积。即，掩模组件15'(图22b)中的图案形成装置ma的粘结面积大于掩模组件15(图22a)中的图案形成装置ma的粘结面积。图案形成装置ma的表面可以被选择性地蚀刻，使得环氧胶g被提供的所述表面的部分(图22a)被蚀刻，以增加环氧胶g和图案形成装置ma之间的粘合。然而，由于掩模组件15’(图22b)中的图案形成装置ma的粘结面积比掩模组件15(图22a)中的大得多，因此在掩模组件15’中不需要这种蚀刻表面。有利地，这可能会减少掩模组件15'的制造时间和制造成本(与掩模组件15相比)。
[0307]
表膜可以具有比图案形成装置更短的寿命。可能期望替换形成掩模组件的一部分的表膜组件。如上所述，与已知的环氧胶相比，pmma胶更容易地可去除，并且相对更具弹性。有利地，这可以使得形成掩模组件15'的一部分的表膜组件(诸如表膜组件16')能够被更容易地替换。
[0308]
尽管在该文本中可以在光刻设备的上下文中具体引用本发明的实施例，但是本发明的实施例可以被用于其他设备中。本发明的实施例可以形成掩模检查设备、计量设备或
者测量或处理诸如晶片(或其他衬底)或掩模(或其他图案形成装置)等物体的任何设备的一部分。这些设备通常可以被称为光刻工具。这种光刻工具可以使用真空条件或环境(非真空)条件。
[0309]
术语“euv辐射”可以被认为涵盖波长在4至20nm范围内，例如在13至14nm范围内的电磁辐射。euv辐射可以具有小于10nm的波长，例如在4至10nm的范围内，诸如6.7nm或6.8nm。
[0310]
尽管在该文本中可以具体引用光刻设备在ic的制造中的使用，但是应该理解的是，本文描述的光刻设备可以具有其他应用。可能的其他应用包括制造集成光学系统、用于磁畴存储器的指导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(lcd)、薄膜磁头等。
[0311]
尽管本发明的具体实施例已经在上面描述，但是要了解的是，本发明可以以不同于所描述的方式来实践。以上描述旨在是说明性的，而不是限制性的。因此，对于本领域技术人员将显而易见的是，在不偏离下面陈述的权利要求的范围的情况下，修改可以对所描述的本发明进行。