技术特征：
1.一种防眩性膜，其为在透光性基材(a)上层叠有防眩层(b)的防眩性膜，其特征在于：所述防眩层(b)包含防眩层形成用树脂(b1)与至少一种雾度调整用填料(b2)；所述雾度调整用填料(b2)在利用纳米压痕法施加2000μn的载荷时，位移量为1540nm以下，且弹性回复率为30％以上；所述防眩性膜的总雾度值为5～45％的范围。2.根据权利要求1所述的防眩性膜，其中，所述防眩层形成用树脂(b1)与所述雾度调整用填料(b2)的折射率差以绝对值计大于0.001且小于0.15。3.根据权利要求1或2所述的防眩性膜，其中，所述雾度调整用填料(b2)为粒子。4.一种防眩性膜的设计方法，其为在透光性基材(a)上层叠有防眩层(b)的防眩性膜的设计方法，其特征在于：所述防眩层(b)包含防眩层形成用树脂(b1)与至少一种雾度调整用填料(b2)；通过设计成所述防眩性膜满足下述条件(1)及(2)，抑制所述防眩性膜的雾度值的变化；(1)所述雾度调整用填料(b2)在利用纳米压痕法施加2000μn的载荷时，位移量为1540nm以下，且弹性回复率为30％以上；(2)所述防眩性膜的总雾度值为5～45％的范围。5.一种防眩性膜的制造方法，其特征在于：其包含通过权利要求4所述的设计方法来设计所述防眩性膜的工序；且所述防眩性膜是权利要求1～3中任一项所述的防眩性膜。6.一种权利要求1～3中任一项所述的防眩性膜的制造方法，其特征在于：其包含防眩层(b)形成工序，该防眩层(b)形成工序是在所述透光性基材(a)上形成所述防眩层(b)；所述防眩层(b)形成工序包含以下工序：涂敷工序，其是在所述透光性基材(a)上将涂敷液进行涂敷；及涂膜形成工序，其是使已涂敷的所述涂敷液干燥而形成涂膜；所述涂敷液包含所述防眩层形成用树脂(b1)形成材料与所述雾度调整用填料(b2)。7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，所述防眩层(b)形成工序进一步包含使所述涂膜固化的固化工序。8.根据权利要求6或7所述的制造方法，其进一步包含通过权利要求4所述的设计方法来设计所述防眩性膜的工序。9.一种光学构件，其包含权利要求1～3中任一项所述的防眩性膜。10.根据权利要求9所述的光学构件，其为偏振片。11.一种影像显示设备，其包含权利要求1～3中任一项所述的防眩性膜、或者权利要求9或10所述的光学构件。
技术总结
本发明提供一种雾度值不易变化的防眩性膜。本发明的防眩性膜，其为在透光性基材(A)(11)上层叠有防眩层(B)(12)的防眩性膜(10)，其特征在于：防眩层(B)(12)包含防眩层形成用树脂(B1)(12a)与至少一种雾度调整用填料(B2)(12b)；雾度调整用填料(B2)(12b)在利用纳米压痕法施加2000μN的载荷时，位移量为1540nm以下，且弹性回复率为30％以上；防眩性膜10的总雾度值为5～45％的范围。雾度值为5～45％的范围。雾度值为5～45％的范围。
技术研发人员：远藤宽也 桥本尚树 安藤豪彦
受保护的技术使用者：日东电工株式会社
技术研发日：2020.11.10
技术公布日：2022/6/21