球差测试掩膜版及光刻机台的球差检测方法与流程

文档序号:26138440发布日期:2021-08-03 14:21阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种球差测试掩膜版,其特征在于,所述球差测试掩膜版上布满对应不同cd的球差测试标记,所述球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同;

每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成,所述第一测试子标记位于所述第二测试子标记的上方,所述第一测试子标记与所述第二测试子标记的形状相同,所述第一测试子标记的cd大于所述第二测试子标记的cd;

测试子标记包括第一类透光矩形条和第二类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的上方设置有两个平行的第一类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的右侧设置有两个平行的第一类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的cd是所述第一类透光矩形条的cd的2倍以上;

在所述第二测试子标记中,所述第一类透光矩形条的cd与所述待测光刻机台的最小分辨率相同。

2.一种光刻机台的球差检测方法,其特征在于,所述方法包括:

在晶圆表面涂布光刻胶;

利用球差测试掩膜版和待测光刻机台对所述晶圆进行曝光;

对曝光后的晶圆进行显影;

利用套刻机台测量所述晶圆表面形成的测试图形的套刻值;

根据套刻值与焦距变化量之间的对应关系,确定所述待测光刻机台对应不同曝光位置的球差值;

其中,所述球差测试掩膜版上布满对应不同cd的球差测试标记,所述球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同;

每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成,所述第一测试子标记位于所述第二测试子标记的上方,所述第一测试子标记与所述第二测试子标记的形状相同,所述第一测试子标记的cd大于所述第二测试子标记的cd;

测试子标记包括第一类透光矩形条和第二类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的上方设置有两个平行的第一类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的右侧设置有两个平行的第一类透光矩形条,所述第二类透光矩形条的cd是所述第一类透光矩形条的cd的2倍以上;

在所述第二测试子标记中,所述第一类透光矩形条的cd与所述待测光刻机台的最小分辨率相同。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:

获取套刻值与焦距变化量之间的对应关系。


技术总结
本申请公开了一种球差测试掩膜版及光刻机台的球差检测方法,涉及半导体制造领域。该球差测试掩膜版上布满对应不同CD的球差测试标记,球差测试掩膜版的大小与待测光刻机台的最大曝光区域的大小相同;每个球差测试标记由第一测试子标记和第二测试子标记构成,第一测试子标记位于第二测试子标记的上方,第一测试子标记与第二测试子标记的形状相同,第一测试子标记的CD大于第二测试子标记的CD;测试子标记包括两类透光矩形条,第二类透光矩形条的上方和右侧分别设置有第一类透光矩形条;在第二测试子标记中第一类透光矩形条的关键尺寸与最小分辨率相同;解决了目前光刻机台的球差检测复杂的问题;达到了提高测量光刻机台球差的简便度的效果。

技术研发人员:栾会倩;吴长明;姚振海
受保护的技术使用者:华虹半导体(无锡)有限公司
技术研发日:2021.04.21
技术公布日:2021.08.03
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