本发明涉及镀膜领域，具体为一种光学透镜镀膜的方法。
背景技术：
当光线进入不同传递物质时(如由空气进入玻璃)，大约有5％会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30％至40％，现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5％，多层增透膜则可让反射降低至0.25％，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95％，镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。
而在现在的透镜镀膜的过程中，常常都是采用各种材料进行堆积形成薄膜，从而进行保证透镜的各种性能，但是透镜使用的环境常常较为复杂，需要在不同的环境下进行适应光线，这是现在的镀膜方法无法做到的，并且无法进行人工的调节，也无法保证强度。
技术实现要素：
本发明的目的克服现有技术的不足，提供一种光学透镜镀膜的方法，具有多种环境适应、人工调节、防护强度高的优点，解决了现有技术中的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种光学透镜镀膜的方法，包括透镜、载玻片、磁控溅射镀膜机、zn:al、纯钨靶、真空溅射室、氩、氧气、过硫酸钾、化学溶液、氢氧化锂、二氧化硅；
所述真空溅射室真空度为：3×10-3pa，溅射气压为1pa，所述化学溶液为丙稀酰胺和甲基丙磺酸制备而成。
制备方法如下：
(1)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，溅射功率为100+w进行制备薄膜a；
(2)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，溅射功率分别为40、50、60、70、80+w，进行制备薄膜b；
(3)在化学溶液内加入过硫酸钾，再加入氢氧化锂，并在70-80℃下反应5-8个小时得到溶液a，在溶液a内加入亚甲基双丙烯酰胺，并在70-80℃下搅拌50-60min得到凝胶状离子导体；
(4)在薄膜a和薄膜b上沉淀凝胶状离子导体，然后和作为对电极的透镜粘结，60+℃下干燥4+h，进行封装得到渐变透膜；
(5)将二氧化硅通过溅射镀膜机在渐变透膜上制作透膜。
优选的，所述(1)流量分别为80和28+cm3/min。
优选的，所述(2)流量分别为70和37.7+cm3/min。
优选的，所述(4)封装采用聚酯胶进行四周封装。
该发明中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
与现有技术相比，本发明的有益效果如下：
1：一种光学透镜镀膜的方法采用薄膜a和薄膜b进行制备基础载体，并通过凝胶状离子导体进行保证电性的导通，保证薄膜的电渐变色，方便对透膜的透光数据进行自主的调节，通过真空溅射室和溅射镀膜机进行镀膜，保证镀膜的制备，保证透膜的各项性能。
具体实施方式
下面结合具体实施例来进一步描述本发明，本发明的优点和特点将会随着描述而更为清楚，但实施例仅是范例性的，并不对本发明的范围构成任何限制，本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本发明的精神和范围下可以对本发明技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本发明的保护范围内。
实施例1
一种光学透镜镀膜的方法，包括透镜、载玻片、磁控溅射镀膜机、zn:al、纯钨靶、真空溅射室、氩、氧气、过硫酸钾、化学溶液、氢氧化锂、二氧化硅；
所述真空溅射室真空度为：3×10-3pa，溅射气压为1pa，所述化学溶液为丙稀酰胺和甲基丙磺酸制备而成。
制备方法如下：
(1)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，流量分别为80和28+cm3/min，溅射功率为100+w进行制备薄膜a；
(2)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，流量分别为70和37.7+cm3/min，溅射功率分别为40、50、60、70、80+w，进行制备薄膜b；
(3)在化学溶液内加入过硫酸钾，再加入氢氧化锂，并在70℃下反应5个小时得到溶液a，在溶液a内加入亚甲基双丙烯酰胺，并在70℃下搅拌50min得到凝胶状离子导体；
(4)在薄膜a和薄膜b上沉淀凝胶状离子导体，然后和作为对电极的透镜粘结，60+℃下干燥4+h，采用聚酯胶进行四周封装得到渐变透膜；
(5)将二氧化硅通过溅射镀膜机在渐变透膜上制作透膜。
具体的：采用薄膜a和薄膜b进行制备基础载体，并通过凝胶状离子导体进行保证电性的导通，保证薄膜的电渐变色，方便对透膜的透光数据进行自主的调节，通过真空溅射室和溅射镀膜机进行镀膜，保证镀膜的制备，保证透膜的各项性能。
实施例2
一种光学透镜镀膜的方法，包括透镜、载玻片、磁控溅射镀膜机、zn:al、纯钨靶、真空溅射室、氩、氧气、过硫酸钾、化学溶液、氢氧化锂、二氧化硅；
所述真空溅射室真空度为：3×10-3pa，溅射气压为1pa，所述化学溶液为丙稀酰胺和甲基丙磺酸制备而成。
制备方法如下：
(1)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，流量分别为80和28+cm3/min，溅射功率为100+w进行制备薄膜a；
(2)在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，流量分别为70和37.7+cm3/min，溅射功率分别为40、50、60、70、80+w，进行制备薄膜b；
(3)在化学溶液内加入过硫酸钾，再加入氢氧化锂，并在80℃下反应8个小时得到溶液a，在溶液a内加入亚甲基双丙烯酰胺，并在80℃下搅拌60min得到凝胶状离子导体；
(4)在薄膜a和薄膜b上沉淀凝胶状离子导体，然后和作为对电极的透镜粘结，60+℃下干燥4+h，采用聚酯胶进行四周封装得到渐变透膜；
(5)将二氧化硅通过溅射镀膜机在渐变透膜上制作透膜。
具体的：采用薄膜a和薄膜b进行制备基础载体，并通过凝胶状离子导体进行保证电性的导通，保证薄膜的电渐变色，方便对透膜的透光数据进行自主的调节，通过真空溅射室和溅射镀膜机进行镀膜，保证镀膜的制备，保证透膜的各项性能。
综上：本发明一种光学透镜镀膜的方法在开始时，在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，溅射功率为100+w进行制备薄膜a，在真空溅射室采用溅射镀膜机以载玻片为基片，其中溅射靶材为zn:al和纯钨靶，通过氩和氧气混合气体为工作气体，衬底温度为室温，溅射功率分别为40、50、60、70、80+w，进行制备薄膜b，在化学溶液内加入过硫酸钾，再加入氢氧化锂，并在70-80℃下反应5-8个小时得到溶液a，在溶液a内加入亚甲基双丙烯酰胺，并在70-80℃下搅拌50-60min得到凝胶状离子导体，在薄膜a和薄膜b上沉淀凝胶状离子导体，然后和作为对电极的透镜粘结，60+℃下干燥4+h，进行封装得到渐变透膜，将二氧化硅通过溅射镀膜机在渐变透膜上制作透膜；采用薄膜a和薄膜b进行制备基础载体，并通过凝胶状离子导体进行保证电性的导通，保证薄膜的电渐变色，方便对透膜的透光数据进行自主的调节，通过真空溅射室和溅射镀膜机进行镀膜，保证镀膜的制备，保证透膜的各项性能。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点，本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内，本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。