一种光刻机及其可精准对位曝光机构的制作方法

1.本实用新型涉及光刻机技术领域，特别涉及一种光刻机及其可精准对位曝光机构。


背景技术：

2.光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序，它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程，被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。
3.现有的光刻机的曝光机构包括掩膜安装板以及用于承载晶圆的晶圆支撑板，为了提高曝光精度，要求对晶圆精准对位，使晶圆与掩模板平行、且使晶圆与预设位置对正，以防止晶圆上的曝光图案出现层偏，故如何对晶圆精确对位成了本领域急需解决的技术问题。


技术实现要素：

4.有鉴于此，本实用新型提供一种光刻机及其可精准对位曝光机构，主要所要解决的技术问题是：如何对晶圆精确对位，使晶圆与掩模板平行、且使晶圆与预设位置对正。
5.为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：
6.一方面，本实用新型的实施例提供一种光刻机的可精准对位曝光机构，其包括上模板、下模板、用于承载晶圆的晶圆支撑板、用于安装掩膜板的掩膜安装板、调正驱动机构以及调平驱动机构；
7.所述掩膜安装板可浮动地安装在上模板上，使掩膜安装板的各边角之间可相对升降；
8.所述晶圆支撑板可活动地安装在下模板的支撑面上，使晶圆支撑板的各边角均可沿平行于支撑面的方向相对运动；
9.所述调平驱动机构用于沿垂直于支撑面的方向对掩膜安装板施加力，使掩膜安装板与晶圆平行；
10.所述调正驱动机构用于沿平行于支撑面的方向对晶圆支撑板施加力，以对晶圆支撑板的位置进行调节。
11.可选的，所述掩膜安装板具有间隔分布的三个调节区域m1、m2和m3；
12.所述调平驱动机构用于分别对三个调节区域m1、m2和m3施加力，使掩膜安装板与晶圆平行。
13.可选的，所述调平驱动机构包括弹性件和三个驱动机构，所述弹性件用于提供掩模板上各调节区域相对晶圆支撑板下降的力；
14.三个驱动机构与三个调节区域m1、m2和m3一一对应，以分别驱动相应的调节区域上升。
15.可选的，所述的可精准对位曝光机构还包括限位结构，所述限位结构用于对掩膜
安装板的浮动高度进行限位。
16.可选的，所述限位结构包括螺栓和用于旋拧在螺栓上的螺母；
17.所述掩膜安装板上设有过孔，螺栓的螺杆用于依次穿过上模板和掩膜安装板的过孔，且使上模板和掩膜安装板位于螺栓的头部与螺母之间；其中，所述过孔的孔径大于螺杆的外径，所述限位结构通过螺栓的头部或螺母对掩膜安装板进行止挡，以对其浮动高度进行限位。
18.可选的，所述晶圆支撑板通过第一平面轴承与下模板连接；
19.所述第一平面轴承包括上垫圈、下垫圈以及位于上垫圈和下垫圈之间的平面保持架，第一平面轴承的上垫圈用于通过固定轴与下模板保持相对固定，所述第一平面轴承的下垫圈用于与晶圆支撑板保持相对固定。
20.可选的，所述调正驱动机构用于沿不同的方向对晶圆支撑板上的三处施加力，以对晶圆支撑板的位置进行调节；其中，晶圆支撑板上具有三个受力处a1、a2和a3，晶圆支撑板在受力处a1的受力方向为x方向，晶圆支撑板在受力处a2的受力方向为y1方向，晶圆支撑板在受力处a3的受力方向为y2方向，受力处a1位于晶圆支撑板的一侧，受力处a2和a3位于晶圆支撑板相邻的另一侧、且间隔设置；y1方向和y2方向平行、且两者均与x方向垂直。
21.可选的，所述调正驱动机构包括x位置调节机构、y1位置调节机构以及y2位置调节机构；
22.所述x位置调节机构用于沿x方向对晶圆支撑板施加力，所述y1位置调节机构用于沿y1方向对晶圆支撑板施加力，所述y2位置调节机构用于沿y2方向对晶圆支撑板施加力。
23.可选的，所述上模板可相对下模板升降；
24.所述曝光机构还包括用于驱动上模板运动的升降驱动机构。
25.另一方面，本实用新型的实施例还提供一种光刻机，其可以包括上述任一种所述的可精准对位曝光机构。
26.借由上述技术方案，本实用新型光刻机及其可精准对位曝光机构至少具有以下有益效果：
27.由于掩膜安装板为浮动式设计，使掩膜安装板的各边角之间可相对升降，从而当调平驱动机构对掩膜安装板施加力时可以将掩膜安装板调平，使掩膜板与晶圆平行。另外，由于晶圆支撑板也为浮动式设计，晶圆支撑板的各边角均可沿平行于支撑面的方向相对运动，从而当调正驱动机构对晶圆支撑板施加力时，可以对晶圆支撑板调正。其中，掩膜安装板与晶圆支撑板的双浮动式设计，可以实现对晶圆的精确对位，使晶圆与掩模板平行、且使晶圆与预设位置对正。
28.上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
29.图1是本实用新型的一实施例提供的一种光刻机的可精准对位曝光机构的结构示意图；
30.图2是图1中光刻机的可精准对位曝光机构的上模板上升时的部分结构示意图；
31.图3是体现掩膜安装板背面结构的结构示意图；
32.图4是体现晶圆支撑板正面结构的结构示意图；
33.图5是掩膜安装板与上模板的分解示意图；
34.图6是驱动机构的结构示意图；
35.图7是下模板的结构示意图；
36.图8是图7中a处的放大结构示意图；
37.图9是本实用新型的一实施例提供的一种连接件的分解示意图；
38.图10是x位置调节机构的结构示意图。
39.附图标记：1、上模板；2、晶圆支撑板；3、掩膜安装板；4、驱动机构；5、弹性件；6、限位结构；7、连接件；8、掩膜板；9、晶圆；10、下模板；11、安装孔；12、支撑台；13、导向杆；14、限位块；15、支撑柱；16、机台；17、升降驱动机构；18、x位置调节机构；19、y1位置调节机构；20、y2位置调节机构；21、第一平面轴承；22、安装槽；23、第二平面轴承；32、过孔；41、丝杆电机；42、输出轴；43、推杆；44、限位杆；45、第一止挡件；46、第二止挡件；61、螺栓；62、螺母；71、连接板；72、卡固件；73、螺杆；701、卡固孔；702、另一过孔；181、第一驱动机构；182、第一弹力装置；201、支撑面；211、上垫圈；212、下垫圈；213、固定轴；231、上垫板；232、下垫板。
具体实施方式
40.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
41.需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
42.另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
43.如图1和图2所示，本实用新型的一个实施例提出的一种光刻机的可精准对位曝光机构，其包括上模板1、下模板10、晶圆支撑板2、掩膜安装板3、调正驱动机构以及调平驱动机构。晶圆支撑板2用于承载晶圆9，晶圆支撑板2上可以具有承载部，以通过承载部对晶圆9提供支撑。掩膜安装板3用于安装掩膜板8，比如掩膜板8可以吸附固定在掩膜安装板3上。
44.前述的掩膜安装板3可浮动地安装在上模板1上，使掩膜安装板3的各边角之间可相对升降。晶圆支撑板2可活动地安装在下模板10的支撑面201上，使晶圆支撑板2的各边角均可沿平行于支撑面201的方向相对运动。前述的调平驱动机构用于沿垂直于支撑面201的方向对掩膜安装板3施加力，使掩膜安装板3与晶圆9平行。调正驱动机构用于沿平行于支撑面201的方向对晶圆支撑板2施加力，以对晶圆支撑板2的位置进行调节。
45.在上述示例中，由于掩膜安装板3为浮动式设计，使掩膜安装板3的各边角之间可相对升降，从而当调平驱动机构对掩膜安装板3施加力时可以将掩膜安装板3调平，使掩膜板8与晶圆9平行。另外，由于晶圆支撑板2也为浮动式设计，晶圆支撑板2的各边角均可沿平行于支撑面201的方向相对运动，从而当调正驱动机构对晶圆支撑板2施加力时，可以对晶圆支撑板2调正。其中，掩膜安装板3与晶圆支撑板2的双浮动式设计，可以实现对晶圆9的精确对位，使晶圆9与掩模板平行、且使晶圆9与预设位置对正。
46.为了实现调平驱动机构的功能，使调平驱动机构可以对掩膜安装板3调平，如图3所示，掩膜安装板3上可以具有间隔分布的三个调节区域m1、m2和m3。调节区域m1、m2和m3可以为三角形比如等边三角形的三个顶点。前述的调平驱动机构用于分别对三个调节区域m1、m2和m3施加力，使掩膜安装板3与晶圆9平行。其中，由于三个点即可确定一个平面，通过对三个调节区域m1、m2和m3进行调节，可以对掩膜板8所在平面进行调节，使掩膜板8与晶圆9平行。
47.进一步的，如图2所示，前述的调平驱动机构可以包括弹性件5和三个驱动机构4，弹性件5可以为弹簧或柔性塑胶等。弹性件5用于提供掩模板上各调节区域相对晶圆支撑板2下降的力。三个驱动机构4与三个调节区域m1、m2和m3一一对应，以分别驱动相应的调节区域上升。在本示例中，弹性件5与各驱动机构4相互配合，可以实现对各调节区域的升降进行控制的目的。
48.如图2所示，本实用新型的曝光机构还可以包括限位结构6，限位结构6用于对掩膜安装板3的浮动高度进行限位，以使掩膜安装板3在设定的范围内浮动，减少无意义的浮动，提高浮动效率。其中，限位结构6的数量可以与掩膜安装板3的边角的数量相等，且一一对应，各限位结构6用于对相应掩膜安装板3的边角的浮动高度进行限位。在一个具体的应用示例中，掩膜安装板3为方形，其具有四个边角，限位结构6的数量与为四个、且与掩膜安装板3的四个边角一一对应。在本示例中，通过将各限位结构6设置在掩膜安装板3的边角处，可以避免限位结构6对掩膜安装板3中央的曝光光线造成干扰。
49.如图5所示，前述的限位结构6可以包括螺栓61和用于旋拧在螺栓61上的螺母62。掩膜安装板3上设有过孔32，螺栓61的螺杆73用于依次穿过上模板1和掩膜安装板3的过孔32，且使上模板1和掩膜安装板3位于螺栓61的头部与螺母62之间。其中，过孔32的孔径大于螺杆73的外径，螺杆73可以对掩膜安装板3向侧面的浮动进行限位，比如可以对掩膜安装板3在前、后、左、右等方向上的浮动进行限位。另外，限位结构6还通过螺栓61的头部或螺母62对掩膜安装板3进行止挡，以对其浮动高度进行限位。
50.如图5所示，前述的上模板1上还设有用于容纳掩膜安装板3的安装孔11，安装孔11的内部具有用于对掩膜安装板3提供支撑的支撑台12；螺栓61用于穿过支撑台12，以通过支撑台12与上模板1连接。在本示例中，通过设置的安装孔11，可以将掩膜安装板3安装在上模板1内部，以使两者的组装结构更加紧凑。
51.其中，如图5所示，螺栓61的螺杆73优选的用于从下侧穿过支撑台12和掩膜安装板3，以使螺母62位于掩膜安装板3的上侧，以方便作业人员从上侧旋拧螺母62。
52.如图6所示，前述的驱动机构4可以包括丝杆电机41，丝杆电机41通过其输出端驱动相应的调节区域上升。其中，驱动机构4与掩模板不连接，丝杆电机41的输出端上升时推动掩模板的相应调节区域上升，当丝杆电机41的输出端下降时，掩模板的相应区域在弹性
件5的推动作用下下降。在一个具体的应用示例中，丝杆电机41的输出轴42上可以卡固有推杆43，以通过推杆43推动掩模板的相应调节区域上升。丝杆电机41的输出轴42上还可以设有限位杆44，比如限位杆44套固在输出轴42上。限位杆44用于随电机的输出轴42一起升降。晶圆支撑板2上还安装有第一止挡件45和第二止挡件46。其中，限位杆44用于随丝杆电机41的输出轴42上升至上极限位置时与第一止挡件45相抵，且用于随丝杆电机41的输出轴42下降至下极限位置时与第二止挡件46相抵。在本示例中，通过设置的第一止挡件45和第二止挡件46，可以防止丝杆电机41的输出轴42过度伸缩。
53.这里需要说明的是：如图5所示，当前述的限位结构6包括螺栓61和用于旋拧在螺栓61上的螺母62时，弹性件5的数量与限位结构6的数量相等、且一一对应。其中，弹性件5用于套设在螺栓61的螺杆73上、且位于掩膜安装板3的背离上模板1的一侧。当螺杆73从下侧穿过掩膜安装板3使螺母62位于掩膜安装板3的上侧时，弹性件5可以位于掩膜安装板3与螺母62之间。在本示例中，当作业人员旋拧螺母62时，可以对弹性件5施加到掩膜安装板3的力度进行调节，以适应现场的工作环境。
54.为了减小掩膜安装板3的磨损，前述掩膜安装板3的各调节区域可以均安装有耐磨板，耐磨板可相对掩膜安装板3拆卸，比如通过螺丝可拆卸连接等。前述的各驱动机构4通过抵推耐磨板带动掩膜安装板3的相应调节区域上升。
55.为了实现前述晶圆支撑板2的各边角均可沿平行于支撑面201的方向相对运动的目的，如图4所示，晶圆支撑板2可以通过第一平面轴承21与下模板10连接。其中，第一平面轴承21的数量可以为两个以上，优选的，第一平面轴承21的数量为四个、且绕晶圆支撑板2的周向间隔分布。在一个具体的应用示例中，如图8所示，第一平面轴承21可以包括上垫圈211、下垫圈212以及位于上垫圈211和下垫圈212之间的平面保持架。第一平面轴承21的上垫圈211用于通过固定轴213与下模板10保持相对固定，固定轴213可以与第一平面轴承21的上垫圈211和下模板10均固定。第一平面轴承21的下垫圈212和平面保持架上均设有供固定轴213穿过的避位过孔，且避位过孔的孔径大于固定轴213的轴径。第一平面轴承21的下垫圈212用于与晶圆支撑板2保持相对固定。优选的，晶圆支撑板2上设有安装槽22，第一平面轴承21用于通过下垫圈212安装在安装槽22内，且下垫圈212固定地套设在安装槽22内。在本示例中，晶圆支撑板2可以通过第一平面轴承21相对下模板10沿平行于支撑面201的方向运动。
56.为了减小晶圆支撑板2与下模板10之间的摩擦阻力，优选的，如图7所示，晶圆支撑板2与下模板10之间还设有第二平面轴承23，如图8所示，第二平面轴承23包括上垫板231、下垫板232以及位于上垫板231和下垫板232之间的平面保持架。其中，第二平面轴承23通过下垫板232与下模板10连接，且下垫板232与下模板10保持相对固定。第二平面轴承23通过上垫板231对晶圆支撑板2提供支撑，使晶圆支撑板2与支撑面201之间具有间隔。
57.上述第二平面轴承23的数量可以为两个以上，在一个具体的应用示例中，第二平面轴承23的数量为四个、且绕晶圆支撑板2的周向间隔分布。
58.为了将晶圆9调整至与预设位置一致，优选的，调正驱动机构用于沿不同的方向对晶圆支撑板2上的三处施加力，以对晶圆支撑板2的位置进行调节；晶圆支撑板2上具有三个受力处a1、a2和a3，晶圆支撑板2在受力处a1的受力方向为x方向，晶圆支撑板2在受力处a2的受力方向为y1方向，晶圆支撑板2在受力处a3的受力方向为y2方向，其中， 受力处a1位于
晶圆支撑板2的一侧，受力处a2和a3位于晶圆支撑板2相邻的另一侧、且间隔设置。y1方向和y2方向平行、且两者均与x方向垂直。
59.在上述示例中，调正驱动机构可以采用xyy的方式对晶圆支撑板2的位置进行调节，使晶圆支撑板2的位置与预设位置一致。
60.进一步的，如图2所示，前述的调正驱动机构可以包括x位置调节机构18、y1位置调节机构19以及y2位置调节机构20。x位置调节机构18用于沿x方向对晶圆支撑板2施加力，y1位置调节机构19用于沿y1方向对晶圆支撑板2施加力，y2位置调节机构20用于沿y2方向对晶圆支撑板2施加力。
61.如图10所示，前述的x位置调节机构18可以包括第一驱动机构181和第一弹力装置182。第一驱动机构181用于驱动晶圆支撑板2沿x方向向一侧运动，其中，第一驱动机构181可以包括第一直线运动模组，以通过第一直线运动模组驱动晶圆支撑板2沿x方向向一侧运动，该第一直线运动模组可以为驱动缸或滚珠丝杆结构等。第一弹力装置182用于驱动晶圆支撑板2沿x方向向相背的另一侧运动。在本示例中，第一驱动机构181与第一弹力装置182两者相互配合，可以驱动晶圆支撑板2沿x方向向前或向后运动。在一个具体的应用示例中，如图10所示，上述的第一弹力装置182可以为弹簧或弹性塑胶等，第一弹力装置182的一端与晶圆支撑板2连接，另一端与下模板10连接。
62.前述的y1位置调节机构19可以包括第二驱动机构和第二弹力装置。第二驱动机构用于驱动晶圆支撑板2沿y1方向向一侧运动，其中，第二驱动机构可以包括第二直线运动模组，以通过第二直线运动模组驱动晶圆支撑板2沿y1方向向一侧运动，该第二直线运动模组可以为驱动缸或滚珠丝杆结构等。第二弹力装置用于驱动晶圆支撑板2沿y1方向向相背的另一侧运动。在本示例中，第二驱动机构与第二弹力装置两者相互配合，可以驱动晶圆支撑板2沿y1方向向前或向后运动。在一个具体的应用示例中，上述的第二弹力装置可以为弹簧或弹性塑胶等，第二弹力装置的一端与晶圆支撑板2连接，另一端与下模板10连接。
63.前述的y2位置调节机构20可以包括第三驱动机构和第三弹力装置。第三驱动机构用于驱动晶圆支撑板2沿y2方向向一侧运动，其中，第三驱动机构可以包括第三直线运动模组，以通过第三直线运动模组驱动晶圆支撑板2沿y2方向向一侧运动，该第三直线运动模组可以为驱动缸或滚珠丝杆结构等。第三弹力装置用于驱动晶圆支撑板2沿y2方向向相背的另一侧运动。在本示例中，第三驱动机构与第三弹力装置两者相互配合，可以驱动晶圆支撑板2沿y2方向向前或向后运动。在一个具体的应用示例中，如图所示，上述的第三弹力装置可以为弹簧或弹性塑胶等，第三弹力装置的一端与晶圆支撑板2连接，另一端与下模板10连接。
64.进一步的，前述的上模板1可相对下模板10升降。如图1所示，曝光机构还包括用于驱动上模板1运动的升降驱动机构17。其中，当上模板1上升以远离下模板10时，上模板1与下模板10之间的距离增大，如此具有方便取放晶圆9的效果。另外，对某些晶圆9进行加工时，需要掩膜板8与晶圆9相抵。由于掩膜安装板3为浮动板，当上模板1带动掩膜板8靠近晶圆9直至与晶圆9相抵时，掩膜板8在下压晶圆9的过程中可以受晶圆9推动，而使自身的各个边角发生不同程度的运动，以补偿各边角与晶圆9之间的间隙，使掩膜板8的各个边角均与晶圆9贴合，从而可以保证掩膜板8与晶圆9平行，如此可以提高掩膜板8与晶圆9的平行度。
65.前述的曝光机构还可以包括导向部，导向部用于对上模板1的升降导向，以提高上
模板1的升降精度。如图1所示，前述的导向部可以包括用于与上模板1连接的导向杆13，下模板10上设有供导向杆13穿过的导向孔，导向杆13用于与导向孔滑动配合、且穿过机台16。其中，升降驱动机构17用于通过导向杆13驱动上模板1升降，如此实现了机台16下方的驱动机构4与上方的上模板1驱动连接的效果。
66.上述下模板10可以通过支撑柱15固定在机台16上、且与机台16之间具有间隙，如此具有方便在下模板10与机台16之间安装其它零部件的效果。其中，支撑柱15位于下模板10与机台16之间，支撑柱15一端可以通过螺丝等与下模板10固定连接，支撑柱15的另一端可以通过螺丝等与机台16的上侧固定连接。前述的导向杆13用于经由支撑柱15内部穿过机台16，如此具有节省空间的效果。
67.如图1所示，前述的导向杆13上还可以套设有限位块14，限位块14可以卡固在导向杆13上，以随导向杆13一起升降。限位块14位于上模板1与下模板10之间，限位块14用于在上模板1下降至极限位置时与下模板10相抵，以对上模板1的下降高度进行限位，防止上模板1过度下降而压坏下模板10。
68.为了实现前述升降驱动机构17的功能，升降驱动机构17可以包括丝杆螺母结构。丝杆螺母结构具有丝杆和套设在丝杆上的螺母座，丝杆转动时可带动螺母座沿丝杆直线运动。导向杆13用于与丝杆螺母结构的螺母座连接，以在丝杆螺母结构的丝杆的带动下升降。其中，升降驱动机构17还可以包括驱动电机，驱动电机用于驱动丝杆螺母结构的丝杆转动。
69.在一个具体的应用示例中，如图1所示，前述导向杆13的数量可以为四个、且一一对应地设置在上模板1的四个角。其中，该四个导向杆13分为两组，每组均包含两个导向杆13，且该两个导向杆13的下部通过连接件7连接。前述升降驱动机构17的数量也为两组，且与两个连接件7一一对应，各升降驱动机构17的螺母座用于与相应连接件7连接，以通过连接件7带动相应的导向杆13升降。在本示例中，通过在上模板1的四个边角均设置导向杆13，可以提高上模板1的升降精度。另外，通过将导向杆13分为两组，并且每组均通过一个升降驱动机构17进行驱动，如此具有节省升降驱动机构17数量的优点，并且可以保证每组内两个导向杆13的升降运动能够保持一致。
70.如图9所示，前述的连接件7可以包括连接板71和卡固件72。卡固件72具有用于套设在导向杆13上的卡固孔701，卡固件72的数量为两个、且一一对应地设置在连接板71两端的下侧，两个卡固件72可以均通过螺丝与连接板71进行固定。连接板71的两端还分别设有供导向杆13穿入卡固孔701的另一过孔702。其中，连接件7通过连接板71与相应升降驱动机构17的螺母座连接。优选的，连接板71的中部可以通过螺丝固定在相应升降驱动机构17的螺母座上。
71.如图9所示，前述卡固件72的底部还可以螺纹连接有螺杆73，螺杆73可以为螺栓61等。螺杆73用于与导向杆13的下端相抵，以对导向杆13插入卡固孔701的深度进行限位，防止连接件7一侧的导向杆13过度插入而影响另一侧导向杆13的连接。
72.本实用新型的实施例还提供一种光刻机，其可以包括上述任一示例中的可精准对位曝光机构。在本示例中，由于光刻机采用上述可精准对位曝光机构的缘故，掩膜安装板3与晶圆支撑板2的双浮动式设计，可以实现对晶圆9的精确对位，使晶圆9与掩模板平行、且使晶圆9与预设位置对正。
73.这里需要说明的是：在不冲突的情况下，本领域的技术人员可以根据实际情况将
上述各示例中相关的技术特征相互组合，以达到相应的技术效果，具体对于各种组合情况在此不一一赘述。
74.以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。