掩膜版、阵列基板及显示面板的制作方法

1.本实用新型涉及平面显示器技术领域，特别涉及一种掩膜版、阵列基板及显示面板。


背景技术：

2.由于薄膜晶体管液晶显示器(tft-lcd)具有低辐射、体积小、能耗低等优点被广泛的应用于各类电子信息产品上。随着科技的发展，市场对tft-lcd的品质要求越来越高，提高显示屏品味是提高品质的关键。显示亮度不均(mura)是一种常见的品质不良，大部分显示不均都是由于配向层(polyimide，pi)异常导致的。为提高生产效率，大世代线的显示屏通常采用喷墨打印的方式进行pi涂布，这种涂布方式的缺点是容易造成mura，特别是过孔密集的地方，这是因为有过孔的位置容易造成pi液的堆积。
3.一般的，有效显示区(active area，aa)周边是信号的输入起始端，这些位置有很多的过孔设计，这些过孔的设计导致pi堆积，影响aa区周边的pi向外扩散。特别是在阵列基板上铺设有平坦层(polymer film on array，pfa)的产品，由于pfa层的厚度很厚(1～2um)，过孔会更大更深，更容易造成pi在这些位置的堆积，从而更易形成周边mura。


技术实现要素：

4.本实用新型的主要目的是提出一种掩膜版、阵列基板及显示面板，以在所述阵列基板上成型部分厚度递减的平坦层，进而在成型所述配向膜时，增强配向膜液滴扩散能力，改善亮暗不均匀，以提高产品的质量。
5.为实现上述目的，本实用新型提出一种掩膜版，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置。
6.可选地，所述调光膜版设置为灰色调掩膜版，所述调光膜版上设有透光孔，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的透光面积呈渐变设置。
7.可选地，所述透光孔呈长形设置，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的宽度呈渐变设置。
8.可选地，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述透光孔的宽度呈逐渐减小设置，用以对应采用负向光阻材料光刻成型所述平坦层。
9.可选地，所述调光膜版设置为半色调掩膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光率呈渐变设置。
10.可选地，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光率呈逐渐减小设置，用以对应采用负向光阻材料光刻成型所述平坦层。
11.本实用新型还提出一种阵列基板，所述阵列基板包括衬底基板、第一绝缘层结构、色阻层、平坦层以及配向膜，所述第一绝缘层结构形成于所述衬底基板，所述色阻层形成于
所述第一绝缘层结构，所述平坦层形成于所述色阻层，所述配向膜形成于所述平坦层，所述整列基板上形成有显示区，所述平坦层为采用掩膜版光刻制作，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，对应所述膜版主体成型的局部平坦层与对应所述调光膜版成型的局部平坦层的交界处于所述显示区的外侧边缘。
12.可选地，所述平坦层对应在所述显示区的边缘处设有导电通孔；和/或，
13.对应所述调光膜版成型的局部平坦层的表面呈平面设置。
14.可选地，对应所述膜版主体成型的局部平坦层与对应所述调光膜版成型的局部平坦层的夹角为α，且5
°
≤α≤20
°
。
15.本实用新型还提出一种显示面板，所述显示面板包括彩膜基板以及与所述彩膜基板相对的阵列基板，所述阵列基板包括平坦层，所述整列基板上形成有显示区，所述平坦层为采用掩膜版光刻制作，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，对应所述膜版主体成型的局部平坦层与对应所述调光膜版成型的局部平坦层的交界处于所述显示区的外侧边缘。
16.本实用新型提供的技术方案中，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，在光刻工艺中，采用所述掩膜版成型平坦层时，对应所述膜版主体成型的部分平坦层厚度均匀，对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，以在所述平坦层上形成配向膜时，减少配向膜溶液堆积，增强配向膜液滴扩散能力，改善亮暗不均匀，提高了产品的质量。
附图说明
17.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
18.图1为本实用新型实施例一提供的掩膜版的第一俯视示意图；
19.图2为图1中局部a的放大示意图；
20.图3为本实用新型实施例二提供的掩膜版的第二俯视示意图；
21.图4为图3中局部b的放大示意图；
22.图5为本实用新型实施例三提供的阵列基板的剖视示意图；
23.图6为图5中阵列基板(部分结构)的俯视示意图；
24.图7为图6中沿c-c或者d-d向的剖视结构示意图。
25.附图标号说明：
26.[0027][0028]
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
[0029]
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0030]
需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。
[0031]
另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“a和/或b”为例，包括a方案、或b方案、或a和b同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。
[0032]
请参阅图1至图4，本实用新型提出一种掩膜版1。
[0033]
所述掩膜版1用于在光刻工艺中成型平坦层40，所述掩膜版1包括膜版主体11以及自所述膜版主体11周缘延伸出的调光膜版12，自所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，所述调光膜版12的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版12成型的部分平坦层的厚度呈递减设置。
[0034]
本实用新型提供的技术方案中，所述掩膜版1包括膜版主体11以及自所述膜版主体11周缘延伸出的调光膜版12，自所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，所述调光膜版12的透光量呈渐变设置，在光刻工艺中，采用所述掩膜版1成型平坦层40时，对应所述膜版主体11成型的部分平坦层厚度均匀，对应所述调光膜版12成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，以在所述平坦层40上形成配向膜50时，减少配向膜50溶液堆积，增强pi液滴扩散能力，改善mura，提高了产品的质量。
[0035]
可以理解的是，所述膜版主体11为一个圆形或者方形的结构，所述调光膜版12为
环绕在所述膜版主体11周缘的一个环形结构，所述膜版主体11与所述调光膜版12两者可以是一体设置，即所述膜版主体11与所述调光膜版12为均所述掩膜版1对应的不同区域，也可以是所述膜版主体11与所述调光膜版12两者分别加工后组合在一起，如，采用粘结、拼接等方式。
[0036]
另外，所述膜版主体11和所述调光膜版12可以采用相同的透光方式，也可以采用不同的透光方式，如，在采用相同的透光方式的实施例中，所述膜版主体11和所述调光膜版12均可以设置为灰色调掩膜版的形式，也可以均设置为半色调掩膜版的形式；在采用不同的透光方式的实施例中，所述膜版主体11可以设置为灰色调掩膜版的形式，所述调光膜版12可以均设置为半色调掩膜版的形式，也可以是，所述膜版主体11可以设置为半色调掩膜版的形式，所述调光膜版12可以均设置为灰色调掩膜版的形式，以上均是本实用新型的实施例。
[0037]
需要说明的是，平坦层pfa被越来越多应用在液晶显示面板上。采用pfa既能很好的改善寄生电容，提高穿透率，还能平坦化基板地形，改善拼接不良(mura)，并且pfa透气性能佳，还能有效改善气泡(bubble)问题。
[0038]
对应所述调光膜版12成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，可以理解的是，对应所述调光膜版12成型的部分平坦层可以呈线性递减设置，也可以是非线性递减设置，如，多个斜率不同的递减线段，或者，部分是曲线段设置等等，以上均是本实用新型的实施例。
[0039]
平坦层pfa为有机绝缘膜，在制作工艺中也采用光刻工艺制作，通过上述的膜版主体11和所述调光膜版12可以对应成型为中间厚度均匀，周缘厚度递减的平坦层40，可以通过设置不同形式的掩膜版1，配合不同光阻特性的材料来成型所述平坦层40。
[0040]
具体而言，在本实用新型提供的掩膜版1的实施例一中：
[0041]
请参阅图1至图2，所述调光膜版12设置为灰色调掩膜版12a，即采用图形狭缝衍射原理来降低局部紫外线透过率，进而实现对透光量的调整，所述调光膜版12上设有透光孔121，自所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，所述透光孔121的透光面积呈渐变设置，即通过调整所述透光孔121的透光面积来实现对透光量的调整，如此，只需要设计所述透光孔121的透光面积即可精确地调整所述透光孔121的透光量，调整简单、方便。
[0042]
调整所述透光孔121的透光面积来实现对透光量的调整，可以是改变所述透光孔121的形状，如长度和宽度，一个实施例中，所述透光孔121呈长形设置，自所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，所述透光孔121的宽度呈渐变设置，即所述透光孔121贯设于所述调光膜版12的整个长度方向上，通过改变所述透光孔121的宽度来实现面积的调整，调整简单、方便，便于设计所述掩膜版1。
[0043]
在所述掩膜版1设置为灰色调掩膜版12a的实施例中，所述平坦层pfa采用正向光阻材料制作，则所述调光膜版12的透光量逐渐增加，对应的，所述透光孔121的宽度逐渐增加；所述平坦层pfa采用负向光阻材料制作，则所述调光膜版12的透光量逐渐减小，对应的，所述透光孔121的宽度逐渐减小。
[0044]
具体而言，在本实用新型提供的掩膜版1的实施例二中：
[0045]
请参阅图3至图4，所述调光膜版12设置为半色调掩膜版12b，即采用多灰阶光罩来降低局部紫外线透过率，进而实现对透光量的调整，自所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，所述调光膜版12的透光率呈渐变设置，即通过改变透光率实现对透光量的调
整，调整简单、方便。
[0046]
具体而言，沿所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，可以设置不同的透光区122，每一所述透光区122的透光率设置的不同，通过设置每个透光区122上不同的透光率来调整，所述透光区122设置的个数越多，调整的越精细。
[0047]
在所述掩膜版1设置为半色调掩膜版12b的实施例中，所述平坦层pfa采用正向光阻材料制作，所述膜版主体11朝向所述调光膜版12的方向上，则所述调光膜版12的透光量逐渐增加，对应的，所述调光膜版12的透光率逐渐增加；所述平坦层pfa采用负向光阻材料制作，则所述调光膜版12的透光量逐渐减小，对应的，所述调光膜版12的透光率逐渐减小。
[0048]
请参阅图5，本实用新型提出的阵列基板100的实施例三中：
[0049]
在所述阵列基板100内，所述阵列基板100还包括衬底基板10、第一绝缘层结构20、色阻层30以及配向膜50，所述第一绝缘层结构20形成于所述衬底基板10，所述色阻层30形成于所述第一绝缘层结构20，所述平坦层40形成于所述色阻层30，所述配向膜50形成于所述平坦层40。
[0050]
请继续参阅图6至图7，在所述阵列基板100内，所述整列基板上形成有显示区60，所述平坦层40为采用上述的掩膜版1光刻制作，对应所述膜版主体11成型的局部平坦层与对应所述调光膜版12成型的局部平坦层的交界处于所述显示区60的外侧边缘，采用上述的掩膜版1光刻制作的平坦层40对应所述调光膜版12成型的部分的厚度呈递减设置，即对应在所述平坦层40上形成配向膜50时，减少配向膜50溶液堆积，增强pi液滴扩散能力，改善mura，提高了产品的质量。
[0051]
可以理解的是，对应所述膜版主体11成型的局部平坦层与对应所述调光膜版12成型的局部平坦层的交界处于所述显示区60的外侧边缘，即增强pi液滴扩散能力，减少pi液滴向所述显示区60回流，提高产品显示质量。
[0052]
在一个实施例中，对应所述调光膜版12成型的局部平坦层的表面呈平面设置，可以理解的是，所述局部平坦层并非绝对的平面，可以是多段小平面，如，取中间斜率的平面作为整体平面，也可以是多个小平面和曲面的叠加，如，可以考虑厚度加权等方式拟合形成整体平面等等方式，通过将所述部分平坦层设置为倾斜平面的方式，减少pi液滴向所述显示区60回流，提高产品显示质量。
[0053]
具体地，一个实施例中，对应所述膜版主体11成型的局部平坦层与对应所述调光膜版12成型的局部平坦层的夹角为α，且5
°
≤α≤20
°
，所述夹角α设置的太小，pi液滴扩散能力改善的较小，扩散不明显；所述夹角α设置的太大，pi液滴扩散能力改善的较大，扩散明显，但是此时所述平坦层pfa的边缘厚度会很薄，会影响其他结构的沉积，因此，在5
°
至20
°
的范围内，兼顾所述平坦层pfa的边缘厚度不至于太小的同时，尽可能地增加了pi液滴扩散能力。
[0054]
另一个实施例中，所述平坦层40对应在所述显示区60的边缘处设有导电通孔，所述导电通孔连接所述平坦层pfa上下面上的金属层，在所述导电通孔处pi液滴堆积明显，因此，对应所述膜版主体11成型的局部平坦层与对应所述调光膜版12成型的局部平坦层的交界处设置所述导电通孔，可以减少pi液滴的堆积，进而减少pi液滴向所述显示区60回流，提高产品显示质量。
[0055]
此外，在所述阵列基板100内还设有框胶70，用于与彩膜基板组装形成所述显示面
板。
[0056]
本实用新型还提出一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板100，所述显示面板包括上述全部技术特征，因此也具有上述全部技术特征带来的技术效果，此处不再一一赘述。
[0057]
以上所述仅为本实用新型的可选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域包括在本实用新型的专利保护范围内。