发光元件的制造方法与流程

文档序号:33231402发布日期:2023-02-14 17:04阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种发光元件的制造方法,其包括:基底元件准备工序,其中,准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件;含氟树脂图案膜形成工序,其中,将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上,形成含氟树脂图案膜,所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂,所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位;及烘烤工序,其中,通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。2.根据权利要求1所述的发光元件的制造方法,其进一步包括第二发光层形成工序,其中,在由所述含氟树脂图案膜划分的区域形成将来自所述第一发光层的光作为激发光而发光的第二发光层。3.根据权利要求1或2所述的发光元件的制造方法,其中,所述第一发光层为单色层。4.根据权利要求1~3中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(1)所表示的结构:[化学式1]-cr2=crf2ꢀꢀꢀ
(1)式(1)中,rf各自独立地表示碳原子数为1~6的直链状全氟烷基、碳原子数为3~6的支链状全氟烷基或碳原子数为3~6的环状全氟烷基、或者氟原子;r2表示氢原子、碳原子数为1~6的直链状烷基、碳原子数为3~6的支链状烷基或碳原子数为3~6的环状烷基。5.根据权利要求1~4中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述由具有氟原子的烃组成的重复单元具有下述式(2)所表示的结构:[化学式2]式(2)中,rf各自独立地表示碳原子数为1~6的直链状全氟烷基、碳原子数为3~6的支链状全氟烷基或碳原子数为3~6的环状全氟烷基、或者氟原子;r1表示氢原子、氟原子或甲基;r2表示氢原子、碳原子数为1~6的直链状烷基、碳原子数为3~6的支链状烷基或碳原子数为3~6的环状烷基。6.根据权利要求4或5所述的发光元件的制造方法,其中,所述式(1)或所述式(2)中的rf为氟原子、三氟甲基、二氟甲基、五氟乙基、2,2,2-三氟乙基、七氟正丙基、2,2,3,3,3-五氟丙基、3,3,3-三氟丙基、六氟异丙基、七氟异丙基、九氟正丁基、九氟异丁基或九氟叔丁基。7.根据权利要求1~6中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述含氟树脂的含氟率为20~50质量%。8.根据权利要求1~7中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述光敏性树脂组
合物进一步包含交联剂。9.根据权利要求1~8中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述光敏性树脂组合物进一步包含碱溶性树脂。10.根据权利要求1~9中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述光敏性树脂组合物进一步包含着色剂。11.根据权利要求1~10中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,在所述烘烤工序中,以140℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行固化。12.根据权利要求1~11中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,在所述含氟树脂图案膜形成工序之后,包括以高能量射线对所述含氟树脂图案膜进行曝光的曝光工序。13.根据权利要求12所述的发光元件的制造方法,其中,所述高能量射线为选自由紫外线、伽马射线、x射线及α射线组成的组中的至少一种。14.根据权利要求1~13中任一项所述的发光元件的制造方法,其中,所述发光元件为量子点显示器用发光元件。

技术总结
本发明提供一种发光元件的制造方法,其能够以不使第一发光层产生损伤的方式制造具备第一发光层及形成在第一发光层上的隔堤的发光元件。本发明的发光元件的制造方法包括:基底元件准备工序,其中,准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件;含氟树脂图案膜形成工序,其中,将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上而形成含氟树脂图案膜,所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂,所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位;及烘烤工序,其中,通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。案膜进行烘烤而使其固化。


技术研发人员:兼子让 坂井田悠太 佐佐木佳子 佐野明日香
受保护的技术使用者:中央硝子株式会社
技术研发日:2021.05.21
技术公布日:2023/2/13
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