针对环境敏感衬底作为牺牲保护层的低上限温度同聚物的制作方法

本公开涉及包括同聚物的刺激响应聚合物(srp)。本文中还描述应用srp的方法、膜及配方。

背景技术：

1、在半导体制造期间，许多表面对周围环境中的空气悬浮分子污染物(amc)敏感。等候时间(queue time)可能导致暴露于amc以及不期望的相互作用(例如氧化、腐蚀和卤化)。解决方案包括在氮气(n2)填充的贮存盒或室中贮存部分制造的半导体衬底，以及使用支持多个处理且没有破坏衬底上的真空的集成式工具。这些解决方案实施起来困难且昂贵，并造成安全性与可靠性的顾虑。

2、这里提供的背景描述是为了总体呈现本技术的背景的目的。当前指定的发明人的工作在其在此背景技术部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本技术的现有技术。

技术实现思路

1、本公开涉及包括或属于同聚物的刺激响应聚合物。在特定实施方案中，可设计和调整srp的化学特性，以例如提供特定特征尺寸内的优化沉积、无残留物的移除和/或较不具侵蚀性的解聚合。在非限制性实例中，该srp具有特性分子量(mw)，其中该特性分子量允许对具有最小化尺寸的间隙、沟槽或特征进行填充，而这是难以用常规半导体处理来解决的。在另一实例中，该srp允许在不使敏感衬底和表面受损的条件下进行无残留物的移除。

2、因此，在第一方面，本公开的特征在于一种方法，其包括：在衬底上沉积srp。在特定实施方案中，该srp包括同聚物。在其他实施方案中，该同聚物包括从约250g/mol至约1500kg/mol的mw(例如，重量平均mw)，和/或低于约300℃的上限温度。在还有的其他实施方案中，所述沉积从而在该衬底的表面上形成膜或层。可将该膜或层提供于衬底的顶表面和/或底表面和其部分上。在其他实施方案中，将该膜或层提供于衬底的特征(例如，沟槽、间隙、结构等)内或附近。

3、在一些实施方案中，所述沉积包括沉积包含该srp的配方。在其他实施方案中，该配方包括一种或更多种添加剂。在特定实施方案中，一种或更多种添加剂可各自以约0.001重量％至约25重量％的含量存在。在其他实施方案中，多种添加剂的组合以约0.001重量％至约25重量％的含量存在。非限制性添加剂包括溶剂、塑化剂、pka大于或等于1的有机酸、光酸产生剂、热酸产生剂和/或染料中的一或更多者。

4、在一些实施方案中，该方法还包括(例如，在所述沉积之后)：将该膜储存在周边环境中，其中该膜在储存期间对该衬底的表面提供保护。

5、在其他实施方案中，该方法还包括(例如，在所述储存之后)：将该膜从衬底的表面移除。非限制性的移除操作可包括将膜暴露于一种或更多种刺激，例如暴露于热(例如，连续热)、温度升降(例如，从约1℃/分钟至约200℃/秒的温度升降，其中所述升降可包括使温度降低或升高)、紫外光(例如，具有或不具有真空；任选地在从约30℃至约700℃的温度下；和/或任选地从约0.1mw/cm2至约15w/cm2的剂量)、亚稳态中性物(例如，来自惰性气体等离子体的原子)、酸性或碱性蒸气(例如，在从约20℃至约200℃的温度下)和/或等离子体。

6、在一些实施方案中，该衬底包括沟槽、间隙或另一特征。在特定实施方案中，所述沉积包括以srp填充沟槽或间隙。

7、在其他实施方案中，该衬底包括具有第一溶剂的多个高深宽比结构。在特定实施方案中，所述沉积还包括以包括srp的溶液替代该第一溶剂。

8、在一些实施方案中，该同聚物包括化学式(i)-(xiii)的其中一者的结构：

9、

10、或其盐类，其中：

11、r1各自独立地为h、任选经取代的烷基、任选经取代的烷氧基、任选经取代的烯基、任选经取代的芳基或卤素；

12、r2、r2'、r2”和r3各自独立地为h、任选经取代的烷基、任选经取代的杂烷基或任选经取代的芳基；

13、r4、r4'和r4”各自独立地为h、任选经取代的烷基、任选经取代的氨基烷基、任选经取代的杂烷基，或者r4'和r4”与其各自附接的氮原子一起形成本文所限定的杂环基；

14、ar为任选经取代的芳基、任选经取代的烷基或任选经取代的芳烷基；

15、l1和l2各自独立地为共价键、任选经取代的亚烷基、任选经取代的杂亚烷基、任选经取代的亚芳基或任选经取代的环亚烷基；

16、z1和z2各自独立地为-o-、-s-、-cr2r3o-、-ocr2r3o-、-ocr2r3-、-cr2r3s-、-scr2r3s-或-scr2r3-；

17、r1为1至4的整数；以及

18、n是从约1至约100,000(例如，2至100,000、3至100,000或4至100,000)；

19、以及

20、其中该同聚物包括线性聚合物或环状聚合物。

21、在一些实施方案中，该同聚物包括化学式(ia)的结构：

22、

23、或其盐类，其中r1、r2'、r2”、r1和n可为本文所述的任何一者(例如，针对化学式(i)所述的)。在特定实施方案中，该同聚物包括线性聚合物或环状聚合物。

24、在其他实施方案中，该同聚物包括化学式(ib)的结构：

25、

26、或其盐类，其中：

27、r1、r5和r6各自独立地为h、任选经取代的烷基、任选经取代的烷氧基、任选经取代的烯基、任选经取代的芳基或卤素；

28、r2'、r2”、r3'、r3”、r4'和r4”各自独立地为h、任选经取代的烷基或任选经取代的芳基；

29、z1、z2、z3、z4、z5和z6各自独立地为-o-、-s-、-cr2r3o-、-ocr2r3o-、-ocr2r3-、-cr2r3s-、-scr2r3s-或-scr2r3-，其中r2和r3各自独立地为h、任选经取代的烷基或任选经取代的芳基；

30、r1、r5和r6各自独立为1至4的整数；以及

31、n是从2至100。

32、在还有的其他实施方案中，该同聚物包括化学式(ic)的结构：

33、

34、或其盐类，其中r1、r2'、r2”、r3'、r3”、r4'、r4”、r5、r6、r1、r5、r6和n可为本文所述的任何一者(例如，针对化学式(ib)所述的)。

35、在一些实施方案中，该膜包括位于该衬底的顶表面或底表面上的保护膜。可将该保护膜提供在顶表面上，从而保护该衬底或该衬底上设置的任何特征的敏感表面(例如，不受反应性物质(如空气中悬浮物质)或其他污染物的影响)。同样，可将该保护膜提供在底表面上，从而作为背侧涂层以保护衬底背侧(例如，不受颗粒或机械性刮伤的影响)。在特定实施方案中，该方法还包括(例如，在所述沉积之后)：将该保护膜和该衬底储存在周边环境中。在其他实施方案中，该方法还包括(例如，在所述储存之后)：将该保护膜从该衬底的表面移除。

36、在一些实施方案中，该衬底包括间隙。在特定实施方案中所述沉积包括：沉积srp以填充衬底表面上的间隙，从而在间隙内形成间隙填充物。在其他实施方案中，该方法还包括(在所述沉积后)：将间隙填充物从衬底的表面移除。

37、在特定实施方案中，衬底包括设置在衬底上的多个高深宽比(har)结构。任选地，可在多个har结构之间存在的间隙中提供溶剂。在一些实施方案中，所述沉积包括：沉积srp以从衬底上设置的多个har结构替代第一溶剂。在其他实施方案中，方法还包括(例如，在所述沉积之后)：将衬底干燥以形成包括srp的膜。在还有的其他实施方案中，方法还包括(例如，在所述干燥之后)：将膜从衬底移除。

38、在第二方面，本公开含括(例如，制造srp的)一种方法，其包括：在试剂的存在下使单体进行反应；以及终止单体的聚合以提供(例如，本文所述的任何)srp。在特定实施方案中，单体包括化学式(i)-(xv)、(ia)、(ib)、(ic)或其盐类(例如，其中n为1)中的一者的结构。在其他实施方案中，方法还包括(例如，在所述终止之后)：在衬底或(例如，本文所述的任何)特征上沉积srp。

39、在第三方面，本公开的特征在于一种结构，其包括：半导体衬底，其具有顶表面和底表面；以及srp层，其设置在该半导体衬底的顶表面和/或底表面上。在特定实施方案中，将所述层进一步设置在衬底所提供的特征上。非限制性特征包括沟槽、间隙、柱体、设备、高深宽比(har)结构等。

40、在一些实施方案中，所述层被配置成以减少一种或更多污染物或反应性空气中悬浮分子渗透(例如，吸附和/或扩散)至衬底的表面，和/或阻挡在衬底的表面上设置的一个或更多个反应位置。非限制性污染物包括氧、水和卤素(例如，氟)。

41、在其他实施方案中，所述结构还包括：多个har结构，其设置于衬底的顶表面上。在特定实施方案中，在har结构中的至少两者之间存在间隙，且该层基本上将间隙填充。在一些实施方案中，间隙具有从约0.5:1至约300:1的深宽比。

42、在第四方面，本公开的特征在于一种配方，其包括：约0.1重量％至约50重量％的(例如，本文中的任何)srp；以及溶剂。在一些实施方案中，该配方还包括：约0.001重量％至约25重量％的添加剂，其中添加剂选自塑化剂、pka大于或等于1的有机酸、光酸产生剂、热酸产生剂和/或染料。

43、在本文的任何实施方案中，srp具有从约250g/mol至约1500kg/mol(例如，从约250g/mol至500g/mol、250g/mol至1000g/mol、250g/mol至2kg/mol、250g/mol至10kg/mol、250g/mol至50kg/mol、250g/mol至100kg/mol、250g/mol至250kg/mol、250g/mol至500kg/mol、250g/mol至750kg/mol、250g/mol至1000kg/mol、500g/mol至1000g/mol、500g/mol至2kg/mol、500g/mol至10kg/mol、500g/mol至50kg/mol、500g/mol至100kg/mol、500g/mol至250kg/mol、500g/mol至500kg/mol、500g/mol至750kg/mol、500g/mol至1000kg/mol、500g/mol至1500kg/mol、1kg/mol至2kg/mol、1kg/mol至10kg/mol、1kg/mol至50kg/mol、1kg/mol至100kg/mol、1kg/mol至250kg/mol、1kg/mol至500kg/mol、1kg/mol至750kg/mol、1kg/mol至1000kg/mol、以及1kg/mol至1500kg/mol)的mw(例如，重量平均mw)。

44、在本文的任何实施方案中，srp具有低于约300℃的上限温度。在特定实施方案中，上限温度低于约300℃、250℃、200℃、150℃、100℃、90℃、80℃、75℃、60℃、50℃、40℃、30℃、25℃、20℃、15℃、10℃、5℃、0℃、-10℃、-20℃、-30℃、-40℃、-50℃或更低。

45、在本文的任何实施方案中，srp具有从约-50℃至约300℃的上限温度。在特定实施方案中，上限温度是从约-50℃至250℃、-50℃至200℃、-50℃至150℃、-50℃至100℃、-50℃至50℃、-50℃至30℃、-50℃至10℃、-50℃至0℃、-50℃至-10℃、-50℃至-20℃、-50℃至-30℃、-50℃至-40℃、-40℃至250℃、-40℃至200℃、-40℃至150℃、-40℃至100℃、-40℃至50℃、-40℃至30℃、-40℃至10℃、-40℃至0℃、-40℃至-10℃、-40℃至-20℃、-40℃至-30℃、-30℃至250℃、-30℃至200℃、-30℃至150℃、-30℃至100℃、-30℃至50℃、-30℃至30℃、-30℃至10℃、-30℃至0℃、-30℃至-10℃、-30℃至-20℃、-20℃至250℃、-20℃至200℃、-20℃至150℃、-20℃至100℃、-20℃至50℃、-20℃至30℃、-20℃至10℃、-20℃至0℃、-20℃至-10℃、-10℃至250℃、-10℃至200℃、-10℃至150℃、-10℃至100℃、-10℃至50℃、-10℃至30℃、-10℃至10℃和-10℃至0℃。

46、在本文的任何实施方案中，srp包括化学式(i)-(xiii)、(ia)、(ib)、(ic)或其盐类中的一者的结构的同聚物。

47、在本文的任何实施方案中，srp包括化学式(i)-(xv)、(ia)、(ib)、(ic)或其盐类中的一者的结构的共聚合物。

48、在本文的任何实施方案中，可通过将srp、srp层或srp膜暴露于一种或更多种刺激而将其移除。非限制性刺激可包括暴露于热、温度升降(例如，从约1℃/分钟至约200℃/秒的温度升降，其中所述升降可包括使温度降低或升高)、紫外(uv)光(例如，具有或不具有真空；任选地在从约30℃至约700℃的温度下；和/或任选地从约0.1mw/cm2至约15w/cm2的剂量)、亚稳态中性物(例如，来自惰性气体等离子体的原子)、酸性或碱性化学品(例如，作为蒸气，且任选地在从约20℃至约200℃的温度下)和/或等离子体。在特定实施方案中，暴露于热可包括恒定温度。在其他实施方案中，暴露于热可包括任何实用的温度轮廓，伴随任何实用的温度升降速率(例如，提升或降低温度)以及任何实用的温度保持。暴露于uv光可任选地包括真空，并可包括任何实用温度(例如，从约20℃至约700℃，例如约20℃至100℃、20℃至200℃、20℃至300℃、20℃至400℃、20℃至500℃、20℃至600℃、30℃至100℃、30℃至200℃、30℃至300℃、30℃至400℃、30℃至500℃、30℃至600℃、30℃至700℃、40℃至100℃、40℃至200℃、40℃至300℃、40℃至400℃、40℃至500℃、40℃至600℃、40℃至700℃、50℃至100℃、50℃至200℃、50℃至300℃、50℃至400℃、50℃至500℃、50℃至600℃或50℃至700℃)。

49、在本文的任何实施方案中，srp、srp层或srp膜被配置成使渗透至特征或衬底的表面的一种或更多反应性空气中悬浮分子减少。

50、在本文的任何实施方案中，srp、srp层或srp膜被配置成阻挡在特征或衬底的表面上设置的一个或更多反应位置。额外的实施方案在本文中描述。

51、定义

52、“烯基”是指具有一个或更多双键的任选经取代的c2-24烷基。烯基可以是环状(例如，c3-24环烯基)或非环状。烯基也可以是经取代或未经取代的。例如，烯基可经一个或更多取代基取代，如本文对烷基所述的。

53、“烷氧基”是指-or，其中r为任选经取代的烷基，如本文所述的。示例性烷氧基包括甲氧基、乙氧基、丁氧基、三卤代烷氧基，例如三氟甲氧基等。烷氧基可以是经取代或未经取代的。例如，烷氧基可经一个或更多取代基取代，如本文对烷基所述的。示例性的未经取代的烷氧基包括c1-3、c1-6、c1-12、c1-16、c1-18、c1-20或c1-24烷氧基。

54、“烷基”和前缀“烷(alk)”是指1至24个碳原子的支链或无支链的饱和的烃基，例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、新戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二基、十四基、十六基、二十基、二十四基等等。烷基可以是环状(例如c3-24环烷基)或非环状。烷基可以是支链或无支链的。烷基也可以是经取代或未取代的。举例而言，烷基可以被一个、两个、三个、或四个取代基(在两个碳或以上的烷基的情况下)所取代，该取代基独立地选自于由以下所组成的群组：(1)c1-6烷氧基(例如-o-ak，其中ak为任选经取代的c1-6烷基)：(2)c1-6烷基亚磺酰基(例如-s(o)-ak，其中ak为任选经取代的c1-6烷基)；(3)c1-6烷基磺酰基(例如-so2-ak，其中ak为任选经取代的c1-6烷基)；(4)氨基(amino)(例如-nrn1rn2，其中rn1与rn2中的每一者独立地为h或任选经取代的烷基，或rn1与rn2利用连接至每一者的氮原子一起形成杂环基)；(5)芳基；(6)芳基烷氧基(例如-o-l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)；(7)芳酰基(例如-c(o)-ar，其中ar为任选经取代的芳基)；(8)叠氮基(例如-n3)；(9)氰基(例如-cn)；(10)羧醛(例如-c(o)h)；(11)c3-8环烷基(例如单价饱和或不饱和非芳香环状c3-8烃基)；(12)卤(例如f、cl、br、或i)；(13)杂环基(例如5-、6-或7元环，除非另外注明，含有一个、两个、三个、或四个非碳杂原子，例如氮、氧、磷、硫、或卤)；(14)杂环基氧基(例如-o-het，其中“het”为在此所述的杂环基)；(15)杂环基酰基(例如-c(o)-het，其中“het”为在此所述的杂环基)；(16)羟基(例如-oh)；(17)n保护的氨基；(18)硝基(nitro)(例如-no2)；(19)氧基(oxo)(例如＝o)；(20)c3-8螺环基(spirocyclyl)(例如亚烷基或杂亚烷基二自由基，其两端键合至母基团的相同碳原子)；(21)c1-6硫烷氧基(例如-s-ak，其中ak为任选经取代的c1-6烷基)；(22)巯基(例如-sh)；(23)-co2ra，其中ra为选自于由(a)氢、(b)c1-6烷基、(c)c4-18芳基、与(d)(c4-18芳基)c1-6烷基(例如-l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)所组成的群组；(24)-c(o)nrbrc，其中rb与rc中的每一者独立地选自于由(a)氢、(b)c1-6烷基、(c)c4-18芳基、与(c)(c4-18芳基)c1-6烷基(例如-l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)所组成的群组；(25)-so2rd，其中rd选自于由(a)c1-6烷基、(b)c4-18芳基、与(c)(c4-18芳基)c1-6烷基(例如-l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)所组成的群组；(26)-so2nrerf，其中re与rf中的每一者独立地为选自于由(a)氢、(b)c1-6烷基、(c)c4-18芳基、与(c)(c4-18芳基)c1-6烷基(例如-l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)所组成的群组；以及(27)-nrgrh，其中rg与rh中的每一者独立地为选自于由(a)氢、(b)n-保护基、(c)c1-6烷基、(d)c2-6烯基(例如具有一或更多双键的任选经取代的烷基)、(e)c2-6炔基(例如具有一或更多三键的任选经取代的烷基)、(f)c4-18芳基、(g)(c4-18芳基)c1-6烷基(例如l-ar，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且ar为任选经取代的芳基)、(h)c3-8环烷基、与(i)(c3-8环烷基)c1-6烷基(例如-l-cy，其中l为任选经取代的烷基的二价形式，且cy为在此所述的任选经取代的环烷基)所组成的群组，其中在一实施方案中，没有两个基团通过羰基或磺酰基基团键合至氮原子。烷基可以是被一或更多取代基(例如一或更多卤或烷氧基)取代的伯烷基、仲烷基或叔烷基。在一些实施方案中，未取代的烷基为c1-3、c1-6、c1-12、c1-16、c1-18、c1-20、或c1-24烷基。

55、“亚烷基”是指烷基的多价(例如，二价)形式，如本文所述。示例性亚烷基包括亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等。在一些实施方案中，亚烷基为c1-3、c1-6、c1-12、c1-16、c1-18、c1-20、c1-24、c2-3、c2-6、c2-12、c2-16、c2-18、c2-20或c2-24亚烷基。亚烷基可以是支链或非支链。亚烷基也可以是经取代或未经取代的。例如，亚烷基可经一或更多取代基取代，如本文对烷基所述的。

56、“炔基”是指具有一个或更多三键的任选经取代的c2-24烷基。炔基可以是环状或非环状的，例如乙炔基、1-丙炔基和类似物。炔基也可以是经取代或未经取代的。例如，炔基可经一个或更多取代基取代，如本文对烷基所述的。

57、“氨基”是指-nrn1rn2，其中rn1和rn2各自独立为h、任选经取代的烷基或任选经取代的芳基，或rn1与rn2连同各自连接的氮原子一起形成如本文所定义的杂环基。

58、“氨基烷基”是指由本文所定义的氨基取代的本文定义的烷基。

59、“芳烷基”或“芳基烷基”是指本文所定义的芳基，其通过本文所定义的亚烷基而与母分子基团附接。在一些实施方案中，芳烷基为-ak-ar，其中ak为本文所定义的任选经取代的亚烷基，而ar为本文所定义的任选经取代的芳基。芳烷基可以是经取代或未经取代的。举例来说，可利用本文中对芳基和/或烷基所描述的一个或更多个取代基以对芳烷基进行取代。示例性未经取代的芳烷基是从7至16个碳(c7-16芳烷基)，以及具有4至18个碳的芳基和1至6个碳的亚烷基的芳烷基(即，(c4-18芳基)c1-6烷基)。

60、“芳基”是指含有任何基于碳的芳香族基的基团，其包括，但不限于，苯基(phenyl)、苄基(benzyl)、蒽基(anthracenyl)、蒽基(anthryl)、苯并环丁烯基(benzocyclobutenyl)、苯并环辛烯基(benzocyclooctenyl)、联苯基(biphenylyl)、基(chrysenyl)、二氢茚基(dihydroindenyl)、丙[二]烯合茀基(fluoranthenyl)、二环戊二烯并苯基(indacenyl)、茚基(indenyl)、萘基(naphthyl)、菲基(phenanthryl)、苯氧基苄基(phenoxybenzyl)、苉基(picenyl)、芘基(pyrenyl)、三联苯基(terphenyl)和类似物，包括稠合苯并-c4-8环烷基基团(例如，如本文所定义的)，举例如二氢茚基(indanyl)、四氢化萘基(tetrahydronaphthyl)、茀基(fluorenyl)和类似物。术语芳基还包括杂芳基，其定义为含有芳香族基的基团，且芳香族基具有至少一杂原子并入芳香族基的环内。杂原子的示例包括，但不限于，氮、氧、硫和磷。类似地，术语“非杂芳基”(其还包含于术语“芳基”内)定义含有不含杂原子的芳香族基的基团。芳基可以是经取代或未经取代的。芳基可经一、两、三、四或五个取代基取代，例如本文中任何对烷基所述的。在特定实施方案中，未经取代芳基为c4-18、c4-14、c4-12、c4-10、c6-18、c6-14、c6-12或c6-10芳基。

61、“亚芳基”是指本文中所述的芳基团的多价(例如二价)形式。示例性的亚芳基包含亚苯基、亚萘基、亚联苯基、三亚苯基、二苯醚、苊烯(acenaphthenylene)、蒽烯基(anthrylene)、或亚菲基(phenanthrylene)。在一些实施方案中，亚芳基为c4-18、c4-14、c4-12、c4-10、c6-18、c6-14、c6-12、或c6-10亚芳基。亚芳基可为有支链或无支链的。亚芳基也可以是经取代或未经取代的。例如，亚芳基可以是经一或多个取代基取代的，取代基如本文中针对芳基所述的。

62、“亚(芳基)(烷基)”是指包括本文所述的亚芳基的一种二价形式，其中亚芳基被附接至本文所述的亚烷基或杂亚烷基。在一些实施方案中，亚(芳基)(烷基)是-l-ar-、或-l-ar-l-、或-ar-l-，其中ar是亚芳基而各个l是各自为任选经取代的亚烷基、或是任选经取代的杂亚烷基。

63、“叠氮基(azido)”是指-n3基团。

64、“叠氮基烷基”是指通过本文所定义的烷基连接到母分子基团的叠氮基。

65、“羧醛”是指-c(o)h基团。

66、“羧烷基”是指由本文所定义的羧基所取代的本文所定义的烷基。

67、“羧基”是指-co2h基团。

68、“氰基”是指-cn基团。

69、“环烯基”是指由三到十个碳原子组成且含有至少一个双键(即c＝c)的非芳香的基于碳的环。环烯基的示例包括但不限于环丙烯基、环丁烯基、环戊烯基、环戊二烯基、环己烯基、环己二烯基等。

70、除非另外指明，否则“环烷基”是指三到八个碳(例如c3-8或c3-10)的单价饱和的或不饱和的非芳香环状烃基，且示例为环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、双环[2.2.1.]庚基等。环烷基也可以是经取代或未经取代的。举例而言，环烷基可以被一或更多包括本文所述的烷基在内的基团取代。

71、“环亚烷基”是指本文所述的环烷基的多价(例如，二价)形式。示例性环亚烷基包括环亚丙基、环亚丁基、环亚戊基、环亚己基、环亚己烯基、环亚己二烯基等。在一些实施方案中，环亚烷基为c3-6、c3-12、c3-16、c3-18、c3-20或c3-24环亚烷基。环亚烷基可以是支链或非支链的。环亚烷基还可以是经取代或未经取代的。举例来说，可利用本文中对烷基所描述的一个或更多个取代基以对环亚烷基进行取代。

72、“氟代酸”是指a1co2h，其中a1被一或更多氟(f)取代的任选经取代的烷基或任选经取代的芳基。

73、本文所使用的“酯”是指-oc(o)a1或-c(o)oa1，其中a1可以是本文所述的烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基。

74、本文所使用的“醚”是指a1oa2，其中a1和a2可独立为本文所述的烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基。

75、“卤素”是指f、cl、br或i。

76、“卤代烷基”是指经一个或更多卤素取代的本文所定义的烷基。

77、“杂烷基”是指包含一、二、三、或四个非碳杂原子(例如，独立地选自于由氮、氧、磷、硫、硒、或卤素所构成的群组)的烷基团(如本文中所定义的)。

78、“杂亚烷基”是指包含一、二、三、四个或更多非碳杂原子(例如独立地选自由氮、氧、磷、硫、硒、或卤素所构成的群组)的本文中所定义的亚烷基团。在一些实施方案中，杂亚烷基为-ak-x-、-x-ak-、-(ak-x)h1-ak-或-x-(ak-x)h1-，其中ak为本文所定义的任选经取代的亚烷基，x为或包括非碳杂原子(例如，-o-、-s-或-nrn1-，其中rn1为h、任选经取代的烷基或任选经取代的芳基)，而h1为1至5的整数。杂亚烷基可以是经取代或未经取代的。举例来说，可利用本文中对烷基所描述的一个或更多取代基以对杂亚烷基进行取代。杂亚烷基可以是线性或环状的，例如从本文所述的杂环基移除氢而形成的杂环基的二价形式。示例性杂亚烷基包括亚哌啶基(piperdylidene)、喹啉二基等。

79、术语“杂环烯基”是本文所定义的环烯基中的一种类型，其中环的至少一个碳原子被o、s、n或nh所取代。环烯基和杂环烯基可以是经取代或未经取代的。环烯基和杂环烯基可被一或更多基团所取代，所述基团包括但不限于本文所述的烷基、烷氧基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、甲醛基、氨基、羧基、磺酸、亚磺酸、氟代酸、膦酸、酯、醚、卤素、羟基、酮、硝基、氰基、叠氮基、甲硅烷基、磺酰基、亚磺酰基或硫醇。

80、术语“杂环烷基”为本文所定义的环烷基中的一种类型，其中至少一个碳原子和其附接氢原子(如果有的话)被o、s、n或nh所取代。杂环烷基和杂环烯基可以是经取代或未经取代的。环烷基和杂环烷基可被一个或更多个基团所取代，所述基团包括但不限于本文所述的烷基、烷氧基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、甲醛基、氨基、羧基、磺酸、亚磺酸、氟代酸、膦酸、酯、醚、卤、羟基、酮、硝基、氰基、叠氮基、甲硅烷基、磺酰基、亚磺酰基或硫醇。

81、“杂环基”是指含有一、两、三或四个非碳杂原子(例如，独立选自由氮、氧、磷、硫、硒或卤素所组成的群组)的3-、4-、5-、6-或7-元环(例如，5-、6-或7-元环)，除非另有说明。3-元环具有零至一个双键，4-和5-元环具有零至两个双键，而6-和7-元环具有零至三个双键。术语“杂环基”还包括双环、三环和四环基，其中上述杂环状环中的任一者稠合至独立选自由芳环、环己烷环、环己烯环、环戊烷环、环戊烯环和另一单环杂环状环所组成的群组中的一、两或三个环，例如吲哚基(indolyl)、喹啉基(quinolyl)、异喹啉基(isoquinolyl)、四氢喹啉基(tetrahydroquinolyl)、苯并呋喃基(benzofuryl)、苯并噻吩基(benzothienyl)和类似物。杂环包括吖啶基(acridinyl)、腺嘌呤基(adenyl)、咯嗪基(alloxazinyl)、氮杂金刚烷基(azaadamantanyl)、氮杂苯并咪唑基(azabenzimidazolyl)、氮杂双环壬基(azabicyclononyl)、氮杂环庚基(azacycloheptyl)、氮杂环辛基(azacyclooctyl)、氮杂环壬基(azacyclononyl)、氮杂次黄嘌呤基(azahypoxanthinyl)、氮杂吲唑基(azaindazolyl)、氮杂吲哚基(azaindolyl)、氮杂癸因基(azecinyl)、氮杂环庚烷基(azepanyl)、氮杂庚因基(azepinyl)、吖丁啶基(azetidinyl)、氮杂环丁二烯基(azetyl)、吖丙啶基(aziridinyl)、吖丙啶基(azirinyl)、氮杂环辛烷基(azocanyl)、吖辛因基(azocinyl)、氮杂环壬烷基(azonanyl)、苯并咪唑基(benzimidazolyl)、苯并异噻唑基(benzisothiazolyl)、苯并异噁唑基(benzisoxazolyl)、苯并二氮杂庚因基(benzodiazepinyl)、苯并二吖辛因基(benzodiazocinyl)、苯并二氢呋喃基(benzodihydrofuryl)、苯并二氧庚因基(benzodioxepinyl)、苯并二氧杂环己烯基(benzodioxinyl)、苯并二氧杂环己基(benzodioxanyl)、苯并二氧辛因基(benzodioxocinyl)、苯并二氧杂环戊烯基(benzodioxolyl)、苯并二噻庚因基(benzodithiepinyl)、苯并二硫杂环己二烯基(benzodithiinyl)、苯并二氧辛因基(benzodioxocinyl)、苯并呋喃基(benzofuranyl)、苯并吩嗪基(benzophenazinyl)、苯并吡喃酮基(benzopyranonyl)、苯并哌喃基(benzopyranyl)、苯并芘基(benzopyrenyl)、苯并吡喃酮基(benzopyronyl)、苯并喹啉基(benzoquinolinyl)、苯并喹嗪基(benzoquinolizinyl)、苯并硫二氮庚因基(benzothiadiazepinyl)、苯并噻二唑基(benzothiadiazolyl)、苯并硫氮庚因基(benzothiazepinyl)、苯并硫吖辛因基(benzothiazocinyl)、苯并噻唑基(benzothiazolyl)、苯并噻吩基(benzothienyl)、苯并苯硫基(benzothiophenyl)、苯并噻嗪酮基(benzothiazinonyl)、苯并噻嗪基(benzothiazinyl)、苯并噻喃基(benzothiopyranyl)、苯并噻喃酮基(benzothiopyronyl)、苯并三氮庚因基(benzotriazepinyl)、苯并三嗪酮基(benzotriazinonyl)、苯并三嗪基(benzotriazinyl)、苯并三唑基(benzotriazolyl)、苯并氧硫杂环己二烯基(benzoxathiinyl)、苯并三氧庚因基(benzotrioxepinyl)、苯并氧二氮庚因基(benzoxadiazepinyl)、苯并氧硫氮庚因基(benzoxathiazepinyl)、苯并氧硫庚因基(benzoxathiepinyl)、苯并氧硫辛因基(benzoxathiocinyl)、苯并氧氮庚因基(benzoxazepinyl)、苯并噁嗪基(benzoxazinyl)、苯并氧吖辛因基(benzoxazocinyl)、苯并噁唑啉酮基(benzoxazolinonyl)、苯并噁唑啉基(benzoxazolinyl)、苯并噁唑基(benzoxazolyl)、苄基磺内酰胺基(benzylsultamyl)、苄基亚磺内酰胺基(benzylsultimyl)、苄基亚磺内酰胺基(benzylsultimyl)、双吡嗪基(bipyrazinyl)、双吡啶基(bipyridinyl)、咔唑基(carbazolyl)(例如，4h-咔唑基)、咔啉基(carbolinyl)(例如，β-咔啉基)、色满酮基(chromanonyl)、苯并二氢吡喃基(chromanyl)、苯并吡喃基(chromenyl)、噌啉基(cinnolinyl)、香豆素基(coumarinyl)、胞苷基(cytdinyl)、胞嘧啶基(cytosinyl)、十氢异喹啉基(decahydroisoquinolinyl)、十氢喹啉基(decahydroquinolinyl)、二氮杂二环辛烷基(diazabicyclooctyl)、二氮杂环丁二稀基(diazetyl)、二氮丙啶亚硫酰基(diaziridinethionyl)、二氮丙啶酮基(diaziridinonyl)、二吖丙啶基(diaziridinyl)、二吖丙啶基(diazirinyl)、二苯异喹啉基(dibenzisoquinolinyl)、二苯并吖啶基(dibenzoacridinyl)、二苯并咔唑基(dibenzocarbazolyl)、二苯并呋喃基(dibenzofuranyl)、二苯并吩嗪基(dibenzophenazinyl)、二苯并吡喃酮基(dibenzopyranonyl)、二苯并吡喃酮基(dibenzopyronyl)(呫吨酮基/xanthonyl)、二苯并喹噁啉(dibenzoquinoxalinyl)、二苯并硫氮庚因基(dibenzothiazepinyl)、二苯并硫庚因基(dibenzothiepinyl)、二苯并苯硫基(dibenzothiophenyl)、二苯并氧庚因基(dibenzoxepinyl)、二氢氮庚因基(dihydroazepinyl)、二氢氮杂环丁二烯基(dihydroazetyl)、二氢呋喃基(dihydrofuranyl)、二氢呋喃基(dihydrofuryl)、二氢异喹啉基(dihydroisoquinolinyl)、二氢吡喃基(dihydropyranyl)、二氢吡啶基(dihydropyridinyl)、二氢吡啶基(dihydroypyridyl)、二氢喹啉基(dihydroquinolinyl)、二氢噻吩基(dihydrothienyl)、二氢吲哚基(dihydroindolyl)、二氧杂环己基(dioxanyl)、二噁嗪基(dioxazinyl)、二氧吲哚基(dioxindolyl)、二环氧乙烷基(dioxiranyl)、二环氧乙烯基(dioxenyl)、二氧杂环己烯基(dioxinyl)、二氧苯并呋喃基(dioxobenzofuranyl)、二氧杂环戊烯基(dioxolyl)、二氧四氢呋喃基(dioxotetrahydrofuranyl)、二氧硫代吗啉基(dioxothiomorpholinyl)、二噻环己基(dithianyl)、二噻唑基(dithiazolyl)、二噻吩基(dithienyl)、硫杂环己二烯基(dithiinyl)、呋喃基(furanyl)、呋吖基(furazanyl)、呋喃甲酰基(furoyl)、呋喃基(furyl)、鸟嘌呤基(guaninyl)、均哌嗪基(homopiperazinyl)、均哌啶基(homopiperidinyl)、次黄嘌呤基(hypoxanthinyl)、乙内酰脲基(hydantoinyl)、咪唑啉啶基(imidazolidinyl)、咪唑啉基(imidazolinyl)、咪唑基(imidazolyl)、吲唑基(indazolyl)(例如，1h-吲唑基)、吲哚烯基(indolenyl)、吲哚啉基(indolinyl)、吲哚嗪基(indolizinyl)、吲哚基(indolyl)(例如，1h-吲哚基或3h-吲哚基)、靛红基(isatinyl)、靛红基(isatyl)、异苯并呋喃基(isobenzofuranyl)、异苯并二氢吡喃基(isochromanyl)、异苯并吡喃基(isochromenyl)、异吲唑基(isoindazoyl)、异吲哚啉基(isoindolinyl)、异吲哚基(isoindolyl)、异吡唑酰基(isopyrazolonyl)、异吡唑基(isopyrazolyl)、异噁唑啶基(isoxazolidiniyl)、异噁唑基(isoxazolyl)、异喹啉基(isoquinolinyl)、异喹啉基(isoquinolinyl)、异噻唑啶基(isothiazolidinyl)、异噻唑基(isothiazolyl)、吗啉基(morpholinyl)、萘并吲唑基(naphthindazolyl)、萘并吲哚基(naphthindolyl)、二氮杂萘基(naphthiridinyl)、萘并吡喃基(naphthopyranyl)、萘并噻唑基(naphthothiazolyl)、萘并硫酮基(naphthothioxolyl)、萘并三唑基(naphthotriazolyl)、萘并氧代吲哚基(naphthoxindolyl)、啶基(naphthyridinyl)、八氢异喹啉基(octahydroisoquinolinyl)、氧杂双环庚烷基(oxabicycloheptyl)、氧杂脲嘧啶(oxauracil)、噁二唑基(oxadiazolyl)、噁嗪基(oxazinyl)、噁吖丙啶基(oxaziridinyl)、噁唑啶基(oxazolidinyl)、噁唑啶酮基(oxazolidonyl)、噁唑啉基(oxazolinyl)、噁唑酮基(oxazolonyl)、噁唑基(oxazolyl)、氧杂环庚烷基(oxepanyl)、氧杂环丁烷酮基(oxetanonyl)、氧杂环丁烷基(oxetanyl)、氧杂环丁二烯基(oxetyl)、氧杂环丁烷基(oxtenayl)、氧吲哚基(oxindolyl)、环氧乙烷基(oxiranyl)、氧代苯并异噻唑基(oxobenzoisothiazolyl)、氧代苯并吡喃基(oxochromenyl)、氧代异喹啉基(oxoisoquinolinyl)、氧代喹啉基(oxoquinolinyl)、氧代硫杂环戊基(oxothiolanyl)、啡啶基(phenanthridinyl)、啡啉基(phenanthrolinyl)、啡嗪基(phenazinyl)、啡噻嗪基(phenothiazinyl)、啡噻吩基(phenothienyl)(苯并硫代呋喃基/benzothiofuranyl)、啡噁噻基(phenoxathiinyl)、啡噁嗪基(phenoxazinyl)、酞嗪基(phthalazinyl)、酞嗪酮基(phthalazonyl)、酞基(phthalidyl)、苯并吡咯烷酮基(phthalimidinyl)、哌嗪基(piperazinyl)、哌啶基(piperidinyl)、哌啶酮基(piperidonyl)(例如，4-哌啶酮基)、喋啶基(pteridinyl)、嘌呤基(purinyl)、哌喃基(pyranyl)、吡嗪基(pyrazinyl)、吡唑啶基(pyrazolidinyl)、吡唑啉基(pyrazolinyl)、吡唑并嘧啶基(pyrazolopyrimidinyl)、吡唑基(pyrazolyl)、哒嗪基(pyridazinyl)、吡啶基(pyridinyl)、吡啶并吡嗪基(pyridopyrazinyl)、吡啶并嘧啶基(pyridopyrimidinyl)、吡啶基(pyridyl)、嘧啶基(pyrimidinyl)、嘧啶基(pyrimidyl)、吡喃酮基(pyronyl)、吡咯烷基(pyrrolidinyl)、吡咯烷酮基(pyrrolidonyl)(例如，2-吡咯烷酮基)、吡咯啉基(pyrrolinyl)、吡咯嗪烷基(pyrrolizidinyl)、吡咯基(pyrrolyl)(例如，2h-吡咯基)、吡喃鎓(pyrylium)、喹唑啉基(quinazolinyl)、喹啉基(quinolinyl)、喹嗪基(quinolizinyl)(例如，4h-喹嗪基)、喹噁啉(quinoxalinyl)、喹啉环基(quinuclidinyl)、硒杂吖嗪基(selenazinyl)、硒杂唑基(selenazolyl)、硒吩基(selenophenyl)、琥珀酰亚胺基(succinimidyl)、环丁砜基(sulfolanyl)、四氢呋喃基(tetrahydrofuranyl)、四氢呋喃基(tetrahydrofuryl)、四氢异喹啉基(tetrahydroisoquinolinyl)、四氢异喹啉基(tetrahydroisoquinolyl)、四氢吡啶基(tetrahydropyridinyl)、四氢吡啶基(tetrahydropyridyl)、哌啶基(piperidyl)、四氢哌喃基(tetrahydropyranyl)、四氢吡喃酮基(tetrahydropyronyl)、四氢喹啉基(tetrahydroquinolinyl)、四氢喹啉基(tetrahydroquinolyl)、四氢噻吩基(tetrahydrothienyl)、四氢苯硫基(tetrahydrothiophenyl)、四嗪基(tetrazinyl)、四唑基(tetrazolyl)、噻二嗪基(thiadiazinyl)(例如，6h-1,2,5-噻二嗪基或2h,6h-1,5,2-二噻二嗪基)、噻二唑基(thiadiazolyl)、噻嗯基(thianthrenyl)、噻环己基(thianyl)、硫茚基(thianaphthenyl)、硫氮庚因基(thiazepinyl)、噻嗪基(thiazinyl)、噻唑烷二酮基(thiazolidinedionyl)、噻唑啶基(thiazolidinyl)、噻唑基(thiazolyl)、噻吩基(thienyl)、硫杂环庚烷基(thiepanyl)、硫杂庚因基(thiepinyl)、氧杂环丁烷基(thietanyl)、硫杂杂环丁烯基(thietyl)、硫杂环丙基(thiiranyl)、硫杂环辛烷基(thiocanyl)、硫代色满酮基(thiochromanonyl)、硫代苯并二氢吡喃基(thiochromanyl)、硫代苯并吡喃基(thiochromenyl)、硫代二嗪基(thiodiazinyl)、噻二唑基(thiodiazolyl)、噻茚酚基(thioindoxyl)、硫代吗啉基(thiomorpholinyl)、苯硫基(thiophenyl)、噻喃基(thiopyranyl)、硫代吡喃酮基(thiopyronyl)、硫代三唑基(thiotriazolyl)、硫代脲唑基(thiourazolyl)、硫氧杂环己基(thioxanyl)、硫氧杂环戊烯基(thioxolyl)、胸嘧啶基(thymidinyl)、胸苷基(thyminyl)、三嗪基(triazinyl)、三唑基(triazolyl)、三噻环己基(trithianyl)、脲嗪基(urazinyl)、脲唑基(urazolyl)、脲丁啶基(uretidinyl)、脲啶基(uretinyl)、脲嘧啶基(uricyl)、脲苷基(uridinyl)、呫吨基(xanthenyl)、黄嘌呤基(xanthinyl)、呫吨硫酮基(xanthionyl)和类似物，以及其修饰形式(例如，包括一个或更多氧代基和/或氨基)和其盐类。杂环基可以是经取代或未经取代的。例如，杂环基可经一个或更多取代基取代，如本文对芳基所述的。

82、“羟基”是指-oh。

83、“羟烷基”是指由一至三个羟基取代的本文所定义的烷基，前提是不多于一个羟基可连接到烷基的单一碳原子上，且示例为羟甲基、二羟丙基等。

84、“酮”是指a1c(o)a2，其中a1和a2可独立为本文所述的烷基、卤烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基团。

85、“硝基”是指-no2基团。

86、“氧基”是指-o-。

87、“膦酸”是指-p(o)(oh)2。

88、“甲硅烷基”是指-sia1a2a3，其中a1、a2和a3可各自独立为本文所述的烷基、卤烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基团。

89、“亚磺酸”是指-s(o)oh。

90、“亚磺酰基”是指-s(o)a1，其中a1可以是本文所述的氢、烷基、卤烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基团。

91、“磺酸”是指-s(o)2oh。

92、“磺酰基”是指-s(o)2a1，其中a1可以是本文所述的氢、烷基、卤化烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、环烷基、环烯基、杂环烷基或杂环烯基团。

93、“硫基”是指-s-基团。

94、“硫醇基”是指-sh基团。

95、如本文所使用的，术语“约”意指与任何所述值相差+/-10％。如本文所使用的，该术语修饰任何所述值、值的范围或一或更多范围的端点。

96、如本文所使用，术语“顶部”、“底部”、“上部”、“下部”、“上方”和“下方”用于提供结构之间的相对关系。这些术语的使用并不表示或要求特定结构必须放置在装置中的特定位置。

97、将详细参照本公开内容的具体实施方案。具体实施方案的示例描绘于附图中。虽然本公开内容将结合这些具体实施方案进行描述，但应理解，不应将本公开内容限制于这些具体实施方案。相反，其应包含落在本公开内容的精神和范围内的置换、变更和等同方案。在以下说明中，提出了许多特定细节以提供对本公开内容的彻底理解。本公开内容可以在没有这些特定细节中的一些或全部的情况下实施。在其它实例中，公知的工艺操作并未详加描述，以免不必要地使本公开内容难以理解。

98、本发明的其他特征和优点将根据以下描述和权利要求而变得显而易见。