可变射束调制的制作方法

本发明涉及一种用于进行射束调制的设备和方法。

背景技术：

1、已知的是，对射束、尤其激光射束的特性进行调制。为此使用如下光学元件，这些光学元件通常必须被安装及拆卸以改变射束调制。然而，这繁琐又耗时并且需要详尽的专业知识。

2、发明目的

3、因此，本发明的目的在于，提供一种用于显著简化地进行可变射束调制的设备和方法。

技术实现思路

1、根据本发明，该目的通过根据权利要求1的设备和根据权利要求15的方法来实现。从属权利要求给出优选的改进方案。

2、因此，根据本发明的目的通过一种用于进行射束调制的设备来实现，其中通过使光学元件移入和移出射束路径来进行射束调制。设备具有带第一光学元件的第一操纵杆(hebel)以及带第二光学元件的第二操纵杆。设备还具有调节装置。调节装置构造用于移动第一操纵杆和第二操纵杆。由此，可以将第一光学元件和第二光学元件移入和移出射束路径。

3、避免了费时费力地安装和拆卸光学元件。装配设备的时间可以减少到5％以下。第一光学元件优选布置或构造于第一操纵杆的光学框架中。第二光学元件优选布置或构造于第二操纵杆的光学框架中。

4、为了能够更好地调制射束特性，设备可以具有带第三光学元件的第三操纵杆。在这种情况下，调节装置可以构造用于将第三光学元件移入和移出射束路径。换言之，设备可以构造用于将第一光学元件、第二光学元件和第三光学元件引入射束路径以及将其从射束路径移出，而不必采取费时费力的安装和拆卸措施。第三光学元件优选布置或构造于第三操纵杆的光学框架中。

5、优选地，多个操纵杆、尤其是所有操纵杆支承在设备的两端被固持的轴件上。

6、在本发明的特别优选的构造方案中，调节装置具有梯级盘(stufenscheibe)，通过该梯级盘的至少一个梯级能够移动操纵杆。下面，为了简单起见，梯级盘在其优选的实施方式中被描述为具有多个梯级。然而，其还可以仅具有一个梯级。

7、梯级可以布置在梯级盘上，或者优选地与梯级盘一件式地构造。梯级盘或凸轮盘构造了结构简单的用于移动操纵杆的机械设备。优选地，操纵杆可以通过梯级盘的梯级摆动。在此优选地，梯级盘的梯级布置在端侧，而不是(像在齿圈中那样)沿梯级盘的周面表面布置。操纵杆可以各自具有带光学元件的(尤其长的)操纵杆臂、以及(尤其短的)操纵杆臂，其中(尤其短的)操纵杆臂可以被梯级或凸轮操作，以便使操纵杆围绕旋转点进行摆动。

8、梯级盘优选以围绕其主轴线可旋转的方式被支承。根据本发明，“可旋转”在此还包括小于360°的摆动运动。

9、进一步优选地，操纵杆可以各自通过在梯级盘上径向偏移的梯级被移动。因此，操纵杆可以彼此独立地被操作。

10、替代于此或附加于此，多个梯级可以在周向上偏移，使得至少在梯级盘部分地旋转时，仅换入一个光学元件。由此，在操作调节装置时实现了特别均匀的负载。替代于此或附加于此，梯级还可以以这样的方式在梯级盘上沿周向偏移地布置，即，使得在梯级盘部分地旋转时，同时换入两个或更多个光学元件。以这种方式，可以将两个或更多个光学元件特别高效地引入射束路径。

11、在此，梯级可以被布置或者被构造成，使得操纵杆实施以下运动：

12、a)将第一光学元件换入射束路径；

13、b)第一光学元件从射束路径中换出，并且将第二光学元件换入；

14、c)将第一光学元件换入。

15、这些运动优选被实施为摆动运动。

16、在至少三个操纵杆的情况下，梯级可以被布置或者被构造成，使得第三光学元件在上述步骤a)至c)中被换出，并且操纵杆在步骤a)至c)之后实施以下步骤：

17、d)将第一光学元件换出，将第二光学元件换出并且将第三光学元件换入；

18、e)将第一光学元件换入；

19、f)将第一光学元件换出并且第二光学元件换入；

20、g)将第一光学元件换入。

21、这些运动优选被实施为摆动运动。

22、在方法步骤a)之前和/或在方法步骤g)之后，可以尤其通过无梯级的构造方式/布置方式将光学元件从射束路径中换出。

23、设备可以具有一个或多个弹簧，以便将处于被换出或被移出状态下的光学元件移动至预定义的位置。

24、当梯级盘被调节装置的正齿轮减速机构(stirnraduntersetzung)驱动时，实现了本发明的结构简单的实施方案。

25、设备可以具有可弯曲的轴。可弯曲的轴可以实现调节装置的灵活定位。

26、除了光学效应的强度之外，光学元件优选被构造为相同的。光学元件的光学效应的强度优选就这些光学元件中的另一个光学元件而言相应地增大某个倍数、尤其增大为两倍。

27、在设备的特别优选的构造方案中，光学元件各自具有吸收器。进一步优选地，光学元件各自被构造为呈吸收器的形式。吸收器优选地被构造为呈板状。特别优选地，第二光学元件所具有的厚度是第一光学元件的厚度的两倍。进一步优选地，第三光学元件所具有的厚度是第二光学元件的厚度的两倍。

28、于是，根据上述步骤a)至c)，单倍的吸收器厚度、随后是双倍的吸收器厚度、随后是三倍的吸收器厚度被移入或换入射束路径。换言之，吸收作用梯级式地增大。

29、于是，根据上述步骤d)至g)，四倍的吸收器厚度、随后是五倍的吸收器厚度、随后是六倍的吸收器厚度、随后是七倍的吸收器厚度被移入射束路径。

30、进一步优选地，吸收器各自具有caf2板。特别优选地，吸收器各自被构造为呈caf2板的形式。

31、设备优选具有激光器，该激光器用于产生沿射束路径延伸的射束、即呈激光射束形式的射束。优选地，激光器构造用于发射红外(ir)激光射束。激光器可以被构造为呈co2激光器的形式。

32、设备可以具有探测器，用于测量在射束路径中延伸的射束的射束特性。探测器优选被构造为呈光电磁(pem)探测器的形式。

33、进一步优选地，设备可以具有极紫外光(euv)产生装置。在此，euv产生装置具有用于产生在射束路径中延伸的射束的上述激光器。由激光器产生的射束优选被一个或多个放大器激光器放大，并且优选指向能够在euv产生装置(“euv系统”)中产生的锡滴。然后，在锡滴中可以产生发射euv辐射的等离子体。

34、此外，根据本发明的目的通过一种用于利用设备、尤其是利用在此描述的设备进行射束调制的方法来实现。设备在此具有至少两个操纵杆，该至少两个操纵杆各自具有光学元件，其中操纵杆相继实施以下运动：

35、a)将第一光学元件换入射束路径；

36、b)将第一光学元件从射束路径中换出，并且将第二光学元件换入；

37、c)将第一光学元件换入。

38、操纵杆的这些运动优选被实施为摆动运动。

39、设备可以具有带第三光学元件的至少一个第三操纵杆，其中第三光学元件在方法步骤a)至c)期间被移出，并且该方法具有以下方法步骤：

40、d)将第一光学元件换出，将第二光学元件换出并且将第三光学元件换入；

41、e)将第一光学元件换入；

42、f)将第一光学元件换出并且将第二光学元件换入；

43、g)将第一光学元件换入。

44、这些运动优选被实施为摆动运动。

45、在方法步骤a)之前和/或在方法步骤g)之后，可以尤其通过无梯级的构造方式/布置方式将光学元件从射束路径中移除(光学元件的总强度为零)。

46、本发明的其他优点从说明书和附图得出。同样，上述以及还将进一步阐述的特征可以根据本发明各自单独地或多个任意组合地使用。所示出的和所描述的实施方式不应理解为穷尽的列举，而是更确切地说对于解说本发明而言具有示例性特征。