一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备与流程

一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备
【技术领域】
1.本发明涉及集成电路掩模设计领域，尤其涉及一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备。


背景技术：

2.在光刻半导体器件的生产制造过程中，建立光刻模型阶段或者曝光成像阶段，均需要使用到设置有掩模图形的掩模版。不管是在建立光刻模型阶段用到的掩模版还是曝光成像阶段用到的掩模版，具体掩模图形设计的好坏决定着工艺窗口的大小。而最终在光刻模型建立或者曝光成像的时候采用的掩模版，通常是在设计出初始的掩模版图之后，对上面的掩模图形，特别是边缘处的掩模图形进行修正处理才可以很好的增大工艺窗口，满足最终设计需求。但是由于掩模版上的掩模图形其数量相对较多，相对位置无法很好的标定，故难以指定特定设定的掩模图形进行修正操作，特别是经过初次移动操作之后的掩模图形，将难以再次找到同一个掩模图形对其继续进行修正处理，特别不利于对掩模版的修正。


技术实现要素：

3.为克服目前在提供掩模图形的过程中难以找到指定需要修正的掩模图形的缺陷，本发明提供一种应用于产生掩模图形的方法、应用于产生掩模图形的装置及电子设备。
4.本发明为了解决上述技术问题，提供一技术方案：一种应用于产生掩模图形的方法，包括如下步骤：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，多个初始掩模图形周期性或者规律性排布，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出修正后的掩模版图。
5.优选地，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素所包括的内容为该待修正掩模图形的修正规则。
6.优选地，所述修正规则包括修正方式和关于对应修正方式下的修正内容，所述修正方式包括待修正掩模图形边的移动、一个待修正掩模图形的整体移动和对该待修正掩模图形添加亚分辨率辅助图形中的一种或者几种，对应修正方式下的修正内容包括移动的方向和移动数值、添加的亚分辨率辅助的位置信息和尺寸信息。
7.优选地，建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相
同位置下的元素为该待修正掩模图形的修正规则包括如下步骤：建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵；将对应的修正方式设置到对应位置的操作矩阵元素中；将对应的修正内容添加到对应的修正方式处。
8.优选地，将对应的修正内容添加到对应的修正方式处具体的操作如下：根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加。
9.优选地，所述初始掩模图形为规则图形，且具有中心点，基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵。
10.优选地，选定所述初始掩模图形中相对靠近边缘元素处的初始掩模图形作为待修正掩模图形。
11.优选地，当一个待修正掩模图形包括多种修正方式和多种修正内容时，将所有的修正方式和对应的修正内容存储到操作矩阵的与该待修正掩模图形对应的一个位置元素中。
12.为了解决上述技术问题，本发明还提供一种应用于产生掩模图形的装置，其包括设置模块：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；位置信息矩阵建立模块：用于基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；关联模块：选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；修正执行模块：基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；输出模块：输出修正后的掩模版图。
13.为了解决上述技术问题，本发明还提供一种电子设备，其包括一个或多个处理器和存储装置，存储装置，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现如上所述应用于产生掩模图形的方法。
14.相对于现有技术，本发明提供的技术方案具有如下有益效果：
15.1、基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，当建立完成初始位置信息矩阵，对每个初始掩模图形进行标定之后，不管对该矩阵任意位置处对应的初始掩模图形进行何种修正操作，每个初始掩模图形在初始位置信息矩阵中的位置始终是不变的，通过将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形，能很好在对待修正掩模图形进行修正操作时，始终将修正规则关联到对应初始位置信息矩阵处的待修正掩模图形，当对选定的待修正掩模图形进行修正时，不需要遍历所有初始掩模图形即可以快速的找准对应的待修正掩模图形，能很好的加快查找速度以及避免查找过程中出现错误，从而提高修正速度和修正的准确性。
16.2、通过建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵的方式，将修正规则和对应位置处的待修正掩模图形进行修正，操作方式简单，同时对应起来方便，方便对待修正掩模图形进行修正。
17.3、在添加修正内容时，根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加，能提高添加的准确性，避免添加的过程出现错误或者漏添加。
18.4、基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，能更好的适用到不同形状的初始掩模图形。
19.5、本发明提供的应用于产生掩模图形的装置以及电子设备具有和应用于产生掩模图形的方法同样的有益效果。
【附图说明】
20.图1是本发明第一实施例提供的应用于产生掩模图形方法的流程示意图；
21.图2a是单个初始掩模图形沿着y方向排布的示意图；
22.图2b是单个初始掩模图形沿着x方向排布的示意图；
23.图2c是多个初始掩模图形沿着y方向规律性排布的示意图；
24.图2d是多个初始掩模图形沿着x方向规律性排布的示意图；
25.图3a是多个初始掩模图形沿着x方向及y方向规律性排布的示意图；
26.图3b是多个初始掩模图形沿着x方向及y方向交错性排布的示意图；
27.图3c是多个初始掩模图形沿斜向排布的示意图；
28.图4a是多个初始掩模图形沿着x方向及y方向交错性排布的另一示意图；
29.图4b是对应图4a排列的初始掩模图形建立的初始位置信息矩阵示意图；
30.图5a是多个初始掩模图形沿着x方向及y方向交错性排布的又一示意图；
31.图5b是对图5a中待修正掩模图形修正之后的示意图；
32.图6是对应图4b的初始掩模图形建立的操作矩阵示意图；
33.图7是步骤s3的细节流程图；
34.图8a是提供的一种初始掩模图形排布的示意图；
35.图8b是针对图8a建立的初始位置信息矩阵示意图；
36.图8c是基于设定的修正规则针对对应位置处需要修正的待修正掩模图形建立的操作矩阵示意图；
37.图8d是基于设定的修正规则对图8a的初始掩模图形修正之后的示意图；
38.图9是本发明第二实施例中提供的应用于产生掩模图形的装置的模块示意图；
39.图10是本发明第三实施例中提供的电子设备的模块示意图；
40.图11是适于用来实现本发明实施例的服务器的计算机系统的结构示意图。
【具体实施方式】
41.为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
42.请参阅图1，本发明第一实施例提供一种应用于产生掩模图形的方法，产生的掩模图形构成掩模版图，掩模版图用于在建立光刻模型时作为测试掩模版或者在曝光成像阶段作为成像掩模版。应用于产生掩模图形的方法包括如下步骤：
43.s1、提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，多个初始掩模图形周期性或者规律性排布，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；
44.s2、基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位
置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；
45.s3、选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；
46.s4、基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；及
47.s5、输出修正后的掩模版图。
48.在步骤s1中，可以通过图形绘制软件绘制初始掩模图形10，然后将初始掩模图形10载入到掩模版上从而获得初始掩模版图，初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形。绘制完成之后可以通过图形绘制软件自动获得每个初始掩模图形10对应的坐标信息。图形绘制软件可以包括klayout软件。绘制完成的初始掩模版图通常以gds文件格式进行存储。
49.请参阅图2a、图2b、图2c和图2d，初始掩模图形10对应为一维排布的图形。其中包括y方向排布的一个初始掩模图形10(图2a)。x方向排布的一个初始掩模图形10(图2b)。y方向规律性排布的多个初始掩模图形10(图2c)。x方向规律性排布的多个初始掩模图形10(图2d)。
50.请参阅图3a、图3b和图3c，初始掩模图形10对应为二维排布的图形。其中包括规律性排布的多个规则的初始掩模图形10(图3a)。交错性排布的多个规则的初始掩模图形10(图3b)。倾斜长条线状规律性排布的多个初始掩模图形10(图3a)。
51.从附图2a-2d以及图3a-3c的图示可以看出，初始掩模图形10通常是矩形或者细长条形。而多个初始掩模图形10通常是规律性或者周期性排布的。当然，图示所提供的只是一部分较常规的掩模图形，基于各种半导体器件的复杂性，还存在其他形状的掩模图形，其他类型非规则形状的，排列也没有规则的掩模图形，在此不做详细的说明。
52.在具体的实施例中，基于初始掩模图形10是规律性或者周期性排布的基础上，在步骤s2中，可以基于每个初始掩模图形10对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形10的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形10进行标定。
53.作为一些选择，基于初始掩模图形10是规则形状的基础上。可以利用初始掩模图形10的边线上某点、夹角处、边线内的任一点作为其对应的坐标信息建立初始位置信息矩阵均可以。且基于初始掩模图形10是规则形状的基础上，其具有对应的中心点。可选地，为了能很好的适用到不同形状的初始掩模图形10，选择基于每个初始掩模图形10对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形10的初始位置信息矩阵。
54.请参阅图4a和图4b，其中图4a为和图3b分布相同的初始掩模图形10分布图示，图4b为对应图4a建立的初始位置信息矩阵的示意图，其中输入有“p”标识则认为有初始掩模图形10对应的坐标信息。基于交错性排布的初始掩模图形10，没有初始掩模图形10的位置对应为空。而如何将排布规则的初始掩模图形10转换为对应的初始位置信息矩阵，作为一种可选的方式如下：
55.基于klayout图形绘制软件绘制获得初始掩模图形10(如图4a所示)之后，可以识别对应顶点处的坐标信息。如果是基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形10的初始位置信息矩阵，可以进一步利用klayout工具的python接口编写
python算法以基于这些顶点坐标进一步获得中心坐标，然后基于中心坐标建立初始位置信息矩阵。
56.请参阅图5a，在步骤s3中，选定所述初始掩模图形10中的部分或者全部作为待修正掩模图形20。通常由于边缘处的初始掩模图形10所处的环境和较中心处初始掩模图形10所处的环境是不一样的，在曝光成像时，边缘处的初始掩模图形10的工艺窗口较小，同时曝光成像效果也比较差，因此一般选择边缘处的初始掩模图形10作为待修正掩模图形20。需要说明的是：由于不同产品半导体芯片结构的差异性，不同的半导体芯片其具体的成像需求是不一样的，因此，也可能是选择其他位置处的初始掩模图形10，选择的位置以及选择部分或者全部都是基于曝光图像的需求决定的。
57.在步骤s3中，提供关于每个所述待修正掩模图形20的修正规则。在一些具体的实施例中，所述修正规则包括修正方式和关于对应修正方式下的修正内容，所述修正方式包括待修正掩模图形20边的移动、一个待修正掩模图形20的整体移动和对该待修正掩模图形20添加亚分辨率辅助图形中的一种或者几种。这些修正方式只是一部分列举，还可能是一个待修正掩模图形20的整体旋转；边的移动中又分为整条边的移动或者将一条边分成多段，选择一条边的部分进行移动等方式。
58.在具体的实施例中，对应修正方式下的修正内容包括移动的方向和移动数值、添加的亚分辨率辅助的位置信息和尺寸信息。其中移动的方向包括每个待修正掩模图形20其中部分边或者全部边的移动方向。
59.请参阅图5b，如图5b中的左上角的待修正掩模图形20的一条边相对向右移动了设定的数值。移动的方向还包括整体待修正掩模图形20的移动方向，如图5b中右上角待修正掩模图形20整体相对向右移动了设定的数值。其中，亚分辨率辅助图形30也是常用的对待修正掩模图形20进行修正的方式，知道了其相对该待修正掩模图形20的位置信息以及亚分辨率辅助图形30的尺寸信息，就能很好的完成添加，比如图5b中左下角的待修正掩模图形20，其对应添加了3个亚分辨率辅助图形，3个亚分辨率辅助图形沿着y方向添加。
60.需要说明的是：当建立完成初始位置信息矩阵，对每个初始掩模图形10进行标定之后，不管对该矩阵任意位置处对应的初始掩模图形10进行何种修正操作，每个初始掩模图形10在初始位置信息矩阵中的位置始终是不变的，通过将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形10，能很好在对待修正掩模图形10进行修正操作时，始终将修正规则关联到对应初始位置信息矩阵处的待修正掩模图形10，当对选定的待修正掩模图形20进行修正时，不需要遍历所有初始掩模图形10即可以快速的找准对应的待修正掩模图形20，能很好的加快查找速度以及避免查找过程中出现错误，从而提高修正速度和修正的准确性。
61.请参阅图6，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形10包括如下步骤：
62.建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中相同位置下的元素所包括的内容为该待修正掩模图形的修正规则。如图6所示的矩阵对应为和图4b所示的初始位置信息矩阵同等尺寸的操作矩阵。同等尺寸理解为矩阵的行数和列数是相等的。
63.请参阅图7，建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵，所述操作矩阵中
相同位置下的元素为该待修正掩模图形的修正规则包括如下步骤：
64.s31、建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵；
65.s32、将对应的修正方式设置到对应位置的操作矩阵元素中；及
66.s33、将对应的修正内容添加到对应的修正方式处。
67.其中，在步骤s31和步骤s32中，可以基于klayout工具的python接口编写python算法以建立通常尺寸的操作矩阵，建立完成之后，将每个待修正掩模图形的修正规则定义给操作矩阵对应的位置处。
68.而在步骤s33中，将修正内容对应修正方式逐个添加即可。具体的操作如下：根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加。比如，从最外行的次序逐步向较内侧的行添加。
69.当一个待修正掩模图形包括多种修正方式和多种修正内容时，将所有的修正方式和对应的修正内容存储到操作矩阵的与该待修正掩模图形对应的一个位置元素中。
70.可选地，在一些其他实施例中，可以通过建立修正规则和所述初始位置信息矩阵之间的映射关系以将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联，而不是通过建立操作矩阵的方式。所述的映射关系同样可以基于klayout工具的python接口编写python算法建立两种的映射关系。
71.作为一个举例，针对图8a所示的初始掩模图形建立的初始位置信息矩阵如图8b所示，进一步设定同样尺寸的操作矩阵如图8c所示，针对图8c添加修正规则对应的内容，过程可以大致如下：
72.1、修正方式是对四个角处的待修正掩模图形进行边移动的修正，那么操作矩阵上对应位置元素的索引信息是：(0,0),(0,end),(end,0),(end,end)的元素，将边移动的操作方式存入，然后进一步存入相对朝外的两条边移动距离数值，距离数值可设定为1-20nm，或者其它的数值。
73.2、修正方式是对第一行和最后一行的初始掩模图形作为待修正掩模图形时边移动的修正，那么操作矩阵上对应位置元素的索引信息是：(2:end-2,0)以及索引为(2:end-2,end)索引范围的元素，将对应移动最朝外的一条边的操作方式以及移动距离数值存入对应的操作矩阵元素中。距离数值可设定为1-20nm，或者其它的数值。
74.3、修正方式是对于第二行以及倒数第二行的初始掩模图形为待修正掩模图形时边移动的修正，选择索引为(1:end-1，1)以及(1:end-1,end-1)索引范围的元素，将对应移动朝外的一条短边以及两条长边的操作方式以及移动距离数值存入对应的操作矩阵元素中。距离数值可设定为1-20nm，或者其它的数值。
75.4、修正方式是对于第一列以及倒数第一列的初始掩模图形为待修正掩模图形时边移动的修正，选择索引为(0,1:end-1)以及(end,1:end-1)索引范围的元素，将对应移动朝外的一条短边以及两条长边的操作方式以及移动距离数值存入对应的操作矩阵元素中。距离数值可设定为1-20nm，或者其它的数值。
76.5、修正方式是对于第二列以及倒数第二列的初始掩模图形为待修正掩模图形时边移动的修正，选择索引为(1,3:end-3)以及(end-1,3:end-3)索引范围的元素，将对应移动朝外的两条短边以及一条朝外的长边的操作方式以及移动距离数值存入对应的操作矩阵元素中。距离数值可设定为1-20nm，或者其它的数值。
77.6、在初始位置信息矩阵中读取第一列以及最后一列的初始掩模图形的中心点，以此中心点为坐标，在第一列的距离中心点向外一定距离上，进行亚分辨率辅助图形的绘制。读取初始位置信息矩阵中第一行(0:end,0)和最后一行(0:end,end)，第一列(0,0:end)以及最后一列(end,0:end)的中心点坐标，向外一定距离绘制亚分辨率辅助图形。
78.进一步，执行步骤s4，基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正。图8d为基于设定的具体修正规则对图8a所示的初始掩模图形进行修正之后的掩模图形。
79.最后在步骤s5中将修正后的掩模版图进行输出之后以gds文件格式进行保存。
80.请参阅图9，本发明第二实施例提供一种应用于产生掩模图形的装置100，其包括设置模块30、位置信息矩阵建立模块40、关联模块50、修正执行模块60、输出模块70。
81.设置模块30：提供初始掩模版图，所述初始掩模版图上包括一个或者多个初始掩模图形，每个初始掩模图形具有对应的坐标信息；
82.位置信息矩阵建立模块40：用于基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，利用所述初始位置信息矩阵对每个初始掩模图形进行标定；
83.关联模块50：选定所述初始掩模图形中的部分或者全部作为待修正掩模图形，提供关于每个所述待修正掩模图形的修正规则，将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形；
84.修正执行模块60：基于待修正掩模图形的位置信息应用匹配的修正规则对初始掩模版图进行修正；
85.输出模块70：输出修正后的掩模版图。
86.请参阅图10，本发明第三实施例提供电子设备200，其包括一个或多个处理器201和存储装置202，
87.存储装置202，用于存储一个或多个程序，当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器201执行，使得所述一个或多个处理器201实现如第一实施例所提供的应用于产生掩模图形的方法。
88.下面参考图11，其示出了适于用来实现本发明实施例的终端设备/服务器的计算机系统800的结构示意图。图11示出的终端设备/服务器仅仅是一个示例，不应对本技术实施例的功能和使用范围带来任何限制。
89.如图11所示，计算机系统800包括中央处理单元(cpu)801，其可以根据存储在只读存储器(rom)802中的程序或者从存储部分808加载到随机访问记忆体(ram)803中的程序而执行各种适当的动作和处理。在ram 803中，还存储有系统800操作所需的各种程序和数据。cpu 801、rom 802以及ram 803通过总线804彼此相连。输入/输出(i/o)界面805也连接至总线804。
90.以下部件连接至i/o界面805：包括键盘、鼠标等的输入部分806；包括诸如阴极射线管(crt)、液晶显示器(lcd)等以及扬声器等的输出部分807；包括硬盘等的存储部分808；以及包括诸如lan卡、调制解调器等的网络界面卡的通信部分809。通信部分809经由诸如因特网的网络执行通信处理。驱动器810也根据需要连接至i/o界面805。可拆卸介质811，诸如磁盘、光盘、磁光盘、半导体存储器等等，根据需要安装在驱动器810上，以便于从其上读出
的计算机程序根据需要被安装入存储部分808。
91.根据本公开的实施例，上文参考流程图描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括承载在计算机可读介质上的计算机程序，该计算机程序包含用于执行流程图所示的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信部分809从网络上被下载和安装，和/或从可拆卸介质811被安装。在该计算机程序被中央处理单元(cpu)801执行时，执行本发明的方法中限定的上述功能。需要说明的是，本发明所述的计算机可读介质可以是计算机可读信号介质或者计算机可读存储介质或者是上述两者的任意组合。计算机可读存储介质例如可以是—但不限于—电、磁、光、电磁、红外线、或半导体的系统、装置或器件，或者任意以上的组合。计算机可读存储介质的更具体的例子可以包括但不限于：具有一个或多个导线的电连接、便携式计算机磁盘、硬盘、随机访问记忆体(ram)、只读存储器(rom)、可擦式可编程只读存储器(eprom或闪存)、光纤、便携式紧凑磁盘只读存储器(cd-rom)、光存储器件、磁存储器件、或者上述的任意合适的组合。
92.可以以一种或多种程序设计语言或其组合来编写用于执行本技术的操作的计算机程序代码，所述程序设计语言包括面向对象的程序设计语言—诸如java、smalltalk、c++，还包括常规的过程式程序设计语言—诸如“c”语言或类似的程序设计语言。程序代码可以完全地在用户计算机上执行、部分地在用户计算机上执行、作为一个独立的软件包执行、部分在用户计算机上部分在远程计算机上执行、或者完全在远程计算机或服务器上执行。在涉及远程计算机的情形中，远程计算机可以通过任意种类的网络——包括局域网(lan)或广域网(wan)—连接到用户计算机，或者，可以连接到外部计算机(例如利用因特网服务提供商来通过因特网连接)。
93.附图中的流程图和框图，图示了按照本发明各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，该模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
94.描述于本发明实施例中所涉及到的单元可以通过软件的方式实现，也可以通过硬件的方式来实现。作为另一方面，本发明还提供了一种计算机可读介质，该计算机可读介质可以是上述实施例中描述的装置中所包含的；也可以是单独存在，而未装配入该装置中。
95.相对于现有技术，本发明提供的技术方案具有如下有益效果：
96.相对于现有技术，本发明提供的技术方案具有如下有益效果：
97.1、基于每个初始掩模图形对应的坐标信息建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，当建立完成初始位置信息矩阵，对每个初始掩模图形进行标定之后，不管对该矩阵任意位置处对应的初始掩模图形进行何种修正操作，每个初始掩模图形在初始位置信息矩阵中的位置始终是不变的，通过将每个修正规则和所述初始位置信息矩阵关联以将修
正规则匹配到对应位置信息处的该待修正掩模图形，能很好在对待修正掩模图形进行修正操作时，始终将修正规则关联到对应初始位置信息矩阵处的待修正掩模图形，当对选定的待修正掩模图形进行修正时，不需要遍历所有初始掩模图形即可以快速的找准对应的待修正掩模图形，能很好的加快查找速度以及避免查找过程中出现错误，从而提高修正速度和修正的准确性。
98.2、通过建立与所述初始位置信息矩阵同样尺寸的操作矩阵的方式，将修正规则和对应位置处的待修正掩模图形进行修正，操作方式简单，同时对应起来方便，方便对待修正掩模图形进行修正。
99.3、在添加修正内容时，根据初始位置信息矩阵并由矩阵的边缘元素为基准依次向矩阵中心的元素依次添加，能提高添加的准确性，避免添加的过程出现错误或者漏添加。
100.4、基于每个初始掩模图形对应的中心坐标建立关于所述初始掩模图形的初始位置信息矩阵，能更好的适用到不同形状的初始掩模图形。
101.5、本发明提供的应用于产生掩模图形的装置以及电子设备具有和应用于产生掩模图形的方法同样的有益效果。
102.以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。