技术特征：
1.一种受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，包括物镜，其特征在于，还包括：模块阵列，所述模块阵列包括呈阵列设置的多个模块单元；所述模块单元包括沿光路传输方向依次设置的如下部件：偏振光分束器，入射光束经所述偏振光分束器后，第一偏振光束反射后被丢弃；第一1/4波片，从所述偏振光分束器透射的第二偏振光束经过所述第一1/4波片转化为圆偏振光；第一二向色性元件，所述圆偏振光通过所述第一二向色性元件分解为被反射的第一光束和被透射的第二光束；光程延迟单元，所述光程延迟单元的远端设置有位相板，所述第二光束入射所述光程延迟单元后，通过所述位相板将所述第二光束引入相位差，并将所述引入相位差的第二光束原路返回，与被反射的第一光束在所述第一二向色性元件靠近所述第一1/4波片的一端汇合并共轴形成第三光束；第二1/4波片，所述第三光束通过所述第一1/4波片和所述第二1/4波片后转化为圆偏振光；以及组合光楔，所述组合光楔将所述转化为圆偏振光的第三光束引入偏转角，并聚焦至所述物镜的后口，形成点阵光阵列；所述聚焦至所述物镜的后口的第三光束在所述物镜的焦面处形成有光斑，所述光斑包括所述第一光束的激光光斑和所述第二光束的损耗光斑。2.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述模块单元的数量为九个及以上。3.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述位相板为反射式位相板，所述位相板用于对入射的所述第二光束的波前进行调制。4.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述组合光楔为消色差组合光楔，所述第三光束通过所述消色差组合光楔引入偏转角。5.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述第一二向色性元件为选择性透射介质膜，所述介质膜镀设在所述光程延迟单元的入射端；或者，所述第一二向色性元件为二向色性板。6.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述入射光束与所述模块单元的数量一致。7.根据权利要求1所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，其特征在于，所述相位差为2π相位差。8.一种受激辐射损耗光学显微镜，其特征在于，包括：照明系统，所述照明系统产生入射光束；如权利要求1至7中任一项所述的受激辐射损耗光学显微镜的显微成像系统，所述入射光束通过所述显微成像系统激发出荧光光束；以及探测系统，所述荧光光束进入所述探测系统。9.根据权利要求8所述的受激辐射损耗光学显微镜，其特征在于，所述照明系统包括沿光路传输方向依次设置的激光器、第一滤波片、第一透镜、单模保偏光纤、第二透镜以及光束分束器；
所述光束分束器用于将投射入所述光束分束器的光束分为与所述模块单元的数量相等的入射光束，并入射所述模块阵列。10.根据权利要求8所述的受激辐射损耗光学显微镜，其特征在于，所述探测系统包括沿光束传播方向包括：第二二向色性元件，所述荧光光束通过所述第二二向色性元件滤出；第二滤波片，所述第二滤波片用于滤除荧光光束中的激发光和受激辐射损耗光；反射镜，所述反射镜对滤除激发光和受激辐射损耗光的荧光光束进行反射；第三透镜及荧光信号探测器，所述第三透镜用于对反射得到的荧光光束汇聚收集至所述荧光信号探测器。
技术总结
本发明提供了受激辐射损耗光学显微镜及其显微成像系统，后者包括物镜和模块阵列；模块阵列包括呈阵列设置的多个模块单元；模块单元包括沿光路传输方向依次设置的模块单元包括沿光路传输方向依次设置的如下部件：偏振光分束器，入射光束经偏振光分束器后，第一偏振光束反射后被丢弃；第一1/4波片，从偏振光分束器透射的第二偏振光束经过1/4波片转化为圆偏振光；第一二向色性元件，圆偏振光通过第一二向色性元件分解为第一光束和第二光束，其中，第一光束为被反射的，第二光束为被透射的；光程延迟单元，光程延迟单元的远端设置有位相板，第二光束入射光程延迟单元后，通过位相板将第二光束引入相位差，并将引入相位差的第二光束原路返回。光束原路返回。光束原路返回。
技术研发人员：袁景和 师锦涛 方晓红
受保护的技术使用者：中国科学院化学研究所
技术研发日：2022.02.18
技术公布日：2022/7/5