光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块的制作方法

1.本发明涉及一种光学滤波器、固体摄像装置及照相机模块。


背景技术：

2.在利用特定波长区域的光线的各种各样的装置中，使用光学滤波器，所述光学滤波器通常使特定波长区域的光线透过并遮蔽特定波长区域的光线。这些特定波长区域是根据使用光学滤波器的用途来决定。
3.在摄像机、数字静态照相机、带有照相机功能的移动电话、智能手机等固体摄像装置中，使用作为彩色图像的固体摄像元件的电荷耦合器件(charge coupled device，ccd)或互补金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor，cmos)图像传感器。这些固体摄像元件在其光接收部中使用对于近红外线具有灵敏度的传感器，因此需要进行能见度修正，在进行此种能见度修正时，例如使用使可见光区域的光线透过并遮蔽特定近红外线区域的光线的近红外线截止滤波器(例：专利文献1等中记载的近红外线截止滤波器)作为所述光学滤波器。
4.另外，近年来，在智能手机等移动电话或车载终端等中，出于提高安全感(security)或安全性的目的，在进行利用可见光线的摄像的同时，进行利用其他波长区域(例：近红外～红外光线区域)的光线的距离测定或面部认证等的活动正在扩大。在进行此种距离测定或面部认证等时，例如使用使近红外～红外光线区域中的特定波长的光线透过并遮蔽其他特定波长区域的光线的光学滤波器(例：近红外线透过滤波器(红外线通过滤波器(infrared ray pass filter，irpf)))作为所述光学滤波器。
5.进而，有利用可见光线与近红外光线区域中的特定波长的光线的装置，在所述装置中，例如使用使近红外光线区域中的特定波长区域的光线与可见光区域的光线透过并遮蔽其他特定波长区域的光线的光学滤波器(例：可见光-近红外线选择透过滤波器(双带通滤波器(dual band pass filter，dbpf)))作为所述光学滤波器。
6.一般而言，已知有光学滤波器在包括吸收层的基材的单面或两面具有将高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的电介质多层膜，例如通过离子辅助蒸镀成膜而形成电介质多层膜(专利文献1：日本专利特开2021-039369号公报)。
7.[现有技术文献]
[0008]
[专利文献]
[0009]
[专利文献1]日本专利特开2021-039369号公报


技术实现要素：

[0010]
[发明所要解决的问题]
[0011]
在实际生产中，当将光学滤波器组入至模块中时，在滤波器的翘曲大的情况下，有时产生与模块的粘接不良，理想的是减少翘曲。
[0012]
虽然通过形成所述电介质多层膜而抑制翘曲自身，但是依然存在因由电介质多层
膜与基材的热膨胀系数的差引起的热应力或电介质多层膜其本身的膜应力而会产生翘曲的问题。
[0013]
特别是，随着基材变薄，电介质多层膜的影响变大，即便是小的翘曲，影响也增大。翘曲成为模块组装工序中的故障的主要原因，且成为使制品良率降低的原因，因此要求减低起因于电介质多层膜的应力。
[0014]
作为高折射率层的低应力材，已知有氧化铈(ceo2)，但氧化铈的结晶性高，在制成电介质多层膜的情况下，来自结晶的散射(雾度(haze)值)大且不适合于光学滤波器用途。作为抑制雾度(haze)的产生以及减低翘曲的方法，也有减低电介质多层膜的层数的方法，但无法获得所期望的光学特性而不适合。
[0015]
另外，作为抑制翘曲的其他方法，也有在制膜电介质多层膜时使离子辅助能量降低的方法，但存在电介质多层膜的膜质变疏松，例如实施高温高湿的耐久试验时的耐久性会显著降低的问题。
[0016]
本发明是鉴于以上情况而成，课题在于提供一种翘曲小、雾度(haze)值小且耐久性优异的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。
[0017]
[解决问题的技术手段]
[0018]
本发明人们为了解决所述课题而进行了努力研究，结果发现，根据下述结构例而可解决所述课题，从而完成了本发明。以下示出本发明的结构例。
[0019]
[1]一种光学滤波器，在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复层叠而成的电介质多层膜，至少一层高折射率层为ce
xmy
oz。
[0020]
(m为si、ta或al的任一种，
[0021]
x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z)
[0022]
[2]根据[1]所述的光学滤波器，其中，低折射率层的波长550nm下的折射率为1.6以下。
[0023]
[3]根据[1]或[2]所述的光学滤波器，其中，基材的厚度为150μm以下。
[0024]
[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器，其中，基材包含树脂组合物。
[0025]
[5]根据[1]至[3]中任一项所述的光学滤波器，其中，基材为玻璃。
[0026]
[6]一种固体摄像装置，包括根据[1]至[5]中任一项所述的光学滤波器。
[0027]
[7]一种照相机模块，包括根据[1]至[5]中任一项所述的光学滤波器。
[0028]
[发明的效果]
[0029]
根据本发明，可提供一种翘曲小、雾度(haze)值小且耐久性优异的光学滤波器及使用所述光学滤波器的装置。
[0030]
具体而言，为了抑制作为低膜应力的高折射率材的氧化铈(ceo2)的结晶化而使用将si或ta、al等元素掺杂于ceo2中而成的材料，由此可在不降低离子辅助能量的情况下抑制膜应力，从而获得将翘曲抑制得小且雾度(haze)值也抑制得低的光学滤波器。
具体实施方式
[0031]
《光学滤波器》
[0032]
本发明的光学滤波器(以下也称为“本滤波器”)中，
[0033]
在基材的至少一面具有将包含高折射率层与低折射率层的多层结构重复层叠而
成的电介质多层膜。多层结构只要包含高折射率层与低折射率层，则其结构并无特别限定，即便是包含高折射率层与低折射率层的多层结构，也可进而在中间至少设置其他层。在本发明中，重复层叠此种多层结构，也可层叠高折射率层或低折射率层彼此。另外，作为电介质多层膜整体，优选为设置成最外层成为低折射率层，但基材侧最内层并无特别限定。
[0034]
＜电介质多层膜＞
[0035]
电介质多层膜的高折射率层为ce
xmy
oz。
[0036]
(m为si、ta或al的任一种，
[0037]
x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z)
[0038]
在m为si时，x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z，优选为0.65≦x≦0.95、0.05≦y≦0.35、1≦z，进而优选为0.80≦x≦0.95、0.05≦y≦0.20、1≦z，
[0039]
在m为ta时，x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z，优选为0.6≦x≦0.95、0.05≦y≦0.4、1≦z，进而优选为0.7≦x≦0.95、0.05≦y≦0.3、1≦z，
[0040]
在m为al时，x、y、z为0.5≦x≦0.95、0.05≦y≦0.5、1≦z，优选为0.7≦x≦0.95、0.05≦y≦0.3、1≦z，进而优选为0.75≦x≦0.95、0.05≦y≦0.25、1≦z。
[0041]
在不满足x、y的要件的情况下，高折射率层结晶化，光学滤波器的雾度(haze)值增大，或者膜应力增大，光学滤波器会翘曲。在不满足z的要件的情况下，成为缺氧状态，消光系数增大，光学滤波器的可见透过率降低。
[0042]
构成高折射率层的材料的折射率为1.8以上，通常选择折射率的范围为1.8～2.5的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化锌、硫化锌等。然而，一般而言，这些材料的膜应力大且有使光学滤波器的翘曲增大的担忧。相对于此，通过使用ce
xmy
oz而消除这些课题。
[0043]
通过将满足所述要件的ce
xmy
oz用于高折射率层，可抑制结晶化，并抑制雾度(haze)值的上升。另外，由于在制膜电介质多层膜时能不使离子辅助能量降低地进行成膜，因此不会使电介质多层膜的膜质降低，可保持耐久性。此外，ce
xmy
oz可为金属氧化物的混合物，也可为复合氧化物。ce
xmy
oz例如可利用如下方法来制备：将ceo2粉末与金属m的氧化物的粉末混合，进行压制成形而制成颗粒状并加以煅烧的方法(称为物理掺杂)；或使用硝酸铈、硝酸铵铈络合物等铈盐与金属m的含氧酸盐的溶胶凝胶法等方法(称为化学掺杂)。
[0044]
包含ce
xmy
oz的高折射率层的折射率在550nm的光的波长下优选为1.90以上，进而优选为1.95以上。
[0045]
包含ce
xmy
oz的高折射率层的优选的消光系数在550nm的光的波长下优选为3.0
×
10-3
以下，进而优选为1.0
×
10-3
以下。若消光系数变大，则可见光的透过率降低，作为光学滤波器的功能降低。
[0046]
电介质多层膜中，只要至少一层高折射率层为ce
xmy
oz即可，所有的高折射率层可为ce
xmy
oz，也可设置ce
xmy
oz以外的高折射率层。作为形成此种高折射率层的材料，可例示：二氧化钛、氧化锆、五氧化钽、五氧化铌、氧化镧、氧化锌、硫化锌等。
[0047]
电介质多层膜中所使用的低折射率层的折射率在550nm的光的波长下为1.6以下，进而优选为1.55以下。
[0048]
作为构成低折射率层的材料，可使用550nm的光的波长下的折射率为1.6以下的材料，通常选择折射率的范围为1.2～1.6的材料。作为此种材料，例如可列举：二氧化硅、氟化
镁及六氟化铝钠。
[0049]
一般的光学滤波器中，为了抑制翘曲，大多在基材的两面具有将高折射率层与低折射率层交替地层叠而成的电介质多层膜。例如，在超过210μm的玻璃之类的刚直的基材中，存在设置于基材的双面的电介质多层膜的厚度不同的情况，在厚度低于150μm的玻璃或树脂基材中，为了保持低翘曲，需要使基材的双面的电介质多层膜的厚度一致。
[0050]
本发明的光学滤波器中，由于电介质多层膜的应力小且不易产生翘曲，因此可仅在基材的单面具有电介质多层膜，即便在设置于双面的情况下，也可改变双面的厚度。
[0051]
光学滤波器中所使用的电介质多层膜的层数并无特别限制，但为了具有作为光学滤波器的性能，优选为6层以上，进而优选为10层以上。
[0052]
电介质多层膜可根据光学滤波器的设计来选择防反射、截止近红外线等功能。
[0053]
也可在高折射率层与低折射率层之间设置中折射率层。作为构成材料，可使用折射率为1.6以上且未满2.0的材料，优选为选择折射率的范围为1.65～1.95的材料。作为此种材料，例如可列举：氧化铝、氟化镧、氧化铋、氧化铟、氟化铈等。
[0054]
关于层叠高折射率层与低折射率层的方法，只要形成层叠有这些材料层的电介质多层膜，则并无特别限制。例如，可通过化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)法、真空蒸镀法、溅射法、离子辅助蒸镀法、离子镀法、自由基辅助溅射法等而在所述基材上直接形成交替地层叠有高折射率层与低折射率层的电介质多层膜。就可获得所获得的多层膜的光学膜厚不易根据环境而变化的良质的膜等方面而言，优选为离子辅助蒸镀法、离子镀法、自由基辅助溅射法。离子辅助蒸镀法可减少所获得的光学滤波器的翘曲，因此进而优选。
[0055]
＜基材＞
[0056]
本滤波器中所使用的基材优选为使可见光区域(例：波长450nm～570nm)的波长的光透过、具体而言所述可见光区域中的平均透过率为85％以上的基材。
[0057]
作为所述基材的材质，优选为包含玻璃的材质，例如可列举包含玻璃、特殊玻璃等玻璃材料的材质。另外，作为基材的材质，也优选地使用树脂制基材。
[0058]
所述基材可为具有两层以上的玻璃制层的层叠体，也可为具有两层以上的树脂制层的层叠体，还可具有一层以上的玻璃制层与一层以上的树脂制层。
[0059]
另外，就不易破裂的方面而言，基材更优选为包含树脂组合物。
[0060]
所述基材的厚度为150μm以下，进而为30μm～150μm，若为所述范围，则对于固体摄像装置的薄型化有用。所述基材的厚度优选为30μm～135μm，更优选为30μm～120μm，进而优选为35μm～110μm。若为所述范围，则也可适宜地用于总厚度6.5mm以下的薄型固体摄像装置。
[0061]
[玻璃材料]
[0062]
作为构成基材的玻璃材料，例如可列举：硅酸玻璃、硼硅酸玻璃、磷酸玻璃、磷酸铜玻璃、氟磷酸玻璃、氟磷酸铜玻璃。
[0063]
作为所述磷酸玻璃或所述氟磷酸玻璃，例如可列举松浪硝子工业(股)制造的bs3、bs4、bs6、bs7、bs8、bs10、bs11、bs12、bs13、bs16、bs17。
[0064]
作为基材，可使用包含所述玻璃的浮法玻璃，进而也可使用例如物理强化玻璃、强化夹层玻璃、化学强化玻璃等强化玻璃。这些中，优选为可将基材的厚度加工得薄的化学强
化玻璃。作为化学强化玻璃的具体例，可列举agc(股)制造的“升龙玻璃(dragontrail)”、康宁(corning)公司的“大猩猩玻璃(gorilla glass)”。
[0065]
另外，关于玻璃材料，作为特殊玻璃，例如也可使用氧化铝玻璃、铝酸钇、氧化钇等特殊玻璃。
[0066]
作为所述氧化铝玻璃，例如可列举日本碍子(股)制造的“海塞姆拉(hiceram)”。作为包含所述铝酸钇或所述氧化钇的玻璃材料，例如可列举阔斯泰克(coorstek)(股)制造的“艾丽娅(exyria)”。
[0067]
[树脂材料]
[0068]
作为构成基材的树脂，例如可列举：聚酯系树脂、聚醚系树脂、丙烯酸系树脂、聚烯烃系树脂、聚环烯烃系树脂、降冰片烯系树脂、聚碳酸酯系树脂、烯-硫醇系树脂、环氧系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚氨基甲酸酯系树脂、聚苯乙烯系树脂。这些中，优选为降冰片烯系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚醚系树脂。
[0069]
所述树脂可通过调整原料成分的分子结构的方法等来调整折射率。具体而言，可列举对原料成分的聚合物的主链或侧链赋予特定结构的方法。对聚合物赋予的结构并无特别限定，例如可列举降冰片烯骨架、芴骨架。
[0070]
包含所述树脂的基材的波长500nm的光的折射率优选为1.40～1.7。
[0071]
在树脂制基材中可使用仅包含在近红外区域具有吸收的吸收层1的基材a、或包含在所述特定波长区域具有吸收的吸收层1与其他层2的基材b等。
[0072]
吸收层1优选为包含含有树脂材料以及光吸收剂的树脂组合物。作为光吸收剂，可列举近红外线吸收剂、近紫外线吸收剂等。
[0073]
作为所述其他层2，若为在近红外区域不具有吸收的层，则并无特别限制，例如可列举：包含玻璃、强化玻璃、特殊玻璃等的不含光吸收剂的玻璃材料层；不含光吸收剂的树脂层；功能层。作为所述功能层的功能，可列举：导电性、防静电效果、防异物附着效果、防损伤效果、防雾性、耐热性提高效果、阻气性、高弹性、消除损伤效果、平坦性、粗面性、吸湿性、防老化效果等。
[0074]
此种树脂制基材可利用将包含光吸收剂的树脂组合物熔融成形、浇铸成形等方法来制作。
[0075]
[其他功能膜]
[0076]
本发明的光学滤波器可在不损及本发明的效果的范围内，出于提高基材或电介质多层膜的表面硬度、提高耐化学品性、防静电及消除损伤等目的，而在基材与电介质多层膜之间、基材的与设置有电介质多层膜的面侧相反的面侧、或电介质多层膜的与设置有基材的面侧相反的面侧，适当设置防反射膜、硬涂膜或防静电膜等功能膜。
[0077]
本发明的光学滤波器可包括一层包含所述功能膜的层，也可包括两层以上。在本发明的光学滤波器包括两层以上的包含所述功能膜的层的情况下，可包括两层以上的相同的层，也可包括两层以上的不同的层。
[0078]
作为层叠功能膜的方法，并无特别限制，可列举：与所述同样地在基材或电介质多层膜上对防反射剂、硬涂剂和/或防静电剂等涂布剂等进行熔融成形或浇铸成形的方法等。
[0079]
另外，也可通过利用棒涂机等将包含所述涂布剂等的硬化性组合物涂布于基材或电介质多层膜上后，利用紫外线照射等进行硬化来制造。
[0080]
所述功能膜的厚度优选为0.1μm～20μm，进而优选为0.5μm～10μm，特别优选为0.7μm～5μm。
[0081]
另外，出于提高基材与功能膜和/或电介质多层膜的密接性、或功能膜与电介质多层膜的密接性的目的，也可对基材、功能膜或电介质多层膜的表面进行电晕处理或等离子体处理等表面处理。
[0082]
[光学滤波器的用途]
[0083]
本发明的光学滤波器的视角广，且可使可见光与一部分近红外线选择性透过。因此，作为兼具照相机功能与近红外传感功能的ccd或cmos图像传感器等固体摄像元件的能见度修正用途有用。特别是对于数字静态照相机、智能手机用照相机、移动电话用照相机、数字摄像机、可穿戴器件用照相机、个人计算机(personal computer，pc)照相机、监视照相机、汽车用照相机、夜视照相机、动作捕捉、激光距离计、虚拟(virtual)试穿、号牌(number plate)识别装置、电视机、汽车导航、便携式信息终端、视频游戏机、便携式游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放器等有用。
[0084]
[固体摄像装置]
[0085]
本发明的固体摄像装置包括本发明的光学滤波器。此处，所谓固体摄像装置，是包括ccd或cmos图像传感器等固体摄像元件的装置。作为构成固体摄像元件的构件，使用硅光二极管(silicon photodiode)或有机半导体等将特定波长的光转换为电荷的光电转换元件。
[0086]
[照相机模块]
[0087]
本发明的照相机模块包括本滤波器。此处，作为照相机模块，可列举包括图像传感器或焦点调整机构、相位检测机构、距离测定机构等且输出图像或距离信息作为电信号的装置等。
[0088]
[实施例]
[0089]
以下，通过实施例来对本发明进行说明，但本发明不受这些实施例的任何限定。
[0090]
实施例中的各种物性的测定方法及评价方法如以下所述。
[0091]
＜ce
xmy
oz蒸镀材＞
[0092]
本实施例中所使用的ce
xmy
oz蒸镀材使用利用以下的物理掺杂法与化学掺杂法的任一方法制作的材料。
[0093]
在物理掺杂法中，将佳能光导发光元件(canon optron)(股)制造的ceo2蒸镀材与索尔泰克(soltec)(股)制造的sio2蒸镀材粉碎后，进行计量并放入坩埚中，在1470℃下实施4小时退火，获得ce
x
siyoz蒸镀材。根据ceo2以及sio2的投入重量比来算出ce、si的摩尔比，并算出x、y的值。退火时，在充分的氧环境下实施，并设为未产生缺氧，根据ce以及si的价数来算出z。
[0094]
利用相同的方法，使用ceo2与佳能光导发光元件(canon optron)(股)制造的ta2o5蒸镀材或佳能光导发光元件(canon optron)(股)制造的al2o3，获得ce
x
tayoz蒸镀材及ce
x
alyoz蒸镀材。
[0095]
在化学掺杂法中，准备在富士胶片和光纯药(股)制造的硝酸铈(iii)六水合物与硝酸铵铈(iv)及硝酸中混合纯水而得的a液、将富士胶片和光纯药(股)制造的偏硅酸钠九水合物与氨水、纯水混合而得的b液，在可分离式烧瓶中放入b液后，一边搅拌，一边滴加a
液，滴加结束后，在70℃下搅拌6小时，获得ce
x
siyoz分散液。将分散液离心分离及纯化后，将所获得的固体成分以230℃
×
7小时加热，获得粉末状的ce
x
siyoz蒸镀材。根据各试剂的投入量来算出ce、si、o的摩尔比，并算出x、y、z的值。
[0096]
＜雾度(haze)值＞
[0097]
雾度(haze)值是使用东洋精机制作所(股)制造的“雾度格尔德(haze-guard)ii”来测定。
[0098]
＜翘曲评价＞
[0099]
关于翘曲，使用迪斯科(disco)(股)制造的“切割机(dicing saw)dfd6361”将光学滤波器芯片切割为5mm
×
6mm后，使用基恩士(keyence)(股)制造的“数字显微镜(digital microscope)vhx-7000”在光学滤波器4角测定距基准面的高度，并使用最大值。
[0100]
＜折射率及消光系数＞
[0101]
折射率是制作以光学膜厚7/4λ层叠的电介质单层膜，使用日立高科技(hitachi high-tech)(股)制造的分光光度计“u-4100”来测定透过率、反射率后，使用光学薄膜设计软件(核心麦克劳德(essential macleod)、薄膜中心(thin film center)公司制造)来算出。
[0102]
＜玻璃化转变温度＞
[0103]
以下使用的树脂的玻璃化转变温度是使用日立高科技科学(hitachi high-tech science)(股)制造的示差扫描热量计“dsc6200”，在升温速度：20℃/分钟的条件下且在氮气流下进行测定。
[0104]
＜重影评价＞
[0105]
在使用硅光二极管制光电转换元件的传感器的摄像装置(西肯高科技(shikino high-tech)(股)制造的“kbcr-m04vg”)中所使用的透镜与传感器之间配置所获得的光学滤波器。在无外光影响的暗室中，遮断周围的杂散光，并将白色发光二极管(light emitting diode，led)光作为光源进行摄像。摄像的结果，将在与摄像中使用的光源不同的场所出现的像设为重影，将观察到重影的情况设为重影性能不良，将未观察到重影的情况设为重影性能良好。
[0106]
＜耐久试验＞
[0107]
利用爱斯佩克(espec)公司制造的恒温高湿器“普拉奇纳斯(pratinas)j-gr”在温度85℃、湿度85％rh下观察经过1000小时时的光学滤波器的外观变化。观察的结果，将观察到电介质多层膜的破裂、剥落等的情况设为耐久性能不良，将未观察到的情况设为耐久性能良好。
[0108]
[实施例1]
[0109]
在物理掺杂法中，将ceo2设为49.19g，将sio2设为0.81g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.95
si
0.05
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.15与3.0
×
10-4
。
[0110]
在jsr(股)制造的降冰片烯系树脂“阿顿(arton)”(波长550nm的光的折射率：1.52、玻璃化转变温度：160℃)100质量份、作为红外线吸收剂的日本卡利特(carlit)(股)制造的cir-rl 0.1质量份及酚系抗氧化剂(艾迪科(adeka)(股)制造、“艾迪科斯塔波(adekastab)ao-20”)0.05质量份中加入二氯甲烷并加以溶解，获得固体成分为30质量％的
溶液。继而，将所获得的溶液在平滑的玻璃板上浇铸成形，在50℃下干燥8小时，进而，在减压下以100℃干燥1小时，之后，自玻璃板剥离，由此获得厚度0.1mm的基材(1)。
[0111]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，在所获得的基材(1)的单面形成表2中记载的设计(1)的电介质多层膜(1)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0112]
在设置有电介质多层膜(1)的面的相反侧，使用二氧化钛(tio2)与二氧化硅来形成表2中记载的设计(9)的电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(1)。
[0113]
所获得的光学滤波器(1)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为11μm。
[0114]
进行所获得的光学滤波器(1)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0115]
进行实施例1中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0116]
[实施例2]
[0117]
在物理掺杂法中，将ceo2设为42.14g，将sio2设为7.86g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.65
si
0.35
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.10与2.0
×
10-4
。
[0118]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(2)的电介质多层膜(2)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0119]
在设置有电介质多层膜(2)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(2)。
[0120]
所获得的光学滤波器(2)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为13μm。
[0121]
进行所获得的光学滤波器(2)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0122]
进行实施例2中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0123]
[实施例3]
[0124]
在物理掺杂法中，将ceo2设为30.43g，将ta2o5设为19.57g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.80
ta
0.20
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.20与2.5
×
10-4
。
[0125]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(3)的电介质多层膜(3)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0126]
在设置有电介质多层膜(3)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(3)。
[0127]
所获得的光学滤波器(3)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为15μm。
[0128]
进行所获得的光学滤波器(3)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0129]
进行实施例3中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0130]
[实施例4]
[0131]
在物理掺杂法中，将ceo2设为43.52g，将al2o3设为6.48g，获得高折射率层用蒸镀
材ce
0.80
al
0.20
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.15与3.5
×
10-4
。
[0132]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(4)的电介质多层膜(4)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0133]
在设置有电介质多层膜(4)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(4)。
[0134]
所获得的光学滤波器(4)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为16μm。
[0135]
进行所获得的光学滤波器(4)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0136]
进行实施例4中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0137]
[实施例5]
[0138]
使用制成将硝酸铈(iii)六水合物75.02g、硝酸铵铈(iv)0.81g、硝酸23.57g、纯水121.55g混合而得的a液与将偏硅酸钠九水合物20.13g、氨水94.52g、纯水464.39g混合而得的b液的化学掺杂法，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.65
si
0.35
o2。
[0139]
所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.10与2.0
×
10-4
。
[0140]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(5)的电介质多层膜(5)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0141]
在设置有电介质多层膜(5)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(5)。
[0142]
所获得的光学滤波器(5)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为13μm。
[0143]
进行所获得的光学滤波器(5)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0144]
进行实施例5中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0145]
[实施例6]
[0146]
将实施例1中的jsr(股)制造的降冰片烯系树脂“阿顿(arton)”变更为日本瑞翁(zeon)(股)制造的降冰片烯系树脂“瑞翁诺阿(zeonor)”(波长550nm的光的折射率：1.52、玻璃化转变温度：160℃)来制作厚度0.1mm的基材(2)，除此方面以外，与实施例1同样地制作而获得光学滤波器(6)。
[0147]
所获得的光学滤波器(6)的雾度(haze)为0.1，翘曲为12μm。
[0148]
进行所获得的光学滤波器(6)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0149]
进行实施例6中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0150]
[实施例7]
[0151]
将实施例1中的jsr(股)制造的降冰片烯系树脂“阿顿(arton)”变更为肖特(schott)公司制造的光学玻璃d263(波长550nm的光的折射率：1.52、玻璃化转变温度：557℃)，在d263上涂布红外线吸收剂来制作而获得厚度145μm的基材(3)，除此方面以外，与实
施例1同样地制作而获得光学滤波器(7)。
[0152]
所获得的光学滤波器(7)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为6μm。
[0153]
进行所获得的光学滤波器(7)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0154]
进行实施例7中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0155]
[实施例8]
[0156]
将成都光明公司制造的厚度175μm的蓝玻璃(blueglass)“qb58”(波长550nm的光的折射率：1.54)以厚度成为100μm方式研磨而成的蓝玻璃作为基材(4)，除此方面以外，与实施例1同样地获得光学滤波器(8)。
[0157]
所获得的光学滤波器(8)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为8μm。
[0158]
进行所获得的光学滤波器(8)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0159]
进行实施例8中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0160]
[实施例9]
[0161]
在实施例1中，不设置电介质多层膜(9)，除此以外，与实施例1同样地获得光学滤波器(9)。
[0162]
所获得的光学滤波器(9)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为25μm。
[0163]
进行所获得的光学滤波器(9)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0164]
进行实施例9中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0165]
[实施例10]
[0166]
在物理掺杂法中，将ceo2设为45.67g，将sio2设为4.34g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.80
si
0.20
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为2.13与2.5
×
10-4
。
[0167]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(10)的电介质多层膜(10)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0168]
在设置有电介质多层膜(10)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(9)，获得光学滤波器(10)。
[0169]
所获得的光学滤波器(10)的雾度(haze)值为0.1，翘曲为12μm。
[0170]
进行所获得的光学滤波器(10)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0171]
进行实施例10中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好，所获得的光学滤波器适合于固体摄像装置。
[0172]
[比较例1]
[0173]
在实施例1中，将高折射率层用蒸镀材变更为佳能光导发光元件(canon optron)(股)制造的ceo2蒸镀材，将设计(1)变更为设计(6)而变更为电介质多层膜(6)，除此以外，与实施例1同样地获得光学滤波器(11)。
[0174]
ceo2的550nm下的折射率与消光系数分别为2.20与6.0
×
10-4
。
[0175]
所获得的光学滤波器(11)的雾度(haze)值为0.8，翘曲为10μm。
[0176]
进行所获得的光学滤波器(11)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0177]
进行比较例1中所获得的光学滤波器的重影评价，结果在光源的周围确认到模糊的像，重影性能不良。
[0178]
[比较例2]
[0179]
在物理掺杂法中，将ceo2设为20.96g，将sio2设为29.04g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.2
si
0.8
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为1.70与2.0
×
10-4
。
[0180]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(7)的电介质多层膜(7)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0181]
在设置有电介质多层膜(7)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(ar)，获得光学滤波器(12)。
[0182]
所获得的光学滤波器(12)的雾度(haze)值为0.1，翘曲增大为67μm。
[0183]
进行所获得的光学滤波器(12)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0184]
进行比较例2中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好。
[0185]
[比较例3]
[0186]
在实施例1中，将高折射率层用蒸镀材变更为二氧化钛，将设计(1)变更为设计(8)而变更为电介质多层膜(8)，除此以外，与实施例1同样地获得光学滤波器(13)。
[0187]
二氧化钛的550nm下的折射率与消光系数分别为2.45与1.0
×
10-4
。
[0188]
所获得的光学滤波器(13)的雾度(haze)值为0.1，翘曲增大为99μm。
[0189]
进行所获得的光学滤波器(13)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0190]
进行比较例3中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好。
[0191]
[比较例4]
[0192]
在比较例3中，将离子辅助电压变更为400v，除此以外，与比较例3同样地获得光学滤波器(14)。
[0193]
二氧化钛的550nm下的折射率与消光系数分别为2.40与2.0
×
10-4
。
[0194]
所获得的光学滤波器(14)的雾度(haze)值为0.1，翘曲增大为68μm。
[0195]
进行所获得的光学滤波器(14)的耐久试验，结果观察到电介质多层膜剥离，耐久性能不良。
[0196]
进行比较例4中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好。
[0197]
[比较例5]
[0198]
在物理掺杂法中，将ceo2设为33.41g，将sio2设为16.59g，获得高折射率层用蒸镀材ce
0.4
si
0.6
o2。所获得的高折射率层用蒸镀材的550nm下的折射率与消光系数分别为1.90与2.2
×
10-4
。
[0199]
使用离子辅助真空蒸镀装置，在蒸镀温度120℃下，使用所获得的高折射率层用蒸镀材与二氧化硅(sio2)，与实施例1同样地，在基材(1)的单面形成表2中记载的设计(11)的电介质多层膜(11)。高折射率层的离子辅助电压设为800v。
[0200]
在设置有电介质多层膜(11)的面的相反侧，与实施例1同样地形成电介质多层膜(ar)，获得光学滤波器(15)。
[0201]
所获得的光学滤波器(15)的雾度(haze)值为0.1，翘曲增大为48μm。
[0202]
进行所获得的光学滤波器(15)的耐久试验，结果耐久性能良好。
[0203]
进行比较例5中所获得的光学滤波器的重影评价，结果重影性能良好。
[0204]
[表1]
[0205]
[0206]