光学器件与光调制器的制作方法

文档序号:35859926发布日期:2023-10-26 10:48阅读:46来源:国知局
光学器件与光调制器的制作方法

本发明涉及一种用于光通信和光学测量领域的光学器件与光调制 器。


背景技术:

1、伴随着互联网的普及,通信量飞跃性地增加,光纤通信的重要性 非常高。光纤通信是将电信号转换为光信号,并通过光纤来传输光信 号的通信方式,具有宽带宽、低损耗、抗噪性强的特征。

2、作为将电信号转换为光信号的方式,已知有利用半导体激光的直 接调制方式和使用了光调制器的外部调制方式。直接调制虽然不需要 光调制器而且成本低,但是在高速调制方面有极限,在高速且长距离 的用途中使用外部光调制方式。

3、作为光调制器,通过ti(钛)扩散在铌酸锂单晶基板的表面附近 形成有光波导的马赫-曾德尔型光调制器被实用化(参照专利文献1)。 马赫-曾德尔型光调制器是使用具有马赫-曾德尔干涉仪结构的光波导 (马赫-曾德尔光波导)的光调制器。马赫-曾德尔干涉仪是将从一个光 源发出的光分成两个光,通过不同路径,然后再次重叠以产生干涉的 装置,应用马赫-曾德尔干涉仪的马赫-曾德尔型光调制器被用于产生各 种调制光。40gb/s以上的高速的光调制器被商用化,但是主要缺点是 总长度长达约10cm。

4、针对该问题,在专利文献2中公开了使用铌酸锂膜的马赫-曾德尔 光调制器。使用了铌酸锂膜(ln膜)的光调制器与使用了铌酸锂单晶 基板的光调制器相比,实现了大幅度的小型化、低驱动电压化。在专 利文献2中,通过在基板上形成ln膜的步骤、蚀刻ln膜并在基板上 形成光波导的步骤,起到充分的光限制的效果,从而使电光器件的动 作速度高速化。

5、在使用ln膜的光波导中,重要的是限制光的进入以降低驱动电 压,因此必须注重ln膜质,注意与保护层的紧贴性,避免在ln膜上 产生微裂纹。

6、例如,由于具有低折射率的氧化硅作为保护层,与作为光波导的 ln膜相邻地形成,因此,由ln膜与构成保护层的材料的膨胀系数不 同而引起的应力的影响可能导致光的传输损耗。

7、现有技术文献

8、专利文献

9、专利文献1:日本特开2005-221874号公报

10、专利文献2:日本特开2006-195383号公报


技术实现思路

1、本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供一种光的传输 损耗小的光学器件。

2、本发明的一个实施方式提供一种光学器件,所述光学器件具备光 波导,在形成所述光波导的板状或膜状的电光材料的表面中,以0.1× 0.1μm的范围,在光波导的延伸方向选取3处,在光波导的宽度方向 选取2处,共计6处,通过原子力显微镜测定表面粗糙度rms,这些 rms的平均值为5.1nm以下。

3、根据本发明的光电器件,此外,通过使光波导粗糙化,从而降低 由光波导材料与保护层材料的膨胀系数不同而引起的应力的影响,进 一步抑制在光波导上产生微裂纹,从而减少光的传输损耗。并且,通 过多次选取0.1×0.1μm的范围进行rms测量,能够正确地测量表面 粗糙度。

4、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述6处中的rms的最大 值和最小值相对于平均值的偏差为±1.2nm以内。

5、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述光波导为脊状,所述 光波导的侧面的rms平均值大于所述光波导的上表面的rms平均值。

6、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述光波导的所述侧面的 rms平均值与所述光波导的所述上表面的rms平均值之比为 1.05~1.1。

7、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述光波导上具有金属氧 化物层。

8、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述电光材料由linbo3构 成。

9、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述电光材料是在linbo3中至少掺杂有ti的材料。

10、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述电光材料是外延膜。

11、另外,本发明的光学器件中,优选地,所述外延膜在与其基板交 叉的方向上取向。

12、本发明的另一个实施方式提供一种光调制器,所述光调制器具备 光波导和电极,在形成所述光波导的板状或膜状的电光材料的表面中, 以0.1×0.1μm的范围,在光波导的延伸方向选取3处,在光波导的宽 度方向选取2处,共计6处,通过原子力显微镜测定表面粗糙度rms, 这些rms的平均值为5.1nm以下。

13、另外,本发明的光调制器中,优选地,所述光波导为脊状,所述 光波导的侧面的rms大于所述光波导的上表面的rms,所述电极设 置于脊状的所述光波导上。

14、发明的效果

15、根据本发明的光学器件和具备该光学器件的光调制器,能够有效 地减少光的传输损耗。



技术特征:

1.一种光学器件,其特征在于,

2.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的光学器件,其特征在于,

4.根据权利要求2或3所述的光学器件,其特征在于,

5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学器件,其特征在于,

6.根据权利要求1~5中任一项所述的光学器件,其特征在于,

7.根据权利要求1~5中任一项所述的光学器件,其特征在于,

8.根据权利要求1~7中任一项所述的光学器件,其特征在于,

9.根据权利要求8所述的光学器件,其特征在于,

10.一种光调制器,其特征在于,

11.如权利要求10所述的光调制器,其特征在于,


技术总结
本发明提供一种光学器件与光调制器,所述光学器件具备光波导,在形成所述光波导的板状或膜状的电光材料的表面中,以0.1×0.1μm的范围,在光波导的延伸方向选取3处,在光波导的宽度方向选取2处,共计6处,通过原子力显微镜测定表面粗糙度RMS,这些RMS的平均值为5.1nm以下。根据本发明的光学器件,能够抑制在光波导上产生微裂纹,从而减小光的传输损耗。

技术研发人员:长瀬健司,田家裕,A·R·M·宾拉奥,王进武
受保护的技术使用者:TDK株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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