控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统与流程

本发明涉及光刻工艺，具体涉及一种控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统。

背景技术：

1、在半导体制造领域，光刻是至关重要的一环，它是将掩膜版上的电路图形转移到晶圆基底的过程，通常由光刻机来完成这一过程。光刻机生产能力和速度决定整个晶圆的工艺水平和出货速度。但是光刻机极其昂贵，如何提高机台的良率至关重要。

2、目前实现光刻工艺的inline(内联)机台是由track(涂胶显影机台)和scanner(扫描曝光机台)两部分组成，晶圆(wafer)在涂胶显影机台里完成涂胶后，经过一定的后处理，被送到曝光机台内进行曝光，完成曝光的晶圆被送回涂胶显影机台进行显影。在曝光机台与涂胶显影机台之间设置有界面接口，晶圆通过该界面接口在曝光机台与涂胶显影机台之间进行传输。然而，曝光机台对温度、压力要求较高，当温度或压力发生变化时，会降低产品的良率。基于此，现有曝光机台会对内部压差变化进行监控，当曝光机台内的压力变化超过0.005时，曝光机台会发生报警。当曝光机台内的压力变化超过0.001时，曝光机台会发生运行错误，甚至引起死机。由于晶圆通过界面接口在曝光机台与涂胶显影机台之间传输时，界面接口会处于常开状态，若涂胶显影机台的气压大于曝光机台的气压，气流会经界面接口流向曝光机台，引起曝光机台的温度、压力的变化，进而影响产品的良率。

技术实现思路

1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统，以有效检测曝光机台与涂胶显影机台之间压差值，使其处于正常阈值范围内，保证曝光机台内温度及压力的稳定性。

2、为了实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法，包括以下步骤：

3、s101：设定曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围；

4、s102：检测曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差；

5、s103：将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比，判断压力差是否处于阈值范围内；

6、s104：根据判断结果确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整。

7、可选地，在根据判断结果确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整的步骤中，还包括：

8、当曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差处于设定的阈值范围内时，无需对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整。

9、可选地，在根据判断结果确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整的步骤中，还包括：

10、当曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差未处于设定的阈值范围内时，对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整。

11、可选地，在对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整的步骤中，还包括：

12、调整涂胶显影机台内的压力值，使曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差处于设定的阈值范围内。

13、可选地，在调整涂胶显影机台内的压力值步骤中，还包括：

14、当曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差小于阈值范围的最小值时，减小涂胶显影机台内的压力，增大压力差；

15、当曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差大于阈值范围的最大值时，增大涂胶显影机台内的压力，减小压力差。

16、可选地，在调整涂胶显影机台内的压力值之后，还包括：

17、重复步骤s102～s104，直至曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差保持在阈值范围内。

18、可选地，在设定曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围之前，还包括：

19、在曝光机台与涂胶显影机台之间设置压差控制器。

20、可选地，压差控制器包括压差检测模块，此时，在检测曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的步骤中，还包括：

21、将压差检测模块的一端连接至涂胶显影机台，另一端连接至曝光机台，以对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行检测。

22、可选地，压差控制器还包括压差控制模块，此时，在设定曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围的步骤中，还包括：

23、在压差控制模块内设置阈值范围参数。

24、可选地，采用压差控制模块将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比，判断压力差是否处于阈值范围内，并发送控制信号至位于涂胶显影机台内的压力调整装置，以对压力差进行调整。

25、可选地，阈值范围介于10pa～50pa。

26、本发明还提供一种压差控制系统，控制系统包括：

27、压差控制器，用于测试曝光机台与涂胶显影机台之间的压差值，判断压差值是否处于设定的阈值范围内，并用于发出调整压差值的控制信号；

28、压力调整装置，设置于涂胶显影机台内，且与压差控制器通信连接，以接收压差控制器调整压差值的控制信号，并根据控制信号对涂胶显影机台内的压力进行调整，使曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差处于阈值范围内。

29、可选地，压差控制器包括：

30、压差检测模块，一端与涂胶显影机台连接，另一端与曝光机台连接，以测试曝光机台与涂胶显影机台之间的压差值；

31、压差控制模块，与压差检测模块连接，且与压力调整装置通信连接，以对压差检测模块检测的压差值与阈值范围进行对比判断，并发送控制信号至压力调整装置。

32、与现有技术相比，本发明所述的控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法及系统至少具备如下有益效果：

33、本发明所述的控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法包括设定曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差的阈值范围，检测曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差，将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比，判断压力差是否处于阈值范围内，根据判断确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整。本发明通过将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比判断，确定是否调整涂胶显影机台内的压力值，并使得曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差处于阈值范围内。进而，本发明能够保证曝光机台内温度及压力的稳定性，避免出现由于曝光机台内温度以及压力的变化导致的产率以及良率的下降，并有效预防了由于机台间压差引起的死机的情况的出现。

34、进一步地，本发明在调整所述涂胶显影机台内的压力值之后，还包括循环检测曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差，将曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差与设定的阈值范围进行对比，判断压力差是否处于阈值范围内，根据判断确定是否对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行调整，直至所述曝光机台与所述涂胶显影机台之间的压力差保持在所述阈值范围内。进而，本发明能够对曝光机台与涂胶显影机台之间的压力差进行实时监控，将机台压差稳定在阈值范围内(10pa～50pa)。

35、本发明所述的压差控制系统用于上述控制曝光机台与涂胶显影机台之间压差值的方法，同样具备上述技术效果。