显示面板及显示设备的制作方法

文档序号:32750832发布日期:2022-12-31 00:40阅读:36来源:国知局
显示面板及显示设备的制作方法

1.本技术涉及显示技术领域,具体而言,本技术涉及一种显示面板及显示设备。


背景技术:

2.随着显示技术的发展,显示设备的应用场景越来越广,对显示设备的抗跌落性能提出了更高的要求。
3.现有液晶显示设备的液晶显示面板往往包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,液晶显示面板中液晶盒的盒厚主要通过设置于阵列基板和彩膜基板之间的ps(photo spacer,隔垫物)来维持。在显示设备受到外力冲击的情况下,ps容易划伤设置于阵列基板或彩膜基板一侧的取向层,当位于像素区域的取向层被划伤后,会导致该像素区域出现漏光问题,影响显示设备的正常显示。


技术实现要素:

4.本技术针对现有方式的缺点,提出一种显示面板及显示设备,用以解决现有技术中液晶显示面板的取向层容易损坏导致出现漏光的技术问题。
5.第一个方面,本技术实施例提供了一种显示面板,包括:相对设置的阵列基板和彩膜基板,以及设置于阵列基板和彩膜基板之间的至少两个第一支撑结构;
6.阵列基板包括衬底和设置于衬底一侧的至少两条第一导电走线和至少两条第二导电走线,第一导电走线位于第二导电走线所在膜层远离衬底的一侧,第一导电走线和第二导电走线交叉限定出子像素结构所在的区域,子像素结构远离衬底的一侧设有第一取向层;第一导电走线远离衬底的表面与衬底的垂直距离,大于第一取向层远离衬底的表面与衬底的垂直距离,第一支撑结构在阵列基板的正投影覆盖至少部分第一导电走线与第二导电走线交叉层叠处。
7.第二个方面,本技术实施例提供了一种显示设备,包括:第一个方面所提供的显示面板。
8.本技术实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括:
9.在本技术实施例所提供的显示面板中,通过设置第一支撑结构在阵列基板的正投影覆盖至少部分第一导电走线,且第一导电走线远离衬底的表面与衬底的垂直距离,大于第一取向层远离衬底的表面与衬底的垂直距离,在显示面板受到外力作用下,第一支撑结构会与第一导电走线接触,从而能够降低第一支撑结构接触第一取向层的几率,能够降低第一取向层被损坏的几率。
10.而且,在第一支撑结构与阵列基板的相对移动的过程中,第一导电走线与第一支撑结构之间的摩擦力较大,第一导电走线会降低第一支撑结构的位移,从而能够进一步降低第一取向层被第一支撑结构损坏的几率。
11.同时,由于第一支撑结构在阵列基板的正投影覆盖至少部分第一导电走线与第二导电走线交叉层叠处,从而能够降低第一支撑结构对子像素结构的遮盖,能够保障显示面
板的开口率,保障显示面板的透光率。
12.本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
附图说明
13.本技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
14.图1为本技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图;
15.图2为本技术实施例提供的图1所示显示面板中aa的剖面结构示意图;
16.图3为本技术实施例提供的图1所示显示面板中bb的剖面结构示意图;
17.图4为本技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图;
18.图5为本技术实施例提供的图4所示显示面板中cc的剖面结构示意图。
19.附图标记说明:
20.10-阵列基板;
21.11-衬底;12-第一导电走线;13-第二导电走线;14-第一取向层;151-透光区;16-遮挡结构;17-薄膜晶体管;171-栅极;172-有源结构;173-源漏极;101-栅极绝缘层;102-钝化层;
22.20-彩膜基板;
23.21-基板;22-彩膜层;221-色阻部;222-凸部;23-第二取向层;
24.30-第一支撑结构;
25.40-第二支撑结构。
具体实施方式
26.下面结合本技术中的附图描述本技术的实施例。应理解,下面结合附图所阐述的实施方式,是用于解释本技术实施例的技术方案的示例性描述,对本技术实施例的技术方案不构成限制。
27.本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤和/或操作,但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作和/或它们的组合等。这里使用的术语“和/或”指该术语所限定的项目中的至少一个,例如“a和/或b”可以实现为“a”,或者实现为“b”,或者实现为“a和b”。
28.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
29.首先对本技术涉及的相关技术进行说明:
30.液晶显示面板往往包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板,并通过ps维持液晶盒和盒厚,ps通常与彩膜基板朝向阵列基板的一侧连接。ps通常包括main(主)-ps和sub(副)-ps,main-ps的高度大于sub-ps的高度。在显示面板没有受到外力作用的情况下,只有main-ps与阵列基板接触起到支撑的作用,sub-ps并不会接触阵列基板;在在显示面板受到外力
冲击的情况下,随着main-ps的压缩变形,sub-ps会直接接触阵列基板。
31.在液晶显示面板受到外力冲击的情况下,例如,在搬运液晶显示面板的过程中、对液晶显示面板进行压力测试的过程中以及对液晶显示面板进行抗跌落性能测试的过程中,阵列基板和彩膜基板会发生一定程度的相对位移,彩膜基板会带动ps一起相对阵列基板移动,在ps的移动过程中,设置于阵列基板朝向彩膜基板一侧的液晶取向层容易被ps划伤,使得该部分液晶取向层的配向紊乱,导致该部分液晶取向层不能实现对液晶的取向功能,进而导致该处容易出现漏光问题,从而影响显示面板的正常显示工作。
32.现有液晶显示面板中,sub-ps的数量要远大于main-ps的数量,因此,如能够防止sub-ps划伤液晶取向层,则能够大大减小液晶取向层的损坏几率。
33.本技术提供的显示面板及显示设备,旨在现有技术的如上技术问题。
34.下面以具体地实施例对本技术的技术方案以及本技术的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。需要指出的是,下述实施方式之间可以相互参考、借鉴或结合,对于不同实施方式中相同的术语、相似的特征以及相似的实施步骤等,不再重复描述。
35.本技术实施例提供了一种显示面板,如图1和图2所示,该显示面板包括:相对设置的阵列基板10和彩膜基板20,以及设置于阵列基板10和彩膜基板20之间的至少两个第一支撑结构30。
36.本技术实施例中,阵列基板10包括衬底11和设置于衬底11一侧的至少两条第一导电走线12和至少两条第二导电走线13,第一导电走线12位于第二导电走线13所在膜层远离衬底11的一侧,第一导电走线12和第二导电走线13交叉限定出子像素结构所在的区域,子像素结构远离衬底11的一侧设有第一取向层14;第一导电走线12远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,大于第一取向层14远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12与第二导电走线13交叉层叠处。
37.在本技术实施例所提供的显示面板中,通过设置第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12,且第一导电走线12远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,大于第一取向层14远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,在显示面板受到外力作用下,第一支撑结构30会与第一导电走线12接触,从而能够降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够降低第一取向层14被损坏的几率。
38.而且,在第一支撑结构30与阵列基板10的相对移动的过程中,第一导电走线12与第一支撑结构30之间的摩擦力较大,第一导电走线12会降低第一支撑结构30的位移,从而能够进一步降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
39.同时,由于第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12与第二导电走线13交叉层叠处,从而能够降低第一支撑结构30对子像素结构的遮盖,能够保障显示面板的开口率,保障显示面板的透光率。
40.本技术实施例中,如图1和图2所示,阵列基板10的衬底11的一侧设置有多条第二导电走线13,第二导电走线13所在膜层远离衬底11的一侧设置有多条第一导电走线12,第一导电走线12和第二导电走线13交叉限定出子像素结构所在的区域,如图1所示,第一导电走线12和第二导电走线13交叉限定出的矩形区域为子像素结构所在的区域,可选地,图1中示出了两个子像素结构所在的区域,子像素结构远离衬底11的一侧设有第一取向层14。
41.应该说明的是,本技术实施例中,子像素结构包括子像素电极,子像素电极采用透
光导电材料制成,如ito(indium tin oxide,氧化铟锡)。
42.可选地,本技术实施例中,第一支撑结构30为sub-ps,即在显示面板没有受到外力作用的情况下,第一支撑结构30与阵列基板10没有接触。
43.本技术实施例中,如图2所示,第一导电走线12远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,大于第一取向层14远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,即沿衬底11指向彩膜基板20的方向上,第一导电走线12的上表面凸出于第一取向层14的上表面,如图2所示,第一导电走线12的上表面凸出于第一取向层14的上表面之间具有段差d,从而在显示面板受到外力作用的情况下,第一支撑结构30会与第一导电走线层12的上表面接触,第一导电走线层12起到阻止第一支撑结构30接触第一取向层14的作用,从而能够降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够降低第一取向层14被损坏的几率。
44.可选地,本技术实施例中,第一支撑结构30设置于彩膜基板20朝向阵列基板10的一侧,即第一支撑结构30与彩膜基板20一起制造而成。在显示面板受到外力作用下,阵列基板10和彩膜基板20之间容易发生相对移动,彩膜基板20会带动第一支撑结构30相对于阵列基板10移动。
45.在第一支撑结构30相对于阵列基板10移动的过程中,由于第一导电走线12与第一支撑结构30之间摩擦力的作用以及第一导电走线12的结构强度较大,第一导电走线12能够起到阻止第一支撑结构30沿平行于衬底11方向移动的作用,因此,第一导电走线12会降低第一支撑结构30的位移,从而能够进一步降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够进一步降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
46.本技术实施例中,如图1所示,第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12与第二导电走线13交叉层叠处,从而能够降低第一支撑结构30对子像素结构的遮盖,能够保障显示面板的开口率,保障显示面板的透光率。
47.可选地,如图1所示,第一支撑结构30在衬底11的正投影与子像素结构所在区域相分离,从而能够避免第一支撑结构30影响子像素结构的出光,能够进一步保障显示面板的开口率,能够进一步保障显示面板的透光率。
48.可选地,第一导电走线12的厚度通常在0.6微米左右,即第一支撑结构30与第一取向层14之间的段为0.6微米左右。
49.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,子像素结构包括透光区151,第一支撑结构30在阵列基板10的正投影与透光区151相分离。
50.本技术实施例中,如图1所示,子像素结构包括透光区151,透光区151是用于背光源的出射光透过的区域,应该说明的是,如图1所示,为了便于理解子像素结构的透光区151,图1中用虚线表示透光区151,实际产品中并不存在虚线。
51.本技术实施例中,如图1所示,第一支撑结构30在阵列基板10的正投影与透光区151相分离。从而在显示面板未受外力的情况下,能够避免第一支撑结构30对子像素结构中透光区151的遮盖,从而能够保障显示面板的透光率,能够保障显示面板的显示亮度。
52.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,沿平行于衬底11的方向,第一支撑结构30的延伸方向与第一导电走线12的延伸方向之间具有夹角。
53.本技术实施例中,如图1所示,第一支撑结构30沿平行于衬底11的延伸方向为第一支撑结构30的长度延伸方向,第一导电走线12沿平行于衬底11的延伸方向为第一导电走线
12的长度延伸方向。
54.第一支撑结构30与第一导电走线12之间具有夹角,从而在第一支撑结构30相对于阵列基板10的移动过程中,特别是第一支撑结构30沿第一导电走线12的滑动过程中,在第一支撑结构30受到非平行于第一导电走线12的延伸方向的力的作用的情况下,能够降低第一支撑结构30与第一导电走线12脱离接触的几率,使得第一导电走线12始终起到阻止第一支撑结构30移动的作用,从而能够进一步降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够进一步降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
55.可选地,如图1所示,第一支撑结构30沿平行于衬底11的延伸方向垂直于第一导电走线12的延伸方向,即第一支撑结构30的长度延伸方向垂直于第一导电走线12的长度延伸方向。
56.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,第一支撑结构30沿平行于衬底11的第一方向的尺寸大于第一支撑结构30沿平行于衬底11的第二方向的尺寸,第一支撑结构30沿第一方向的尺寸大于第一导电走线沿第一方向的尺寸;第一方向垂直于第二方向。
57.可选地,本技术实施例中,如图1所示,第一方向与第二方向相互垂直,第一支撑结构30沿平行于衬底11的第一方向的尺寸大于第一支撑结构30沿平行于衬底11的第二方向的尺寸,即第一支撑结构30长度大于第一支撑结构30的宽度。
58.可选地,第一支撑结构30的长度与第一支撑结构30的宽度的比值不小于3,即第一支撑结构30的长宽比不小于3,从而在第一支撑结构30相对于阵列基板10的移动过程中,能够进一步降低第一支撑结构30与第一导电走线12脱离接触的几率。
59.可选地,本技术实施例中,如图1所示,第一支撑结构30沿第一方向的尺寸大于第一导电走线12沿第一方向的尺寸,即第一支撑结构30长度大于第一导电走线12的线宽,从而在第一支撑结构30沿第一导电走线12的滑动过程中,当第一支撑结构30受到非平行于第一导电走线12的延伸方向的力的作用的情况下,能够降低第一支撑结构30与第一导电走线12脱离接触的几率,从而能够进一步降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够进一步降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
60.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,在衬底11的一侧,沿平行于衬底11的方向,第一支撑结构30的两侧均设置有至少一个遮挡结构16,多个遮挡结构16的连线段围合第一支撑结构30。
61.本技术实施例中,如图1所示,第一支撑结构30的两侧均设置有至少一个遮挡结构16,以使得多个遮挡结构16的连线段围合第一支撑结构30,在第一支撑结构30沿第一导电走线12的滑动过程中,遮挡结构16会起到阻挡第一支撑结构30移动的作用,从而能够降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
62.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,遮挡结构16在子像素结构的正投影覆盖部分子像素结构的透光区151。
63.可选地,本技术实施例中,如图1所示,遮挡结构16在衬底11的正投影覆盖部分子像素结构的透光区151,遮挡结构16采用不透光材料制成,即使第一导电走线12、遮挡结构16没有完全阻挡第一支撑结构30的移动,导致第一支撑结构30划伤部分第一取向层14,由于遮挡结构16的遮挡作用,能够遮挡子像素结构所在区域的出光,即遮挡结构16能够遮挡
部分漏光,从而能够降低第一取向层14划伤后出现漏光现象的几率,能够降低显示面板出现显示不良的问题。
64.可选地,为了保障显示面板的透光率,可以适当减小遮挡结构16的设置数量,例如,只在第一支撑结构30的一侧设置有至少一个遮挡结构16。
65.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,阵列基板10和彩膜基板20之间还设置有至少两个第二支撑结构40,第一支撑结构30远离彩膜基板20的一面与彩膜基板20的垂直距离,小于第二支撑结构40远离彩膜基板20的一面与彩膜基板20的垂直距离;第二支撑结构40在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第二导电走线13,第二支撑结构40在衬底11的正投影与第一导电走线12在衬底11的正投影相分离。
66.本技术实施例中,如图1和图3所示,阵列基板10和彩膜基板20之间还设置有第二支撑结构40。
67.可选地,第二支撑结构40为main-ps,第一支撑结构30为sub-ps,第一支撑结构30远离彩膜基板20的一面与彩膜基板20的垂直距离,小于第二支撑结构40远离彩膜基板20的一面与彩膜基板20的垂直距离,即第一支撑结构30的高度小于第二支撑结构40的高度。在显示面板未受到外力作用的情况下,第二支撑结构40始终与阵列基板10抵接,以起到支撑阵列基板10的彩膜基板20的作用。
68.本技术实施例中,如图1和图3所示,第二支撑结构40在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第二导电走线13,且第二支撑结构40在衬底11的正投影与第一导电走线12在衬底11的正投影相分离。即在垂直于衬底11的方向上,第一支撑结构30覆盖的金属膜层包括第一导电走线12和第二导电走线13,而第二支撑结构40覆盖的金属膜层包括第二导电走线13,以保障第二支撑结构40与第一支撑结构30之间具有足够的段差,避免在显示面板未受到外力冲击的情况下出现第一支撑结构30接触阵列基板10的现象,从而保障显示面板具有足够的弹性,能够保障显示面板抵抗外力冲击的能力。
69.可选地,如图1所示,在本技术的一个实施例中,衬底11的一侧还设置有薄膜晶体管17,第二支撑结构40在衬底11的正投影与薄膜晶体管在衬底11的正投影相分离。
70.本技术实施例中,如图1所示,衬底11的一侧设置有薄膜晶体管17,如图2所示,薄膜晶体管17包括栅极171、有源结构172和源漏极173,栅极171设置于衬底11的一侧,与第二导电走线13同层设置,可选地,第二导电走线13为扫描线,栅极171和第二导电走线13远离衬底11的一侧设置有栅极绝缘层101,栅极绝缘层101远离衬底11的一侧设置有有源结构172,有源结构172和栅极绝缘层101未被有源结构172覆盖的区域覆盖有钝化层102,源漏极173设置于钝化层102远离衬底11的一侧并与有源结构172连接,第一导电走线12与源漏极173同层设置,可选地,第一导电走线12为数据线。
71.本技术实施例中,结合图1、图2和图3可知,由于源漏极173与第一导电走线12同层设置,因此,阵列基板10中设置有薄膜晶体管17的区域与只设置有第二导电走线13的区域之间具有一定的段差,通过设置第二支撑结构40在衬底11的正投影与薄膜晶体管在衬底11的正投影相分离,能够进一步保障第二支撑结构40与第一支撑结构30之间具有足够的段差,保障显示面板具有足够的弹性,能够保障显示面板抵抗外力冲击的能力。
72.同时,由于阵列基板10中未设置有薄膜晶体管17的区域的平坦性较好,通过设置第二支撑结构40在衬底11的正投影与薄膜晶体管在衬底11的正投影相分离,能够保障第二
支撑结构40支撑的阵列基板10支撑处的平坦性,保障第二支撑结构40的支撑效果。
73.本技术发明人经过测试后了解,相较于相关技术的显示面板,本技术实施例所提供的显示面板的透光率能够提升8%以上,甚至能提升10%-15%,且能够通过高度为至少65厘米的跌落测试。
74.可选地,如图4和图5所示,在本技术的一个实施例中,第一支撑结构30设置于第一导电走线12所在膜层远离衬底11的一侧;彩膜基板20包括基板21和设置于基板21朝向阵列基板10一侧的彩膜层22,彩膜层22包括色阻部221和凸部222,色阻部远离基板的一侧设置有第二取向层23;凸部221远离基板21的表面与基板21的垂直距离,大于第二取向层23远离基板21的表面与基板21的垂直距离;第一支撑结构30在彩膜基板20的正投影覆盖至少部分凸部222。
75.本技术实施例中,如图4和图5所示,第一支撑结构30设置于第一导电走线12所在膜层远离衬底11的一侧,即第一支撑结构30与阵列基板10一起制造而成,从而能够避免第一支撑结构30划伤设置于阵列基板10一侧的第一取向层14。
76.本技术实施例中,如图5所示,彩膜基板20的基板21朝向阵列基板10的一侧设置有彩膜层22,彩膜层22包括色阻部221和凸部222,色阻部221远离基板21的一侧设置有第二取向层23。可选地,凸部222远离基板21的表面与基板21的垂直距离,大于第二取向层23远离基板21的表面与基板21的垂直距离,即凸部222与第二取向层23之间具有段差,凸部222凸出于第二取向层23。
77.可选地,色阻部221包括红色、绿色和蓝色色阻部221,如图5所示,凸部222包括两个相邻色阻部221延伸交叠的部分,从而在制造色阻部221的同时,能够制造形成凸部222,使得凸部222凸出于色阻部221的同时,能够提高彩膜基板20的制造效率,降低显示面板的制造成本。应该说明的是,为了便于理解彩膜层22中色阻部221和凸部222的划分,图5中用虚线进行了划分,实际产品中并不存在虚线。
78.本技术实施例中,如图4和图5所示,第一支撑结构30在彩膜基板20的正投影覆盖至少部分凸部222。从而在显示面板受到外力冲击时,第一支撑结构30会与凸部222抵接,能够避免第一支撑结构30接触第二取向层23凸部222起到阻止第一支撑结构30接触第二取向层23的作用,从而能够降低第二取向层23被第一支撑结构30损坏的几率。
79.同时,在显示面板受到外力冲击时,第一支撑结构30会与凸部222抵接,能够避免凸部222接触设置衬底11一侧的第一取向层14,第一支撑结构30起到阻止凸部222接触第一取向层14的作用,从而能够降低第一取向层14被凸部222损坏的几率,从而能够提高显示面板的抗跌落性能。
80.可选地,如图5所示,本技术实施例中,第一支撑结构30为sub-ps,因此,在显示面板未受到外力作用的情况下,第一支撑结构30未接触凸部222。
81.可选地,第一支撑结构30可以为main-ps,则在显示面板未受到外力作用的情况下,第一支撑结构30抵接凸部222。
82.可选地,如图4所示,在本技术的一个实施例中,沿平行于衬底11的方向,第一支撑结构30的延伸方向与凸部221的延伸方向之间具有夹角。
83.本技术实施例中,如图4所示,第一支撑结构30沿平行于衬底11的延伸方向为第一支撑结构30的长度延伸方向,凸部221沿平行于衬底11的延伸方向为凸部221的长度延伸方
向。
84.第一支撑结构30与凸部221之间具有夹角,从而在第一支撑结构30相对于彩膜基板20的移动过程中,特别是第一支撑结构30沿凸部221的滑动过程中,能够降低第一支撑结构30与凸部221脱离接触的几率,从而能够降低第一支撑结构30接触第二取向层23的几率以及降低凸部221接触第一取向层14的几率,能够降低显示面板中取向层被损坏的几率。
85.可选地,如图4所示,第一支撑结构30沿平行于衬底11的延伸方向垂直于凸部221的延伸方向,即第一支撑结构30的长度延伸方向垂直于凸部221的长度延伸方向。
86.可选地,为了避免第一支撑结构30和第二支撑结构40远离衬底11的一侧设置有黑矩阵层,通过黑矩阵层进行遮光,以防止显示面板出现漏光的问题。可选地,每个第一支撑结构30和每个第二支撑结构40对应的黑矩阵层的面积应大于第一支撑结构30或第二支撑结构40的面积,以保障遮光的效果。
87.基于同一发明构思,本技术实施例提供了一种显示设备,该显示设备包括:上述各个实施方式中任一所提供的显示面板。
88.本技术实施例中,由于显示设备采用了前述各实施例提供的任一种显示面板,其原理和技术效果请参阅前述各实施例,在此不再赘述。
89.可选地,本技术实施例中,显示设备液晶显示设备,例如,手机、平板电脑、笔记本电脑、以及智能电视等。
90.应用本技术实施例,至少能够实现如下有益效果:
91.1、在本技术实施例所提供的显示面板中,通过设置第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12,且第一导电走线12远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,大于第一取向层14远离衬底11的表面与衬底11的垂直距离,在显示面板受到外力作用下,第一支撑结构30会与第一导电走线12接触,从而能够降低第一支撑结构30接触第一取向层14的几率,能够降低第一取向层14被损坏的几率。
92.2、在第一支撑结构30与阵列基板10的相对移动的过程中,第一导电走线12与第一支撑结构30之间的摩擦力较大,第一导电走线12会降低第一支撑结构30的位移,从而能够进一步降低第一取向层14被第一支撑结构30损坏的几率。
93.3、由于第一支撑结构30在阵列基板10的正投影覆盖至少部分第一导电走线12与第二导电走线13交叉层叠处,从而能够降低第一支撑结构30对子像素结构的遮盖,能够保障显示面板的开口率,保障显示面板的透光率。
94.本技术领域技术人员可以理解,本技术中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地,具有本技术中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地,现有技术中的具有与本技术中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
95.在本技术的描述中,词语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系,为基于附图所示的示例性的方向或位置关系,是为了便于描述或简化描述本技术的实施例,而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
96.术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者
隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
97.在本技术的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
98.在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
99.应该理解的是,虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤的实施顺序并不受限于箭头所指示的顺序。除非本文中有明确的说明,否则在本技术实施例的一些实施场景中,各流程中的步骤可以按照需求以其他的顺序执行。而且,各流程图中的部分或全部步骤基于实际的实施场景,可以包括多个子步骤或者多个阶段。这些子步骤或者阶段中的部分或全部可以在同一时刻被执行,也可以在不同的时刻被执行在执行时刻不同的场景下,这些子步骤或者阶段的执行顺序可以根据需求灵活配置,本技术实施例对此不限制。
100.以上所述仅是本技术的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术的方案技术构思的前提下,采用基于本技术技术思想的其他类似实施手段,同样属于本技术实施例的保护范畴。
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