一种光罩吸取器的制作方法

1.本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及光刻蚀的配套设备技术领域，具体为一种光罩吸取器。


背景技术：

2.光刻机，又名掩膜对准曝光机，是集成电路芯片制造的关键核心设备。光刻流程主要包括衬底预处理、涂胶、对准曝光、显影和检验，其中，对准曝光是非常重要的环节，利用光刻机发出的光通过图形化的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后发生性质变化，从而使光罩上的图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子路线图的作用。
3.光刻机在生产的过程中，正常情况下光罩是放在设备内光罩平台上进行光罩的交换、取出和放入的，但是在生产过程中或设备维护时，机器可能出现故障的情况，而存放在光罩平台中的光罩就无法通过正常的流程被机台取出，此时需要人工取放，人工取出光罩会出现光罩脱落或损伤，并且容易与外界接触粘染微粒，导致光罩报废。而且光罩平台区域操作空间狭小，人工取放时需要把手臂等部位伸入设备内部，亦存在机械伤人的安全风险。
4.因此，如何提供一种光罩吸取器以在设备故障时提高光罩取放效率、降低光罩损坏风险、降低工程师对设备操作安全风险，成为本领域技术人员亟待解决的问题。


技术实现要素：

5.鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种光罩吸取器，用于解决现有技术中当设备发生故障无法通过正常流程取出光罩时，人工取放导致光罩取放效率低、光罩损坏风险大、存在机械伤人的安全隐患等问题。
6.为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种光罩吸取器，所述光罩吸取器包括：
7.真空吸附平台，包括平台本体，所述平台本体包括相对设置的第一表面与第二表面，所述第一表面设置有真空管口及空气阀，所述第二表面设置有至少一吸附槽，所述平台本体内部设置有通气管道，所述通气管道连通所述真空管口、所述空气阀及所述吸附槽；
8.真空管，一端与所述真空管口连接，所述真空管连接有真空阀；
9.操作杆，与所述真空吸附平台具有所述真空管口的一侧连接。
10.可选地，所述第二表面设置有多个所述吸附槽，多个所述吸附槽呈阵列分布，所述吸附槽的槽底开设有至少一真空孔，所述真空孔与所述通气管道连通。
11.可选地，所述吸附槽的槽底开设有多个所述真空孔，所述通气管道从所述真空管口到多个所述真空孔的距离相等。
12.可选地，所述吸附槽的槽底开设有多个所述真空孔，所述通气管道从所述空气阀到多个所述真空孔的距离相等。
13.可选地，所述第一表面还设有真空表头，所述真空表头与所述通气管道连通。
14.可选地，所述第二表面设置有多个所述吸附槽，多个所述吸附槽共用一个所述真
空管口。
15.可选地，所述真空管与所述真空管口采用插拔式连接。
16.可选地，所述吸附槽的用于接触光罩的吸附面设有软性层。
17.可选地，所述操作杆包括金属杆，所述操作杆表面设置有防滑结构。
18.可选地，所述操作杆与所述真空吸附平台之间通过塑料软管连接。
19.如上所述，本实用新型的光罩吸取器通过在真空吸附平台具有真空管口的一侧连接操作杆，在设备发生故障无法正常流程取出光罩时，持操作杆把真空吸附平台伸入到设备光罩平台区域，操控真空阀与空气阀把光罩从设备中吸取、放置到光罩室光罩盒中，提高取放光罩的效率，并且避免用手直接接触光罩，降低光罩损坏风险，同时，降低工程师对设备操作时的安全风险。
附图说明
20.图1显示为本实用新型的光罩吸取器的立体结构俯视图。
21.图2显示为本实用新型的光罩吸取器的立体结构仰视图。
22.图3显示为本实用新型的光罩吸取器内部的真空线路的局部结构示意图。
23.元件标号说明
24.10
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真空吸附平台
25.101
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真空管口
26.102
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空气阀
27.103
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真空表头
28.104
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吸附槽
29.105
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真空孔
30.106
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通气管道
31.20
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操作杆
32.30
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塑料软管
33.l1、l2
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长度
34.w
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宽度
具体实施方式
35.以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
36.请参阅图1至图3。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
37.本实用新型提供一种光罩吸取器，请参阅图1及图2，分别显示为该光罩吸取器的立体结构俯视图与立体结构仰视图，包括真空吸附平台10、真空管(未图示)及操作杆20，其
中，所述真空吸附平台10包括平台本体，所述平台本体包括相对设置的第一表面与第二表面，所述第一表面设置有真空管口101及空气阀102，所述第二表面设置有至少一吸附槽104，所述平台本体内部设有通气管道106(见后续图3)，所述通气管道106连通所述真空管口101、所述空气阀102及所述吸附槽104，所述真空管一端与所述真空管口101连接，所述真空管连接有真空阀，所述操作杆20与所述真空吸附平台10具有所述真空管口101的一侧连接。
38.具体的，在本实施例中，所述真空吸附平台10采用台阶式设计，上台阶与下台阶的横截面均呈矩形，所述下台阶的横截面积大于所述上台阶的横截面积，所述下台阶横截面的的长度l1和宽度w均为135mm，与光罩平台中的卡盘相适配。
39.具体的，在本实施例中，所述吸附槽104的数量为四个，四个所述吸附槽104阵列排布于所述真空吸附平台10的第二表面，用于确保所要吸取的光罩受力点均匀分布。
40.作为示例，所述吸附槽104呈长条状，其长度为42.09mm或其它合适的长度。
41.作为示例，所述吸附槽104用于接触光罩的吸附面设有软性层，用于避免与光罩接触时划伤光罩，所述软性层的材质可包括树脂、橡胶或其它合适软性材质。
42.作为示例，所述吸附槽104的槽底开设有对称分布的真空孔105，所述真空孔105与所述通气管道106连通。
43.具体的，在本实施例中，所述真空管口101采用直径为20mm的圆孔，所述真空管采用插拔的形式与所述真空管口101连通，所述真空管另一端与提供真空的真空源连接，一个所述真空管提供所述真空吸附平台10第二表面的四个所述吸附槽104的真空。
44.作为示例，所述真空管连接有所述真空阀，所述真空阀用于控制所述真空源与所述真空吸附平台10内部的所述通气管道106的连通与中断，并且可调节所述吸附槽104的真空负压。
45.作为示例，所述通气管道106从所述真空管口101到多个所述真空孔105的距离相等，用于使得产生真空负压时多个所述真空孔105的负压同步，避免在取放光罩的过程中受力不均匀导致光罩掉落损坏光罩。
46.作为示例，所述通气管道106从所述空气阀102到多个所述真空孔105的距离相等，用于使得在取放光罩时多个所述真空孔105的负压同步释放。
47.作为示例，所述真空吸附平台10的第一表面设有真空表头103，所述真空表头103与所述通气管道106连通，所述真空表头103用于显示所述通气管道106的真空度。
48.具体的，在本实施例中，所述真空表头103采用半径为10mm的圆柱状表头。
49.具体的，本实施例中，所述操作杆采用直径为35mm，长度l2为500mm的圆柱状金属杆，因光罩平台区域操作空间狭小，设备故障光罩不能通过正常流程取出时，工程师手持所述操作杆20把所述真空吸附平台10伸入光罩平台区域吸取光罩。
50.作为示例，所述操作杆20的表面设置有防滑结构，所述防滑结构包括防滑条纹、防滑凹槽、防滑凸点或其它合适的防滑设计。
51.作为示例，所述操作杆20与所述真空吸附平台10通过塑料软管30连接，所述塑料软管30的韧性可以调整所述光罩吸取器在作业时所述操作杆20与所述真空吸附平台10的角度，保证所述真空吸附平台10的水平度，便于取放光罩。
52.作为示例，本实用新型的光罩吸取器的使用方法包括如下流程，
53.第一，使用光罩吸取器前检查真空阀、空气阀是否关闭，并打开真空阀观察表头是否显示打开真空；
54.第二，关闭真空阀与空气阀，持操作杆将真空吸附平台伸入到光罩平台中卡盘上方，对准卡盘缓缓下降并与卡盘口贴合；
55.第三，确认无误后打开真空阀，待取光罩将被吸附槽所吸附；
56.第四，将光罩吸取器取出，并拿到光罩室中；
57.第五，关闭真空阀并打开空气阀，取下光罩放入光罩盒中。
58.综上所述，本实用新型的光罩吸取器包括真空吸附平台、真空管及操作杆，其中，所述真空吸附平台包括平台本体，所述平台本体包括相对设置的第一表面与第二表面，所述第二表面设置有真空管口及空气阀，所述第二表面设置有至少一吸附槽，所述平台本体内部设有通气管道，所述通气管道连通所述真空管口、所述空气阀及所述吸附槽，所述真空管一端与所述真空管口连接，所述真空管连接有真空阀，所述操作杆与所述吸附平台具有所述真空管口的一侧连接。当设备故障无法通过正常流程取出光罩时，通过操作杆把真空吸附平台伸入到设备光罩平台区域，操控真空阀与空气阀把光罩从设备中吸取、放置到光罩室光罩盒中，提高取光罩的效率，并且避免用手直接接触光罩，降低光罩损坏风险，同时，降低工程师对设备操作时的安全风险。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
59.上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。