一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置的制作方法

1.本技术涉及磁畴观察领域，尤其涉及一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置。


背景技术：

2.磁畴是一个铁性物体中微小的磁性区域。目前，观察磁畴的方式包括粉纹法、克尔显微镜观察法、电子显微镜和原子力显微镜等方法。除粉纹法外，其他方式都需要制备样品，对材料进行切割、磨样和抛光，做成磁畴观察所需要的样品，但加工会破坏材料的固有磁畴结构。另一方面，除粉纹法外，其他方法观察的范围通常在微米级以下。再者，目前硅钢片产品有绝缘膜和刻痕，去掉绝缘膜和刻痕会使其固有磁畴会发生变化，不能真实反映固有磁畴状态。
3.传统的粉纹法通过将胶体中的铁磁性颗粒放在待测材料表面，然后用光学显微镜观察到磁性粒子不均匀分布，描绘出磁畴的形状，可以直接观察磁畴，不用破坏材料的原始状态。但显微镜观察范围有限，需要观察硅钢片其他位置时，移动硅钢片会导致磁性粒子分布发生变化，使得观察到的磁畴不准确。


技术实现要素：

4.本技术提供了一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置，以解决现有技术的粉纹法中移动硅钢片会使磁性粒子分布发生变化的技术问题。
5.本技术实施例提供一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置，包括：
6.显微镜，所述显微镜包括物镜和载物台，所述物镜设于所述载物台上方；
7.测试台，所述测试台设于所述物镜与所述载物台之间，所述测试台包括载物板、中间部件和底板，所述中间部件包括第一滑轨和第二滑轨，所述第一滑轨设于所述第二滑轨的顶部，所述第一滑轨与所述第二滑轨不平行，所述载物板沿所述第一滑轨滑动设置，所述底板沿所述第二滑轨滑动设置。
8.可选的，所述第一滑轨包括两根平行设置的顶梁，所述第二滑轨包括两根平行设置的底梁，所述顶梁垂直地设于所述底梁的顶部。
9.可选的，所述测试台还包括调节机构，所述调节机构包括横向调节组件和纵向调节组件，所述横向调节组件和纵向调节组件均设于所述顶梁，所述横向调节组件与所述载物板连接，用以调节所述载物板与所述第一滑轨的相对位置，所述纵向调节组件与所述底板连接，用以调节底板与所述第二滑轨的相对位置。
10.可选的，所述横向调节组件包括横向调节旋钮和横向调节齿轮，所述横向调节旋钮和所述横向调节齿轮同轴连接，所述横向调节旋钮设于所述顶梁的顶部，所述载物板的侧面设有与所述横向调节齿轮啮合的横向调节齿条。
11.可选的，所述纵向调节组件包括纵向调节旋钮和纵向调节齿轮，所述纵向调节旋钮和所述纵向调节齿轮同轴连接，所述纵向调节旋钮设于所述顶梁的顶部，所述载物板的侧面设有与所述纵向调节齿轮啮合的纵向调节齿条。
12.可选的，还包括振动部件，所述振动部件与所述硅钢片可拆卸连接。
13.可选的，所述载物板和所述底板的中部沿竖直方向分别开设有第一通孔和第二通孔。
14.可选的，还包括磁场发生部件，所述磁场发生部件与所述硅钢片可拆卸连接。
15.可选的，还包括固定部件，所述固定部件设于所述载物板的顶面，用以固定所述硅钢片。
16.可选的，还包括外置光源，所述外置光源与所述物镜固定连接。
17.本技术实施例提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点：
18.本技术实施例通过在所述物镜与所述载物台之间设置所述测试台，包括载物板、中间部件和底板，所述中间部件包括第一滑轨和第二滑轨，所述第一滑轨设于所述第二滑轨的顶部，所述第一滑轨与所述第二滑轨不平行，所述载物板沿所述第一滑轨滑动设置，所述底板滑动沿所述第二滑轨滑动设置，使得载物板可以沿第一滑轨滑动，中间部件可以在底板的顶面沿第二滑轨进行滑动，在调整硅钢片的位置时，无需触碰并移动硅钢片，而是移动载物板以及中间部件来调整硅钢片在物镜下的位置，使得调整硅钢片位置时硅钢片的磁性粒子分布不会发生变化。
附图说明
19.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本实用新型的实施例，并与说明书一起用于解释本实用新型的原理。
20.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
21.图1为本技术实施例提供的一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置的结构示意图；
22.图2为本技术实施例提供的测试台的结构示意图；
23.图3为本技术实施例提供的测试台的爆炸结构示意图；
24.图4为本技术实施例提供的调节机构的结构示意图；
25.图5为本技术实施例1提供的观察方法的示意图；
26.图6-1、图6-2为本技术实施例1观察到的磁畴形态图；
27.图7为本技术实施例2提供的观察方法的示意图；
28.图8-1、图8-2、图8-3、图8-4为本技术实施例2观察到的磁畴形态图；
29.图9为本技术实施例3提供的观察方法的示意图；
30.图10-1、图10-2、图10-3为本技术实施例3观察到的磁畴形态图；
31.图11为本技术实施例4提供的观察方法的示意图；
32.图12-1、图12-2、图12-3、图12-4、图12-5、图12-6为本技术实施例4观察到的磁畴结构图；
33.图13为本技术实施例5提供的观察方法的示意图；
34.图14-1、图14-2、图14-3、图14-4、图14-5、图14-6、图14-7、图14-8为本技术实施例5观察到的磁畴形态图；
35.图15为本技术实施例6提供的观察方法的示意图；
36.图16-1、图16-2、图16-3、图16-4为本技术实施例6观察到的磁畴图案。
37.附图标记：
38.1-显微镜，11-物镜，12-载物台；
39.2-测试台，21-载物板，211-横向调节齿条，212-第一通孔，22-中间部件，221-第一滑轨， 2211-顶梁，222-第二滑轨，2221-底梁，23-底板，231-纵向调节齿条，232-第二通孔，24-调节机构，241-横向调节组件，2411-横向调节旋钮，2412-横向调节齿轮，242-纵向调节组件，2421
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纵向调节旋钮，2422-纵向调节齿轮；
40.3-振动部件，4-磁场发生部件，5-固定部件，6-外置光源，7-硅钢片。
具体实施方式
41.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
42.如图1-图4所示，一种用于无损观察硅钢片磁畴的装置，包括：
43.显微镜1，所述显微镜1包括物镜11和载物台12，所述物镜11设于所述载物台12上方；
44.测试台2，所述测试台2设于所述物镜11与所述载物台12之间，包括载物板21、中间部件22和底板23，所述中间部件22包括第一滑轨221和第二滑轨222，所述第一滑轨221设于所述第二滑轨222 的顶部，所述第一滑轨221与所述第二滑轨222不平行，所述载物板21沿所述第一滑轨221滑动设置，所述底板23沿所述第二滑轨222滑动设置，在本技术实施例中，底板23与载物台12固定连接。
45.通过将载物板21沿第一滑轨221滑动，将中间部件22底板23的顶面沿第二滑轨222进行滑动，在调整硅钢片7的位置时，无需触碰并移动硅钢片7，而是移动载物板21以及中间部件22来调整硅钢片7在物镜11下的位置，使得调整硅钢片7位置时硅钢片7的磁性粒子分布不会发生变化。
46.作为本技术的一种实施方式，所述第一滑轨221包括两根水平且平行设置的顶梁2211，所述第二滑轨222包括两根水平且平行设置的底梁2221，所述顶梁2211垂直地设于所述底梁2221的顶部，使得硅钢片7的调节方向为横向和纵向，如此设置，使得硅钢片7位置的调节效率最高。
47.作为本技术的一种实施方式，所述测试台2还包括调节机构24，所述调节机构24包括：
48.横向调节组件241，用以调节所述载物板21与所述第一滑轨221的相对位置，包括横向调节旋钮2411和横向调节齿轮2412，所述横向调节旋钮2411和所述横向调节齿轮2412同轴连接，所述横向调节旋钮2411设于所述顶梁2211的顶部，所述载物板21的侧面设有与所述横向调节齿轮2412啮合的横向调节齿条211。
49.纵向调节组件242，用以调节底板23与所述第二滑轨222的相对位置，包括纵向调节旋钮2421 和纵向调节齿轮2422，所述纵向调节旋钮2421和所述纵向调节齿轮2422同轴连接，所述纵向调节旋钮2421设于所述顶梁2211的顶部，所述载物板21的侧面设有与所述
纵向调节齿轮2422啮合的纵向调节齿条231。
50.在本技术实施例中，顶梁2211的内部开设有用于容纳横向调节齿轮2412和纵向调节齿轮2422 的槽，横向调节旋钮2411和纵向调节旋钮2421的顶部穿过所述顶梁2211的顶部设置，并与所述顶梁2211转动连接。通过拧动横向调节旋钮2411，横向调节旋钮2411带动横向调节齿轮2412转动，由于横向调节齿条211与横向调节齿轮2412啮合，横向调节齿轮2412转动即会带动载物板21沿第一滑轨221移动；拧动纵向调节旋钮2421，纵向调节旋钮2421带动纵向调节齿轮2422转动，由于纵向调节齿条231与纵向调节齿轮2422啮合，且底板23与载物台12固定连接，纵向调节齿轮2422 转动即会带动中间部件22在底板23上沿第二滑轨222移动。
51.作为本技术的一种实施方式，还包括振动部件3，所述振动部件3与所述硅钢片7可拆卸连接，用于加速磁性液体在硅钢片7上的散布，可以更快更清晰地观察到磁畴，在本技术实施例中，振动部件3为压电陶瓷片振子或其他任意能够带动硅钢片7振动的装置。
52.作为本技术的一种实施方式，所述载物板21和所述底板23的中部沿竖直方向分别开设有第一通孔212和第二通孔232，使得硅钢片7放置在载物板21上时，硅钢片7的中部悬空，可经由第二通孔232、中间部件22和第一通孔212接触到硅钢片7的底面，使得振动部件3可以固定在硅钢片7底部。
53.作为本技术的一种实施方式，还包括磁场发生部件4，所述磁场发生部件4与所述硅钢片7可拆卸连接，设置磁场发生部件4，可以对硅钢片7施加立体磁场，观察到更多的磁畴形态，在本技术实施例中，磁场发生部件4可以是永磁体，也可以是电磁铁，以及其他任意能发生磁场的物体。
54.作为本技术的一种实施方式，还包括固定部件5，所述固定部件5设于所述载物板21的顶面，用以固定所述硅钢片7，在本实施例中，固定部件5为一对夹片，夹片的一端与载物板21固定连接，另一端与载物板21可拆卸连接，分别用以固定硅钢片7的两端。
55.作为本技术的一种实施方式，还包括外置光源6，所述外置光源6与所述物镜11固定连接，能够提供更加明亮的观察环境，使观察到的磁畴更加清晰。
56.通过将载物板21沿第一滑轨221滑动，将中间部件22底板23的顶面沿第二滑轨222进行滑动，在调整硅钢片7的位置时，无需触碰并移动硅钢片7，而是移动载物板21以及中间部件22来调整硅钢片7在物镜11下的位置，使得调整硅钢片7位置时硅钢片7的磁性粒子分布不会发生变化，同时保证测试观察平面可以前后、左右移动，获得更大的观察范围。
57.实施例1
58.如图5所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
59.(1)将待测硅钢片放在测试台上，选择要观察磁畴的观察区，将硅钢片的所述观察区域移至载物板中部的第一通孔上方，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件的振动头依次穿过第二通孔和第一通孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
60.(2)打开显微镜，打开外置光源；
61.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行
拍照；
62.(4)再将两块磁铁极性相同地、对称地放在硅钢片顶面观察区的左右两边上，在观察区产生一个垂直硅钢片表面的磁场，提升磁畴的清晰度，同时调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片在(3)步骤观察到的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照。本实施例的垂直磁场强度为0.56mt，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度。
63.本实施例观察到的硅钢片的固有磁畴形态如图6-1、图6-2，其中，图6-1是没有加磁场时观察到的硅钢片固有磁畴，图6-2是对硅钢片加0.56mt的垂直磁场后观察到的固有磁畴。对比没有加磁场的硅钢片固有磁畴图6-1和加0.56mt的垂直磁场后硅钢片固有磁畴的图6-2，可以清楚的看到，加了垂直磁场后，硅钢片的固有磁畴结构显示得非常清晰细腻。在激光刻痕附近能看到明显的三角畴，三角畴数量较少且面积占比较小，远离刻痕的中间区域则显示着较为平行的180
°
畴表明中间区域的结构均匀性能良好。
64.实施例2
65.如图7所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
66.(1)将待测硅钢片放在测试台上，选择要观察磁畴的观察区，将硅钢片的所述观察区域移至载物板中部的第一通孔上方，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件的振动头依次穿过第二通孔和第一通孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
67.(2)打开显微镜，打开外置光源；
68.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
69.(4)通过测试台反面挖空的空洞，将两块磁铁极性相同的磁铁，对称地放在硅钢片观察区的左右两边，在观察区产生一个垂直硅钢片表面的磁场，同时调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度。
70.对于四种不同浓度的磁性液体：0.0167mol/l、0.0083mol/l、0.0041mol/l和0.0033mol/l。能够清晰观察到磁畴的垂直磁场强度分别为0.30mt、0.42mt、0.53mt、0.60mt。
71.本实施例通过两块磁极相同的磁铁产生磁场,观察不同浓度的磁性液体得到的磁畴。
72.使用四种不同浓度的磁性液体观察到硅钢片的固有磁畴如图8-1、图8-2、图8-3、图8-4所示。其中，图8-1磁性液体浓度为0.0167mol/l，图8-2磁性液体浓度为0.0083mol/l，图8-3磁性液体浓度为0.0041mol/l，图8-4磁性液体浓度为0.0033mol/l。
73.可以看出0.0083mol/l的铁氧体浓度观察效果最佳，磁畴显示的线条清晰且不粗大。在过小的浓度0.0033mol/l的磁性液体的显示图中，粒子较少不能清晰显示出大量细
节。而0.0167mol/l 的磁性液体显示得很清晰，但是磁畴线条较为粗大，可能掩盖了部分真实细节，导致磁畴宽度的计算误差等。
74.实施例3
75.如图9所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
76.(1)将待测硅钢片放在测试台上，选择要观察磁畴的观察区，将硅钢片的所述观察区域移至载物板中部的第一通孔上方，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件的振动头依次穿过第二通孔和第一通孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
77.(2)打开显微镜，打开外置光源；
78.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
79.(4)通过测试台反面挖空的空洞，将两块磁铁极性相同的磁铁，对称地放在硅钢片观察区的左右两边，在观察区产生一个垂直硅钢片表面的磁场，同时调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度。
80.对于用不同搅拌速度得到的三种磁性液体，能够清晰观察到磁畴的垂直磁场强度分别为 0.40mt、0.45mt、0.47mt。
81.本实施例通过调节制备磁性液体时的搅拌转速，调节磁性液体中颗粒的弥散程度，从而观察磁性液体中颗粒的弥散程度对磁畴的影响。
82.使用不同搅拌速度得到的三种磁性液体观察到硅钢片的固有磁畴如图10-1、图10-2、图10-3 所示，其中图10-1制备磁性液体时的搅拌速度为600转/分钟，图10-2制备磁性液体时的搅拌速度为600转/分钟，图10-3制备磁性液体时的搅拌速度为600转/分钟。
83.可以看出搅拌速度在1000以上，磁畴观察效果都可以，磁畴显示的线条清晰。在搅拌速度为 600的磁性液体的磁畴显示图中，磁畴图案显得粗糙，不能清晰显示出大量细节。
84.实施例4
85.本实施例的磁场发生部件由左右两组线圈组成，两组线圈串联连接，两组线圈用两面胶固定，使其间隔4cm距离，该间隔区域形成磁畴观察区。
86.如图11所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
87.(1)将待测硅钢片穿过所述线圈放置，选择要观察磁畴的观察区放在线圈间隔区域，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件穿过测试台下平面挖空的圆孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
88.(2)打开显微镜，打开外置光源；
89.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加实施例1制备的磁性液体2ml；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
90.(4)清除硅钢片上的磁性液体，再滴加实施例1制备的磁性液体2ml；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；
91.(5)调节发生磁场线圈的电源，使其产生一个平行于硅钢片轧向的磁场，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
92.(6)重复步骤(4)直到磁场强度达到计划观察磁畴要加的最大磁场，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度。
93.本实施例通过改变磁场强度，观察磁畴随着磁场强度的变化而改变的图案。
94.图12-1、图12-2、图12-3、图12-4、图12-5、图12-6表示了加不同磁场强度的平行于硅钢片轧向的磁场后，硅钢片的磁畴结构，图12-1磁场为0.89mt，图12-2为1.09mt，图12-3为1.25mt，图12-4为1.38mt，图12-5为1.41mt，图12-6为1.62mt。可以看出，磁场强度增大，取向硅钢中原有的180
°
条状畴逐渐瓦解消失，出现了片状磁畴，随着磁场的进一步增加，片状畴的磁畴壁也不断的减小，变成了点状的磁畴壁，这些是不同磁场大小作用下磁畴的变化过程。
95.实施例5
96.如图13所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
97.(1)将待测硅钢片放在测试台上，选择要观察磁畴的观察区，将硅钢片的所述观察区域移至载物板中部的第一通孔上方，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件的振动头依次穿过第二通孔和第一通孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
98.(2)打开显微镜，打开外置光源；
99.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节亮度、色度以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
100.(4)再将两块磁铁极性相同、对称地放在硅钢片观察区的左右两边上，在观察区产生一个垂直硅钢片表面的磁场，同时调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片在(3)步骤观察到的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照。本实施例的垂直磁场强度为0.34mt，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度；
101.(5)去掉所述极性相同、对称地放在硅钢片观察区的左右两边上的两块磁铁，清理观察区的磁性液体，将两块磁铁极性相反、和轧向成20度角度地放在硅钢片观察区的左右两边；
102.(6)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案。调节显微镜和外置光源亮度和色度，以及硅钢片位置，聚焦，观察硅钢片的磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照，计算等处理；
103.(7)除去硅钢片上的磁性液体，重复步骤(6)，再增大磁场，再次微调节亮度、色度、硅钢片位置和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片磁畴，对观察到的磁畴进行拍照。
104.本实施例通过改变磁场角度，观察外加和轧向成角度的动态磁场时磁畴的图案。
105.本实施例观察到的磁畴图案如图14-1、图14-2、图14-3、图14-4、图14-5、图14-6、图 14-7、图14-8所示。图14-1加0.34mt的垂直磁场，图14-2加0.05mt、和轧向成20度的磁场，图14-3 加0.09mt、和轧向成20度的磁场，图14-4加0.13mt、和轧向成20度的磁场，14-5图加0.18mt、和轧向成20度的磁场，图14-6加0.25mt、和轧向成20度的磁场，图14-7加1.05mt、和轧向成20度的磁场，图14-8加2.63mt、和轧向成20度的磁场。可以看出，磁场强度变大，取向硅钢中原有的180
ꢀ°
条状畴逐渐瓦解消失，出现了片状磁畴，随着磁场的进一步增加，片状磁畴扩大，畴壁变成条状，再增加磁场，磁畴壁变成了点状，最后磁矩基本朝一个方向。这些变化，和加平行轧向磁场的实施例4变化相似。
106.实施例6
107.如图15所示，本实施例通过以下方法观察磁畴：
108.(1)将待测硅钢片放在测试台上，选择要观察磁畴的观察区，将硅钢片的所述观察区域移至载物板中部的第一通孔上方，用固定部件固定所述硅钢片，将所述振动部件的振动头依次穿过第二通孔和第一通孔贴在硅钢片的下表面，也即，硅钢片与测试台接触的那一面；
109.(2)打开显微镜，打开外置光源；
110.(3)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案，调节硅钢片位置、亮度和色度，聚焦，观察硅钢片的固有磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照；
111.(4)再将磁铁放在硅钢片反面的观察区中心，在观察区产生一个垂直硅钢片表面的磁场，同时调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片在(3) 步骤观察到的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照。本实施例的垂直磁场强度为0.70mt，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度；
112.(5)拿掉放在硅钢片反面的磁铁，清理观察区的磁性液体，再将两块磁铁极性相反、和轧向平形的磁铁放在硅钢片观察区的左右两边；
113.(6)在所述硅钢片的所述观察区域滴加1～2ml磁性液体；开启振动部件，待磁性液体弥散均匀摊开后关闭所述振动部件；静置至磁性粒子在所述硅钢片表面形成磁畴图案。调节硅钢片位置、显微镜和外置光源亮度和色度，聚焦，观察硅钢片的磁畴结构，对观察到的磁畴进行拍照，计算等处理；
114.(7)拿掉放在硅钢片观察区的左右两边的两块磁铁，静置2小时，微调节亮度、色度、硅钢片位置和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片磁畴，对观察到的磁畴进行拍照，然后清理观察区的磁性液体；
115.(8)再将一块磁铁放在硅钢片反面的观察区，调节硅钢片位置、磁场强度、微调节亮度、色度和聚焦，直到够清晰的观察硅钢片在(3)步骤观察到的所述固有磁畴，对观察到的磁畴进行拍照。本实施例的垂直磁场强度为0.70mt，在本实施例中，通过施加不同数量的磁铁调节磁场强度，可以理解的是，也可以通过更换磁力不同的磁铁来调节磁场强度。
116.本实施例通过施加变化的磁场，观察磁畴图像与磁场变化的同步性。
117.本实施例观察到的磁畴图案如图16-1、图16-2、图16-3、图16-4所示。图16-1为加0.70mt的垂直磁场时的磁畴图案，图16-2为加1.41mt、和轧向平形的磁场的磁畴图案，图16-3为去掉平行场2小时的磁畴图案，图16-4为去掉平行场后，清理干净加平行场时滴加的磁性液体，再重复所述观察方法步骤(6)，后加0.70mt的垂直磁场得到的磁畴图案。可以看出，当磁场发生变化时，虽然磁畴发生了变化，但是磁性液体由于滞后性，难以马上反应磁场变化后的磁畴，会产生失真磁畴图案，而重新滴加磁性液体，并且开启振动，使得磁性液体快速响应仅加0.7mt垂直磁场的磁畴。
118.需要说明的是，在本文中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
119.以上所述仅是本实用新型的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所申请的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。