一种用于光刻机的防震装置的制作方法

1.本实用新型涉及防震装置技术领域，具体为一种用于光刻机的防震装置。


背景技术：

2.光刻机可以称为掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等。常用的光刻机是掩模对准光刻。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。由于光刻加工的精度要求较高，光刻机在工作时内部会产生振动，当内部振动传递至工件主体时，势必会造成对加工精度的影响，光刻机一般被放置在平台上，不具有减震、防震的效果。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的在于提供一种用于光刻机的防震装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：
5.一种用于光刻机的防震装置，包括承载板以及立柱，所述立柱对称设于所述承载板下方，所述立柱顶面中心处开设有插接槽，所述承载板底面上固定连接有可插接于所述插接槽内的插接柱，所述立柱内部开设有u型槽，所述u型槽设置有第一开口以及第二开口，所述第一开口与所述插接槽底部相连通，所述第二开口与所述立柱顶面相连通，所述第一开口处滑动式连接有第一封堵杆，所述第一封堵杆与所述插接柱底端抵压接触且底端位于所述u型槽内，所述第二开口处滑动式连接有第二封堵杆，所述第二封堵杆顶端固定连接有第一弹簧且底端位于所述u型槽内，所述第一弹簧顶端与所述承载板底面抵压接触。
6.实现上述技术方案，第一封堵杆与第二封堵杆分别将第一开口以及第二开口进行封堵，使u型槽成为一个密封空间，内部气体容量保持定量，当光刻机放置在承载板上，承载板受压后插接杆下移推动第一封堵杆下移，由于u型槽内气压的原因，第二封堵杆会随着上移，挤压第一弹簧与承载板抵压接触，从而实现一个动态的固定，当光刻机产生振动时，通过第一弹簧吸收振动力，保证了光刻机的稳定工作。
7.作为本实用新型的一种优选方案，所述u型槽相对所述立柱竖直轴线堆成设置有两组。
8.实现上述技术方案，提高对承载板的稳定效果。
9.作为本实用新型的一种优选方案，所述承载板顶面对称开设有滑动槽，所述滑动槽内滑动式装配有定位块，所述定位块上浇筑形成有螺纹孔。
10.作为本实用新型的一种优选方案，所述承载板内开设有连通槽，所述连通槽两端分别与两侧所述滑动槽连通，所述连通槽内设置有第二弹簧，所述第二弹簧两端分别与两侧所述定位块固定连接。
11.实现上述技术方案，方便移动定位块讲光刻机定位在居中位置进行固定，同时第二弹簧也会帮助吸收光刻机产生的振动力。
12.作为本实用新型的一种优选方案，所述第一封堵杆与所述第二封堵杆底端固定连接有密封块。
13.实现上述技术方案，保证u型槽处于密封状态。
14.作为本实用新型的一种优选方案，所述承载板与所述立柱通过模具浇筑而成。
15.实现上述技术方案，提高承载板与立柱的结构强度。
16.综上所述，本实用新型具有如下有益效果：第一封堵杆与第二封堵杆分别将第一开口以及第二开口进行封堵，使u型槽成为一个密封空间，内部气体容量保持定量，当光刻机放置在承载板上，承载板受压后插接杆下移推动第一封堵杆下移，由于u型槽内气压的原因，第二封堵杆会随着上移，挤压第一弹簧与承载板抵压接触，从而实现一个动态的固定，当光刻机产生振动时，通过第一弹簧吸收振动力，保证了光刻机的稳定工作。
附图说明
17.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
18.图1是本实用新型整体的结构示意图；
19.图中：1承载板；2立柱；3插接槽；4插接柱；5u型槽；6第一开口；7第二开口；8第一封堵杆；9第二封堵杆；10第一弹簧；11滑动槽；12定位块；13螺纹孔；14连通槽；15第二弹簧；16密封块。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
21.实施例
22.请参阅图1，本实用新型提供一种用于光刻机的防震装置，包括承载板1以及立柱2，立柱2对称设于承载板1下方，立柱2顶面中心处开设有插接槽3，承载板1底面上固定连接有可插接于插接槽3内的插接柱4，立柱2内部开设有u型槽5，u型槽5设置有第一开口6以及第二开口7，第一开口6与插接槽3底部相连通，第二开口7与立柱2顶面相连通，第一开口6处滑动式连接有第一封堵杆8，第一封堵杆8与插接柱4底端抵压接触且底端位于u型槽5内，第二开口7处滑动式连接有第二封堵杆9，第二封堵杆9顶端固定连接有第一弹簧10且底端位于u型槽5内，第一弹簧10顶端与承载板1底面抵压接触。
23.u型槽5相对立柱2竖直轴线堆成设置有两组，提高对承载板1的稳定效果。
24.承载板1顶面对称开设有滑动槽11，滑动槽11内滑动式装配有定位块12，定位块12上浇筑形成有螺纹孔13，承载板1内开设有连通槽14，连通槽14两端分别与两侧滑动槽11连通，连通槽14内设置有第二弹簧15，第二弹簧15两端分别与两侧定位块12固定连接，方便移动定位块12讲光刻机定位在居中位置进行固定，同时第二弹簧15也会帮助吸收光刻机产生的振动力。
25.第一封堵杆8与第二封堵杆9底端固定连接有密封块16，保证u型槽5处于密封状
态。
26.承载板1与立柱2通过模具浇筑而成，提高承载板1与立柱2的结构强度。
27.在本实用新型实施例中，第一封堵杆8与第二封堵杆9分别将第一开口6以及第二开口7进行封堵，使u型槽5成为一个密封空间，内部气体容量保持定量，当光刻机放置在承载板1上，承载板1受压后插接杆下移推动第一封堵杆8下移，由于u型槽5内气压的原因，第二封堵杆9会随着上移，挤压第一弹簧10与承载板1抵压接触，从而实现一个动态的固定，当光刻机产生振动时，通过第一弹簧10吸收振动力，保证了光刻机的稳定工作。
28.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
29.最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。