废液回收系统及方法与流程

本公开涉及到了半导体制造，特别涉及到一种废液回收系统及方法。

背景技术：

1、光刻是半导体制造中重要的一步工序，显影液是光刻工序中使用的主要化学溶液，显影液的主要成分为四甲基氢氧化氨(tmah)。光刻工序中，tmah与光刻胶内感光剂在单片显影机台内发生反应，产生反应化合物和水。

2、单片显影机台中的每一片晶元(wafer)均使用全新显影液，使用过一次的显影液随即排入废液回收系统，所以显影效果稳定。但这种光刻方式存在显影液耗量大问题。

技术实现思路

1、本公开实施例提供了一种废液回收系统及方法，能够回收废液中未反应的显影液，从而减少显影液的消耗量，节省成本。所述技术方案如下：

2、本公开实施例提供了一种废液回收系统，所述废液回收系统包括：废液回收装置、废液过滤装置和浓度调节装置；

3、所述废液回收装置，用于收集显影机台排出的废液；

4、所述废液过滤装置，用于对所述废液回收装置收集的废液进行过滤，滤除显影液与光刻胶反应后产生的化学物质，将未发生反应的剩余显影液和水排至所述浓度调节装置；

5、所述浓度调节装置，用于对所述废液过滤装置排出的显影液和水混合而成的溶液的浓度进行监控；当所述溶液的浓度符合条件时，排出所述溶液；当所述溶液的浓度不符合条件时，通过控制所述溶液中水的含量，调节所述溶液的浓度，使所述溶液的浓度符合条件，并在所述溶液的浓度符合条件时，排出所述溶液。

6、其中，废液过滤装置排出的溶液中包括未发生反应的剩余显影液，以及反应产生的水。

7、可选地，所述废液过滤装置包括筒状主体，所述筒状主体的顶部具有开口，所述筒状主体的底部具有出口；

8、所述废液过滤装置还包括第一过滤网和第二过滤网，所述第一过滤网与所述筒状主体的开口连接，所述第二过滤网与所述筒状主体的内壁连接，所述第二过滤网位于所述第一过滤网和所述出口之间；

9、所述第二过滤网的网孔小于所述第一过滤网的网孔。

10、可选地，所述第一过滤网为微米级过滤网，所述第二过滤网为纳米级过滤网。

11、可选地，所述浓度调节装置包括主体结构，所述主体结构中部开设有容纳腔；

12、所述容纳腔的开口为溶液入口，所述主体结构的侧壁具有与所述容纳腔连通的溶液排出口和废水排出口，所述溶液排出口的高度大于所述废水排出口的高度；

13、所述调节装置还包括位于所述容纳腔内的浓度检测单元和位于所述废水排出口的第三过滤网和电磁阀，所述浓度检测单元和所述电磁阀电连接。

14、可选地，所述浓度检测单元为超声波浓度检测单元，所述超声波浓度检测单元位于所述容纳腔的侧壁上，且位于所述溶液排出口周围。

15、可选地，所述调节装置还包括位于所述容纳腔中的旋转搅拌机构。

16、可选地，所述旋转搅拌机构包括电机和旋转结构，所述电机的输出轴插入所述旋转结构的中心孔。

17、可选地，所述旋转结构包括圆柱形本体以及位于所述圆柱形本体的外侧壁上的间隔的多个狭缝。

18、可选地，所述圆柱形本体的外侧壁和所述容纳腔的侧壁的间隙为5～15cm。

19、本公开实施例提供了一种废液回收方法，所述废液回收方法包括：

20、收集显影机台排出的废液；

21、对收集的所述废液进行过滤，滤除显影液与光刻胶反应后产生的化学物质，将未发生反应的剩余显影液和水排出；

22、对排出的显影液和水混合而成的溶液的浓度进行监控；

23、当所述溶液的浓度符合条件时，排出所述溶液；当所述溶液的浓度不符合条件时，通过控制所述溶液中水的含量，调节所述溶液的浓度，使所述溶液的浓度符合条件，并在所述溶液的浓度符合条件时，排出所述溶液。

24、本公开实施例提供的技术方案带来的有益效果包括：

25、在本公开实施例提供的技术方案中，先通过废液回收装置收集显影机台排出的废液；然后通过废液过滤装置对其中反应产生的化学物质进行过滤，过滤得到未反应的显影液和水；由于光刻对显影液的浓度有要求，因此过滤后的显影液和水的溶液需要监控浓度，并且在浓度符合条件时重新提供给光刻的显影机台，而如果溶液的浓度不符合条件，则需要通过控制溶液中水的含量来调节浓度，直至浓度符合条件时重新提供给光刻的显影机台。该方案通过对废液进行过滤和浓度调节，得到适合光刻的显影液，避免了废液中的未反应的显影液的浪费，从而减少显影液的消耗量，节省成本。

技术特征：

1.一种废液回收系统，其特征在于，所述废液回收系统包括：废液回收装置、废液过滤装置和浓度调节装置；

2.根据权利要求1所述的废液回收系统，其特征在于，所述废液过滤装置包括筒状主体，所述筒状主体的顶部具有开口，所述筒状主体的底部具有出口；

3.根据权利要求2所述的废液回收系统，其特征在于，所述第一过滤网为微米级过滤网，所述第二过滤网为纳米级过滤网。

4.根据权利要求1至3任一项所述的废液回收系统，其特征在于，所述浓度调节装置包括主体结构，所述主体结构中部开设有容纳腔；

5.根据权利要求4所述的废液回收系统，其特征在于，所述浓度检测单元为超声波浓度检测单元，所述超声波浓度检测单元位于所述容纳腔的侧壁上，且位于所述溶液排出口周围。

6.根据权利要求4所述的废液回收系统，其特征在于，所述调节装置还包括位于所述容纳腔中的旋转搅拌机构。

7.根据权利要求6所述的废液回收系统，其特征在于，所述旋转搅拌机构包括电机和旋转结构，所述电机的输出轴插入所述旋转结构的中心孔。

8.根据权利要求7所述的废液回收系统，其特征在于，所述旋转结构包括圆柱形本体以及位于所述圆柱形本体的外侧壁上的间隔的多个狭缝。

9.根据权利要求8所述的废液回收系统，其特征在于，所述圆柱形本体的外侧壁和所述容纳腔的侧壁的间隙为5～15cm。

10.一种废液回收方法，其特征在于，所述废液回收方法包括：

技术总结
本公开提供了一种废液回收系统及方法，属于半导体制造技术领域。废液回收系统包括：废液回收装置，用于收集显影机台排出的废液；废液过滤装置，用于对废液回收装置收集的废液进行过滤，滤除显影液与光刻胶反应后产生的化学物质，将未发生反应的剩余显影液和水排至浓度调节装置；浓度调节装置，用于对废液过滤装置排出的显影液和水混合而成的溶液的浓度进行监控；当溶液的浓度符合条件时，排出溶液；当溶液的浓度不符合条件时，通过控制溶液中水的含量，调节溶液的浓度，使溶液的浓度符合条件，并在溶液的浓度符合条件时，排出溶液。

技术研发人员：房伟杰,汤淼,李威,吴兆甑,李俊生,汪洋,冬旻弘
受保护的技术使用者：华灿光电（浙江）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/12