基板处理装置的制作方法

本发明涉及使用处理液对基板进行处理的基板处理装置。

背景技术：

1、一直以来，为了对用于液晶显示装置或有机el(电致发光，electroluminescence)显示装置等的fpd(平板显示器，flat panel display)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行使用处理液的规定的处理，而使用基板处理装置。

2、作为这样的基板处理装置，具有使用显影液进行感光性膜的显影处理的显影装置。例如，显影装置具备使基板保持水平姿势并使其旋转的旋转卡盘、向基板上供给显影液的喷嘴以及以包围被旋转卡盘保持的基板的方式设置的杯。在显影处理时，从喷嘴向由旋转卡盘进行旋转的基板上供给显影液。在显影处理时被供给到基板上的显影液向基板的周围飞散。向基板周围飞散的显影液的大部分被杯接受并回收。

3、杯的上端开口。因此，在显影处理时从基板飞散的显影液的一部分有可能从杯的上端开口向杯的外部飞散并附着于杯及其周边构件。附着于杯及其周边构件的显影液成为在显影装置内产生颗粒的主要原因。

4、为了抑制在显影装置内产生颗粒，日本特开2002-246292号公报中记载的显影装置具备封闭杯的上端开口的盖体。盖体上形成能插入多个显影液供给喷嘴的狭缝。在该显影装置中，在显影处理时，基板在被旋转卡盘保持的状态下，杯的上端开口由盖体封闭。另外，向盖体的狭缝插入多个显影液供给喷嘴，向由旋转卡盘旋转的基板供给显影液。由此，由于从多个显影液供给喷嘴向基板供给显影液是在被盖体和杯封闭的空间内进行的，因此抑制在显影处理时显影液向杯的上方飞散。

5、日本特开2002-246292号公报中记载的显影装置除了上述多个显影液供给喷嘴之外，还含有多个清洗液供给喷嘴。多个显影液供给喷嘴和多个清洗液供给喷嘴以交替排列的方式保持在沿一方向延伸的臂上。通过由移动机构上下移动臂，多个显影液供给喷嘴和多个清洗液供给喷嘴通过狭缝从盖体外部插入到盖体内部。另外，多个显影液供给喷嘴和多个清洗液供给喷嘴通过狭缝从盖体内部被引出到盖体外部。

6、多个显影液供给喷嘴和多个清洗液供给喷嘴分别与多个配管连接。这些配管分别具有柔性以在臂移动的同时变形。因此，例如在显影装置的制作时和维护时，如果多个配管分别向非预期的方向变形，则多个配管的操作性降低。

7、另外，当多个配管的变形自由度高时，在臂移动时存在多个配管相互接触、多个配管相互摩擦的可能性。这样，多个配管的接触和多个配管的摩擦会引起颗粒的产生和多个配管的短寿命化。在这种情况下，显影装置中的处理空间内的清洁度降低，同时显影装置中的多个配管的更换频率增高。

技术实现思路

1、本发明的目的是提供一种基板处理装置，其能提高与喷嘴连接的多个配管的操作性，并减少因多个配管分别以高自由度移动而引起的颗粒的产生和多个配管的短寿命化。

2、(1)根据本发明的一个方面的基板处理装置，具备：基板保持部，保持基板；多个喷嘴，分别向由基板保持部保持的基板供给处理液；多个液体配管，具有柔性，包括分别与多个喷嘴连接的第一部分，并向多个喷嘴供给处理液；支撑体，支撑多个喷嘴并支撑多个液体配管的第一部分；收纳构件，安装于支撑体，容许从多个喷嘴向基板供给处理液并收纳多个喷嘴和多个液体配管的第一部分；以及喷嘴驱动部，通过使支撑体移动或旋转，使多个喷嘴在由基板保持部保持的基板的上方的处理位置与由基板保持部保持的基板的外侧的待机位置之间移动。

3、在该基板处理装置中，由于多个喷嘴和多个液体配管的第一部分收纳于收纳构件，因此能够将多个喷嘴和多个液体配管的第一部分与收纳构件一体地操作。因此，能够提高基板处理装置中的多个喷嘴和多个液体配管的操作性。

4、另外，在多个喷嘴在处理位置与待机位置之间移动的情况下，支撑体移动或旋转。此时，多个喷嘴以及与这些喷嘴连接的多个液体配管的第一部被收纳于收纳构件。由此，由于多个液体配管的第一部分能变形的范围被限制在收纳构件内，因此在多个喷嘴移动时，可抑制多个液体配管的第一部分分别大幅变形。因此，能够减少因多个液体配管分别以高自由度移动而引起的颗粒的产生和多个液体配管的短寿命化。

5、(2)可以是支撑体以直线状地延伸的方式形成，多个喷嘴以沿支撑体延伸的方向排列的方式安装于支撑体，收纳构件以沿支撑体延伸的方式形成。

6、在这种情况下，多个液体配管的第一部分能够与支撑体平行地延伸，并将多个液体配管的第一部分收纳于收纳构件。由此，抑制在收纳构件的内部的多个液体配管出现大的游隙。另外，能够使收纳构件紧凑化。

7、(3)可以是支撑体包括：多个喷嘴固定部，分别固定多个喷嘴；以及第一配管固定部，将多个液体配管的第一部分在被捆扎的状态下进行被固定。

8、在这种情况下，多个液体配管的第一部分通过由多个喷嘴固定部固定的多个喷嘴和支撑体的第一配管固定部来固定在支撑体上。因此，在支撑体移动或旋转时，可抑制多个液体配管的第一部分各自大幅度变形。

9、(4)可以是多个液体配管进一步包括从第一部分延伸的第二部分，基板处理装置进一步具备：筒状捆扎构件，具有柔性，以捆扎多个液体配管的第二部分并覆盖被捆扎的多个液体配管的第二部分的方式形成；以及第二配管固定部，固定被筒状捆扎构件捆扎的多个液体配管的第二部分。

10、在这种情况下，没有固定于支撑体的多个液体配管的第二部分的操作性提高。另外，由于筒状捆扎构件具有柔性，因此支撑体的移动或旋转的自由度不会受到限制。

11、(5)可以是基板处理装置进一步具备：腔室，具有内部空间，在内部空间收纳基板保持部、多个喷嘴、多个液体配管、支撑体、收纳构件和喷嘴驱动部；以及分隔机构，在由基板保持部保持基板的状态下，将腔室的内部空间分隔成包含由基板保持部保持的基板的处理空间和包围处理空间的至少一部分的非处理空间。分隔机构包括：处理杯，以在俯视中包围由基板保持部保持的基板且在侧视中与由基板保持部保持的基板重叠的方式设置，并形成处理空间；以及分隔板，设置在处理杯的上方的位置，且具有以在俯视中与处理位置重叠的方式形成的喷嘴开口。收纳构件在由基板保持部保持基板且多个喷嘴位于处理位置的状态下，容许从喷嘴向基板供给处理液并覆盖喷嘴开口。

12、在这种情况下，在多个喷嘴位于处理位置且向基板供给处理液时，分隔板的喷嘴开口被收纳构件覆盖。因此，可减少处理空间内的气氛从分隔板的喷嘴开口漏出到非处理空间。

13、(6)可以是多个喷嘴包括向由基板保持部保持的基板喷射含有气体和处理液的液滴的混合流体的一个或多个双流体喷嘴。在这种情况下，能进行使用含有气体和液体的混合流体的基板处理。

14、(7)可以是基板处理装置进一步具备向一个或多个双流体喷嘴供给气体的一个或多个气体配管，一个或多个气体配管具有与一个或多个双流体喷嘴连接的第三部分，一个或多个气体配管的第三部分被支撑体支撑并收纳于收纳构件。在这种情况下，向双流体喷嘴供给气体。

15、(8)可以是从多个喷嘴中的至少一部分喷嘴向基板供给的处理液含有有机溶剂。在这种情况下，能进行使用含有有机溶剂的处理液的基板处理。