电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制作方法

文档序号:37429222发布日期:2024-03-25 19:20阅读:6来源:国知局
电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制作方法

本发明涉及一种电子照相感光构件、各自具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。


背景技术:

1、传统的电子照相设备具有产生重影的问题,所述重影产生由在曝光区域和非曝光区域之间充电时的暗衰减的差引起的显影调色剂的浓度差。然而,近年来,由于对更高的图像品质、更高的处理速度和更高的耐环境变化性的不断增长的需求,需要更多地抑制重影。

2、另一方面,电子照相感光构件需要快速提取由电荷产生物质产生的空穴并且在充电和曝光的一个过程期间防止空穴滞留在电子照相感光构件中的高输送性物质。电荷输送层中电荷输送物质的空间配置或最高占据分子轨道(称为homo)被认为通过充当空穴的载流子陷阱而导致空穴在一个过程期间滞留。例如,低能量homo能级的存在可以在能量上捕获空穴,并且远距离的电荷输送物质可以阻碍空穴的载流子路径并促进空穴滞留。因此,需要电荷输送物质的homo的空间扩展和例如能量紊乱等陷阱位点的抑制,并且需要可以抑制空穴的陷阱位点并且不干扰空穴移动的电荷输送层。

3、日本专利申请特开no.2013-178513公开了使用二苯基联苯胺衍生物作为电荷输送物质改善了对可归因于接触构件的耐裂纹性并抑制了重影。日本专利申请特开no.h10-246971公开了使用二苯基联苯胺衍生物作为电荷输送物质改善了图像特性,例如感光度和残余电位。日本专利申请特开no.2010-2696公开了使用三芳基胺衍生物作为电荷输送物质通过有效地扩大轨道扩展和重叠来抑制载流子滞留以抑制重影。

4、由于近年来对更高的图像品质、更高的处理速度和更高的耐环境变化性的需求不断增长,因此需要抑制由于重影现象引起的图像品质劣化并改善各种处理条件下的图像品质。特别地,需要抑制高处理速度时的重影。

5、然而,作为本发明的发明人研究的结果,发现在日本专利申请特开no.2013-178513、日本专利申请特开no.h10-246971和日本专利申请特开no.2010-2696中,使用处理速度为30ppm的评价机(hp color laserjet 4700dn等)来评价电子照相感光构件,并且电子照相感光构件在最近的高速处理中可能不能充分抑制重影。

6、电子照相感光构件需要快速提取由电荷产生物质产生的空穴并在充电和曝光的一个过程期间防止空穴滞留在电子照相感光构件中的高输送性物质。电荷输送层中电荷输送物质的空间配置或最高占据分子轨道(称为homo)被认为通过充当空穴的载流子陷阱而导致空穴在一个过程期间滞留。例如,低能量homo能级的存在可以在能量上捕获空穴,并且远距离的电荷输送物质可以阻碍空穴的载流子路径并促进空穴滞留。因此,需要电荷输送物质的homo的空间扩展和例如能量紊乱等陷阱位点的抑制。homo的空间扩展和电荷输送物质的能量均匀性被认为是必要的。


技术实现思路

1、因此,本发明的目的是提供一种电子照相感光构件,其可以通过使用具有homo的空间扩展和能量均匀性的电荷输送物质来抑制高速处理中的重影。

2、上述目的通过下面描述的本发明来实现。即,根据本发明的电子照相感光构件是如下的电子照相感光构件,其依次包含:支承体、电荷产生层和电荷输送层,其中电荷输送层包含:由下式(a-1)表示的化合物,和选自由下式(a-2)表示的化合物和由下式(a-3)表示的化合物组成的组中的至少一种。

3、

4、根据本发明的另一方面,提供一种处理盒,其包括:电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元,所述处理盒一体地支承电子照相感光构件和所述至少一种单元,并且可拆卸地安装到电子照相设备的主体。

5、此外,根据本发明的另一方面,提供一种电子照相设备,其包括:电子照相感光构件、曝光单元、充电单元、显影单元和转印单元。

6、本发明的其它特征将从参考附图对示例性实施方案的以下描述中变得显而易见。



技术特征:

1.一种电子照相感光构件,其依次包括:

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,

3.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,

4.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,

5.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,

6.根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件,

7.一种处理盒,其特征在于,其包括:

8.一种电子照相设备,其特征在于,其包括:


技术总结
本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件依次包括:支承体、电荷产生层和电荷输送层,其中所述电荷输送层含有:由式(A‑1)表示的化合物,和选自由式(A‑2)表示的化合物和由式(A‑3)表示的化合物组成的组中的至少一种。

技术研发人员:大泽达矢,关户邦彦,岩崎修平,松本直之
受保护的技术使用者:佳能株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/3/24
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