本技术涉及光刻，尤其是指一种分区曝光板。
背景技术：
1、因为光刻胶、晶圆、去胶液均为半导体工艺耗材，其价格不菲，在工艺开发又起着不可或缺的作用，为节约单次工艺成本，常对单片晶圆进行多位置分区域曝光，以降低工艺成本。从而摸索不同的曝光、显影等条件。
2、在光刻技术中，曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜。掩模版是一种表面被铬金属形成的图案所覆盖的石英板，光源通过掩模版透光区域并照射到涂有光刻胶的晶片上，使得光刻胶曝光区域发生变性，经过显影液浸泡后，留下衬底表面无光刻胶区域与光刻胶覆盖衬底区域，经过rie、pvd等工艺处理后，再将光刻胶去除，从而实现将掩膜版上的图形完整复制到晶圆表面。
3、现有技术是用一整片的晶圆片进行试验，这样容易造成晶圆片的浪费；在实际使用过程中，若将掩模版上的图案部分投射的需求，即对晶圆表面的光刻胶进行部分曝光，则可以提高晶圆的利用率。因此可以在掩模版和晶片之间加设遮光挡光板，将不需要进行曝光的部分用挡光板遮住以阻挡光线透过，而将光线限制在需要曝光的部分，通过挡光板来控制光照射区域的面积，从而可以实现部分曝光。
4、常见方式，如使用铝箔纸剪成3/4挡光圆形与1/4透光圆形，用于分区遮挡掩膜版上方光源，实现对晶圆表面光刻胶的4分区曝光，该方法较为简陋，试验中铝箔纸有易翘起、遮光效率不高等缺陷；另外难以实现重复利用以及较难实现固定角度的旋转。切片法：将一整个晶圆切成若干个区域，涂胶后做不同的曝光剂量试验，该办法缺陷主要为涂胶前切片，旋胶后边缘区域有厚边效应，导致掩膜版不能有效接触光刻胶中心区域造成光的衍射与散射，导致锯齿状图形等缺陷；另一种为涂胶后裂片，此办法难以去除切片带来的颗粒物质等。因为曝光时掩膜版与晶圆表面光刻胶直接接触，极易有光刻胶脱落粘附在掩膜版表面，造成在未清洗掩膜版的前提下，无法进行下一片晶圆的光刻；目前对于非整片的晶圆暂不能实现好的去边办法。
技术实现思路
1、为此，本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术中铝箔纸分区曝光光刻胶效率不高的缺陷且铝箔纸难以实现固定角度旋转的问题，进而提供一种分区曝光板，精准实现了光刻胶分区曝光，曝光效率高且操作简单。
2、为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种分区曝光板，包括标志盘，其设有多个透光区域；
3、挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重合的区域设有透光通道。
4、在本实用新型的一个实施例中，所述标志盘直径小于所述挡光板的直径。
5、在本实用新型的一个实施例中，所述标志盘等分设有多个与所述扇形区域一一对应的标志分区，多个所述透光区域均布在所述标志分区上。
6、根在本实用新型的一个实施例中，多个所述透光区域的形状不一致。
7、在本实用新型的一个实施例中，所述挡光板的中心设有限位柱。
8、在本实用新型的一个实施例中，所述标志盘的中心设有通孔，所述通孔套设在所述限位柱上。
9、在本实用新型的一个实施例中，还包括圆环，所述圆环与所述挡光板同轴设置。
10、在本实用新型的一个实施例中，所述圆环设有圆形凹槽，所述挡光板设置在所述圆形凹槽内。
11、在本实用新型的一个实施例中，所述圆环设有刻度，所述刻度的范围为1°～360°。
12、在本实用新型的一个实施例中，所述圆环同轴设有限位环，所述限位环设置在所述圆环相对所述标志盘的一侧，所述限位环沿其轴向延伸。
13、本实用新型的上述技术方案相比现有技术具有以下优点：
14、本实用新型所述的一种分区曝光板，包括标志盘，其设有多个透光区域；挡光板，其与所述标志盘同轴且转动连接，所述挡光板分成多个等分的扇形区域，所述挡光板设有与所述扇形区域等大的扇形缺口；当所述标志盘与所述挡光板相对转动时，多个所述透光区域依次进入所述扇形缺口的范围内，所述标志盘和所述扇形缺口非重合的区域设有透光通道；通过旋转扇形缺口实现对晶圆的分区曝光，限定晶圆和光刻胶的感光区域，提高了晶圆的利用率，标志盘设有透光区域，不同透光区域旋转到扇形缺口的上方，光源通过透光区域将透光区域的图案可在光刻胶上起到标识晶圆以曝光区域的作用，进一步提高分区曝光的精准度，节省了人力资源。
1.一种分区曝光板，其特征在于，包括，
2.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述标志盘直径小于所述挡光板的直径。
3.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述标志盘等分设有多个与所述扇形区域一一对应的标志分区，多个所述透光区域均布在所述标志分区上。
4.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，多个所述透光区域的形状不一致。
5.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述挡光板的中心设有限位柱。
6.根据权利要求5所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述标志盘的中心设有通孔，所述通孔套设在所述限位柱上。
7.根据权利要求1所述的一种分区曝光板，其特征在于，还包括圆环，所述圆环与所述挡光板同轴设置。
8.根据权利要求7所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述圆环设有圆形凹槽，所述挡光板设置在所述圆形凹槽内。
9.根据权利要求7所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述圆环设有刻度，所述刻度的范围为1°～360°。
10.根据权利要求7所述的一种分区曝光板，其特征在于，所述圆环同轴设有限位环，所述限位环设置在所述圆环相对所述标志盘的一侧，所述限位环沿其轴向延伸。