极微量调整机构的制作方法

本技术涉及光学调整移动台，具体为极微量调整机构。

背景技术：

1、现有的光学仪器一般都是通过调节移动台进行支撑，光学调整移动台机构，通常有调节的作用。

2、在进行调节时，平移尺寸值的精度为调整手柄旋转一小格刻度为0.005-0.01mm，手柄旋转一圈为刻度100小格尺寸为0.5-1mm，而且都为带有一定大小尺寸的平移台，这样就对于某些尺寸极高精度的光学调整和对于空间尺寸有限的地方就不能适应需要，因此我们提出了极微量调整机构。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足，本实用新型提供了极微量调整机构，解决了现有的光学调整移动台通过调整手柄旋转进行调节，而调整手柄旋转一周的调节精度为0.5-1mm，不能进行精度要求高的调节问题。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：极微量调整机构，包括固定支架，所述固定支架装配有第一调整手柄，固定支架和第一调整手柄之间设置有微量调整组件；

5、微量调整组件包括调节箱，调节箱安装在固定支架的外表面，且第一调整手柄活动插接在调节箱的内部，调节箱的外表面螺纹连接有第二调整手柄，第二调整手柄的底端向着调节箱的内部延伸，且第二调整手柄和第一调整手柄之间传动连接有调节杠杆，调节杠杆用于调节第一调整手柄进行微量转动。

6、优选的，所述调节箱的外表面开设有调节槽，调节槽的内壁上插接有锁紧螺钉，锁紧螺钉的底端向着调节箱的内部延伸，并与调节杠杆和第一调整手柄相连接。

7、优选的，所述锁紧螺钉的外表面螺纹连接有限位块，限位块的一侧与调节杠杆固定连接，限位块的另一侧与第一调整手柄的外表面紧密相抵。

8、优选的，所述锁紧螺钉的底端固定安装有定位块，且定位块与第一调整手柄的外表面紧密相抵。

9、优选的，所述调节杠杆的端部安装有磁铁。

10、优选的，所述第二调整手柄的底端固定安装有挤压头，挤压头与磁铁磁性连接。

11、优选的，所述磁铁的上表面开设有半圆槽，且挤压头与半圆槽的内壁相贴合。

12、本实用新型公开了极微量调整机构，其具备的有益效果如下：该极微量调整机构，为第一调整手柄上装有一个可锁紧可放松的调节杠杆，当锁紧时调节杠杆就能以第一调整手柄的旋转中心为支点带动第一调整手柄一起旋转，粗调时，放松调节杠杆，旋转调整第一调整手柄，当第一调整手柄旋转圈就调整0.25mm；精调时，旋紧调节杠杆，推动调节杠杆转动0.25mm的弦长，由于调节杠杆长35mm，就形成了调节杠杆带动了第一调整手柄旋转了0.4°，就等于第一调整手柄旋转1圈，被调整件调整了0.00027mm，以达到精调的目的。

技术特征：

1.极微量调整机构，包括固定支架(1)，所述固定支架(1)装配有第一调整手柄(101)，其特征在于：固定支架(1)和第一调整手柄(101)之间设置有微量调整组件；

2.根据权利要求1所述的极微量调整机构，其特征在于：所述调节箱(2)的外表面开设有调节槽(301)，调节槽(301)的内壁上插接有锁紧螺钉(3)，锁紧螺钉(3)的底端向着调节箱(2)的内部延伸，并与调节杠杆(202)和第一调整手柄(101)相连接。

3.根据权利要求2所述的极微量调整机构，其特征在于：所述锁紧螺钉(3)的外表面螺纹连接有限位块(302)，限位块(302)的一侧与调节杠杆(202)固定连接，限位块(302)的另一侧与第一调整手柄(101)的外表面紧密相抵。

4.根据权利要求2所述的极微量调整机构，其特征在于：所述锁紧螺钉(3)的底端固定安装有定位块(303)，且定位块(303)与第一调整手柄(101)的外表面紧密相抵。

5.根据权利要求1所述的极微量调整机构，其特征在于：所述调节杠杆(202)的端部安装有磁铁(304)。

6.根据权利要求5所述的极微量调整机构，其特征在于：所述第二调整手柄(201)的底端固定安装有挤压头(305)，挤压头(305)与磁铁(304)磁性连接。

7.根据权利要求6所述的极微量调整机构，其特征在于：所述磁铁(304)的上表面开设有半圆槽，且挤压头(305)与半圆槽的内壁相贴合。

技术总结
本技术公开极微量调整机构，涉及光学调整移动台领域。该极微量调整机构，包括固定支架，所述固定支架装配有第一调整手柄，固定支架和第一调整手柄之间设置有微量调整组件；微量调整组件包括调节箱，调节箱安装在固定支架的外表面，且第一调整手柄活动插接在调节箱的内部，调节箱的外表面螺纹连接有第二调整手柄，第二调整手柄的底端向着调节箱的内部延伸，且第二调整手柄和第一调整手柄之间传动连接有调节杠杆，调节杠杆用于调节第一调整手柄进行微量转动。该极微量调整机构，旋紧调节杠杆，推动调节杠杆转动0.25mm的弦长，由于调节杠杆长35mm，就形成了调节杠杆带动了第一调整手柄旋转了0.4°，被调整件调整了0.00027mm，以达到精调的目的。

技术研发人员：孙建军
受保护的技术使用者：上海芙野光学技术有限公司
技术研发日：20230414
技术公布日：2024/1/13