本技术涉及一种降低曝光机内部光线衍射的装置。
背景技术:
1、在玻璃黄光车间的生产过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上。其中,曝光是非常重要的一个步骤。首先需要曝光机中放置光罩(mask),然后光罩和玻璃进行对位,留下图形。而曝光的效果决定了图形实际显示出的效果。
2、现有的光刻工艺为:光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到玻璃基板上,不同光刻机的成像比例不同,有5:1,也有4:1,等等。然后使用化学方法显影,得到刻在玻璃基板上的电路图得以显现出效果。
3、一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、涂布光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。曝光的过程中,图形的效果会受到诸多因素的影响,除去一些常规的参数会影响图形的效果外,曝光机内部的光源也会影响其效果。通常在生产中,图形的尺寸≤10um的时候,在修改常规参数,对实际图形的影响很小,这个时候就需要调整曝光机内部光源来改善图形的效果。
技术实现思路
1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本实用新型提供一种降低曝光机内部光线衍射的装置,目的是改善玻璃表面图形的效果。
2、为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:降低曝光机内部光线衍射的装置,包括安装板和设置于安装板上且用于汇聚光线的球状晶体,球状晶体设置于曝光机的光源和光罩之间。
3、所述球状晶体在所述安装板上设置多个。
4、所述安装板上设置安装孔,所述球状晶体设置于安装孔中。
5、所述安装板上设置吊装孔。
6、所述安装板的颜色为黑色。
7、所述安装板为矩形结构。
8、本实用新型的降低曝光机内部光线衍射的装置,设置在曝光机和光罩之间,当曝光机的光源发出光线时,经过此装置后的光线会减少衍射的效果,光线会再次变得竖直,减少了光在图形上衍射的分布,从而提升了曝光的效果。
1.降低曝光机内部光线衍射的装置,其特征在于:包括安装板和设置于安装板上且用于汇聚光线的球状晶体,球状晶体设置于曝光机的光源和光罩之间;
2.根据权利要求1所述的降低曝光机内部光线衍射的装置,其特征在于:所述安装板上设置安装孔,所述球状晶体设置于安装孔中。
3.根据权利要求1所述的降低曝光机内部光线衍射的装置,其特征在于:所述安装板上设置吊装孔。