光硬化性组合物、转印材料、硬化物及其制造方法、树脂图案制造方法、硬化膜、液晶显示 ...的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种光硬化性组合物（以下，有时简称为"本发明的组合物"）。另外， 本发明涉及一种具有上述光硬化性组合物的层的转印材料、使上述光硬化性组合物硬化而 成的硬化物及其制造方法、使用上述光硬化性组合物的树脂图案制造方法、使上述光硬化 性组合物硬化而成的硬化膜、以及使用上述硬化膜的各种图像显示装置。
[0002] 更详细而言，本发明涉及一种适合于形成液晶显示装置、有机电致发光 (Electroluminescence，EL)显示装置、触摸屏显示装置、集成电路元件、固体摄影元件等的 电子零件的平坦化膜、保护膜或层间绝缘膜的光硬化性组合物、及使用其的硬化膜的制造 方法。
【背景技术】
[0003] 根据固体摄影元件或液晶显示装置的发展，而广泛进行利用有机原材料（树脂） 来制作微透镜、光波导、抗反射膜等光学构件。
[0004] 为了使这些光学构件的折射率变高，而正在研宄添加氧化钛等粒子（参照专利文 献1)。
[0005] 另外，作为之前的负型光硬化性组合物，已知有专利文献2及专利文献3中所记载 的光硬化性组合物。
[0006] [现有技术文献]
[0007] [专利文献]
[0008] [专利文献1]日本专利特开2006-98985号公报
[0009] [专利文献2]日本专利特开2011-127096号公报
[0010] [专利文献3]日本专利特开2009-179678号公报
【发明内容】
[0011] 发明要解决的课题
[0012] 本发明的目的在于提供一种能够形成可获得高解析性、折射率高且透过率高的图 案的光硬化性组合物。
[0013] 解决问题的技术手段
[0014] 本发明的上述课题通过以下的< 1 >、< 20 >~< 24 >、< 26 >~< 28 >中所 记载的手段来解决。以下一并记载作为优选的实施形态的< 2 >~< 19 >及< 25 >。
[0015] < 1 >一种光硬化性组合物，其特征在于包括：（成分A)具有2个以上的氮原子 的杂环化合物、（成分B)金属氧化物粒子、（成分C)溶剂、以及（成分X)硬化性成分；
[0016] < 2 >根据< 1 >所述的光硬化性组合物，其中成分A是具有在1位、3位上至少 含有氮原子的杂环结构的化合物；
[0017] < 3 >根据< 1 >或< 2 >所述的光硬化性组合物，其中成分A是具有在1位、3 位上至少含有氮原子的5元杂环结构或6元杂环结构的化合物；
[0018] < 4 >根据< 1 >至< 3 >中任一项所述的光硬化性组合物，其中成分A的杂环 的环元包含碳原子及氮原子；
[0019] < 5 >根据< 1 >至< 4 >中任一项所述的光硬化性组合物，其中成分A为由下 述式（1)所表示的化合物；
[0020] [化 1]
【主权项】
1. 一种光硬化性组合物，其特征在于包括： (成分A)具有2个以上氮原子的杂环化合物， (成分B)金属氧化物粒子， (成分C)溶剂，以及 (成分X)硬化性成分，且 成分A为由下述式（1)所表示的化合物。 [化1]
(式（1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子、卤素原子、烷基、烯基、芳基、或巯基，R1与R2能够键结而为二价的有机基，R3及R4分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、或 杂环基，L1表示形成5元环或6元环的二价的连结基，R3或R4与L1能够键结而形成环，另 外，当存在由虚线所记载的含氮双键时，虚线的键结表示不存在R2及R4,当不存在由虚线所 记载的含氮双键时，虚线的键结表示存在R2及R4。）
2. 根据权利要求1所述的光硬化性组合物，其中成分A的杂环的环元包含碳原子及氮 原子。
3. 根据权利要求1或2所述的光硬化性组合物，其中成分A含有巯基或硫酮基。
4. 根据权利要求1至3中任一项所述的光硬化性组合物，其中成分A为由下述式（1-1) 或式（1-2)所表示的化合物。 [化2]
(式（1-1)及式（1-2)中，R6~R8分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、或杂 环基，L2及L3分别独立地表示形成5元环或6元环的二价的连结基，R6与L2能够键结而形 成环，R7或R8与L3能够键结而形成环。）
5. 根据权利要求1至4中任一项所述的光硬化性组合物，其中成分A的分子量为1，000 以下。
6. 根据权利要求1至5中任一项所述的光硬化性组合物，其中相对于组合物的总固体 成分，成分B的含量为30质量％以上。
7. 根据权利要求1至6中任一项所述的光硬化性组合物，其还包括（成分D)分散剂。
8. 根据权利要求1至7中任一项所述的光硬化性组合物，其包括（成分E)聚合性化合 物、及（成分F)聚合引发剂作为成分X。
9. 根据权利要求1至7中任一项所述的光硬化性组合物，其包括（成分M)碱可溶性树 月旨、（成分N)交联剂、及（成分0)酸产生剂作为成分X。
10. -种转印材料，其是在支撑体上制作至少一层根据权利要求1至9中任一项所述的 光硬化性组合物的膜而形成。
11. 一种硬化物的制造方法，其至少依序包括步骤（a)~步骤（c)。 (a) 将根据权利要求1至9中任一项所述的光硬化性组合物涂布于基板上的涂布步骤 (b) 自所涂布的组合物中去除溶剂的溶剂去除步骤 (c) 对去除了溶剂的组合物照射光化射线的曝光步骤
12. -种树脂图案制造方法，其至少依序包括步骤（1)~步骤（4)。 (1) 将根据权利要求1至9中任一项所述的光硬化性组合物涂布于基板上的涂布步骤 (2) 自所涂布的组合物中去除溶剂的溶剂去除步骤 (3) 利用光化射线将去除了溶剂的组合物曝光成图案状的曝光步骤 (4) 利用水性显影液将未曝光部的组合物去除并进行显影的显影步骤
13. -种硬化物，其利用根据权利要求11所述的硬化物的制造方法、或根据权利要求 12所述的树脂图案制造方法而获得。
14. 一种硬化膜，其是使根据权利要求1至9中任一项所述的光硬化性组合物硬化而形 成。
15. 根据权利要求14所述的硬化膜，其为层间绝缘膜。
16. -种液晶显示装置，其包括根据权利要求14或15所述的硬化膜。
17. -种有机电致发光显示装置，其包括根据权利要求14或15所述的硬化膜。
18. -种触摸屏显示装置，其包括根据权利要求14或15所述的硬化膜。
【专利摘要】本发明的目的在于提供一种能够形成可获得高解析性、折射率高且透过率高的图案的光硬化性组合物。本发明的光硬化性组合物的特征在于：包括(成分A)具有2个以上的氮原子的杂环化合物、(成分B)金属氧化物粒子、(成分C)溶剂、以及(成分X)硬化性成分，且成分A为由下述式(1)所表示的化合物。(式(1)中，R1及R2分别独立地表示氢原子、卤素原子或一价的有机基，R1与R2可键结而为二价的有机基，R3及R4分别独立地表示氢原子或一价的有机基，L1表示形成5元环或6元环的二价的连结基，R3或R4与L1可键结而形成环。)
【IPC分类】H05B33-02, H01L21-027, H05B33-22, C08F2-44, H01L51-50, G03F7-038, G03F7-004
【公开号】CN104813231
【申请号】CN201380061691
【发明人】藤盛淳一, 中村秀之, 铃木成一
【申请人】富士胶片株式会社
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2013年11月26日
【公告号】WO2014084190A1