硬化性组合物、硬化膜及其形成方法、以及化合物的制作方法
【专利摘要】本发明的目的在于提供一种硬化性组合物、硬化膜及其形成方法、以及化合物，硬化性组合物可兼具保存稳定性以及低温硬化性，可形成耐溶剂性优异的硬化膜。本发明的硬化性组合物含有：选自由式(1-1)及式(1-2)所表示的化合物所组成的组群中的至少1种、以及聚合性化合物。R1～R5及R11～R15为氢原子、卤素原子、羧基、羟基、氰基、磺基、甲酰基、巯基、硝基、三烷基硅烷基、三烷基硅烷基烷基等。R6～R10及R16～R18为氢原子、卤素原子、烷基、脂环式烃基或芳香族烃基、杂环基、烷氧基、苯硫基、氨基、亚硝基、巯基、三烷基硅烷基、酰基、三氟甲基、羟基、氰基、硝基、羧基、磺基等。
【专利说明】硬化性组合物、硬化膜及其形成方法、以及化合物
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种硬化性组合物、硬化膜及其形成方法、以及化合物。
【背景技术】
[0002] 硬化性组合物可利用简便的涂布制程来大量且容易地形成硬化膜，因此目前被广 泛使用。特别是具有感放射线性的硬化性组合物由于其硬化膜的图案形成也容易，故而除 了液晶元件、半导体元件等的材料以外，也还被广泛用于光硬化性油墨、感光性印刷版等。 此种硬化性组合物通常含有树脂以及硬化剂。
[0003] 该硬化剂的代表可列举利用热或放射线的作用而产生碱的碱产生剂。利用该碱产 生剂，可将利用热或放射线的作用而产生的碱作为催化剂，通过化学改性来使所述树脂硬 化，从而形成硬化膜。另外，也可以利用该树脂的化学改性前后的溶解性的差异来形成图 案。进而，只要不受到热或放射线的作用，则碱产生剂稳定地存在，因此含有该碱产生剂的 硬化性组合物的保存稳定性也优异。
[0004] 此种碱产生剂广泛使用[[(2-硝基苄基）氧基]羰基]环己基胺等硝基苄基氨甲 酸酯系光碱产生剂（参照日本专利特开2006-189591号公报以及日本专利特开平7-140663 号公报）。另外，热碱产生剂提出了N-烯丙基-N'，N'-二烷基脲、N-苯基咪唑甲酰胺 等（《聚合物科学杂志A辑：聚合物化学（JournalofPolymerScience，PartA，Polymer Chemistry)》第48卷、第5298-5305页、2010年，以及《应用聚合物科学杂志（Journalof AppliedPolymerScience)》第 104 卷、第 3292-3300 页、2007 年）。
[0005] 但是，这些现有的碱产生剂无法兼具当制成硬化膜形成用树脂组合物时的室温以 及与室温接近的温度条件下的保存稳定性、与比较低的温度下的硬化性。另外，由使用现有 的碱产生剂的树脂组合物来形成的硬化膜的耐溶剂性等特性不充分。
[0006][现有技术文献]
[0007][专利文献]
[0008][专利文献1]日本专利特开2006-189591号公报 [0009][专利文献2]日本专利特开平7-140663号公报 [0010][非专利文献]
[0011][非专利文献1]《聚合物科学杂志A辑：聚合物化学（JournalofPolymer Science，PartA，PolymerChemistry)》第 48 卷、第 5298-5305 页、2010 年
[0012] [非专利文献2]《应用聚合物科学杂志（JournalofAppliedPolymerScience)》 第 104 卷、第 3292-3300 页、2007 年
【发明内容】
[0013][发明所欲解决的课题]
[0014] 本发明是基于如上所述的情况而形成，其目的为提供一种可兼具保存稳定性以及 低温硬化性，且可形成耐溶剂性优异的硬化膜的硬化性组合物。
[0015] [解决课题的手段]
[0016] 为了解决所述课题而形成的发明是一种硬化性组合物，其含有：选自由下述式 (1-1)所表示的化合物以及下述式（1-2)所表示的化合物所组成的组群中的至少1种化合 物、以及聚合性化合物。
[0017][化1]
【权利要求】
1. 一种硬化性组合物，其含有： 选自由下述式（1-1)所表示的化合物以及下述式（1-2)所表示的化合物所组成的组群 中的至少1种化合物；以及 聚合性化合物， [化1]
式（1-1)及式（1-2)中，R1?R5及R11?R15分别独立地为氢原子、卤素原子、羧基、羟 基、氛基、横基、甲醜基、疏基、硝基、亚硝基、憐酸醋基、二烧基娃烧基、二烧基娃烧基烧基、 或者具有碳数1?20的烷基的羟基；其中，不存在R 1?R5全部为氢原子的情况； R6?Rltl及R16?R18分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1?20的烷基、碳数3?20 的脂环式烃基、碳数6?24的芳香族烃基、碳数4?20的杂环基、碳数1?12的烷氧基、 苯硫基、氣基、单烧基氣基、-烧基氣基、亚硝基、疏基、二烧基娃烧基、亚横酸基、憐酸醋基、 酰基、三氟甲基、羟基、氰基、硝基、羧基、或者磺基。
2. 根据权利要求1所述的硬化性组合物，其中所述式（1-1)的R1及R5中的至少一个、 或者所述式（1-2)的R 11及R15中的至少一个为卤素原子、羧基、羟基、氰基、磺基、甲酰基、巯 基、硝基、亚硝基、憐酸醋基、二烧基娃烧基、二烧基娃烧基烧基、或者具有碳数1?20的烧 基的羟基。
3. 根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其中所述聚合性化合物为具有氧杂环丙 基、氧杂环丁基或者乙烯性不饱和基的化合物。
4. 根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其还含有碱可溶性树脂。
5. 根据权利要求1或2所述的硬化性组合物，其具有感放射线性。
6. -种硬化膜，其是由根据权利要求1至5中任一项所述的硬化性组合物而形成。
7. -种硬化膜的形成方法，其包括：在基板上形成涂膜的步骤、对所述涂膜的至少一 部分照射放射线的步骤、对经照射放射线的所述涂膜进行显影的步骤、以及对经显影的所 述涂膜进行加热的步骤， 由根据权利要求5所述的硬化性组合物来形成所述涂膜。
8. -种化合物，其由选自由下述式（1-3)及式（1-4)所组成的组群中的至少1个所表 示： [化2]
式（1-3)及式（1-4)中，f?及，?俨分别独立地为氢原子、齒素原子、羧基、 轻基、氛基、横基、甲醜基、疏基、硝基、亚硝基、憐酸醋基、二烧基娃烧基、二烧基娃烧基烧 基、或者具有碳数1?20的烷基的羟基；其中，不存在F?r及Rf?Rf全部为氢原子 的情况； #?及俨?IT分别独立地为氢原子、齒素原子、碳数1?20的烷基、碳数3? 20的脂环式烃基、碳数6?24的芳香族烃基、碳数4?20的杂环基、碳数1?12的烷氧 基、苯硫基、氣基、单烧基氣基、_烧基氣基、亚硝基、疏基、二烧基娃烧基、亚横酸基、憐酸醋 基、酰基、三氟甲基、羟基、氰基、硝基、羧基、或者磺基；其中，在f?f中的至少一个为卤 素原子、羟基、硝基、或者甲氧基的情况下，R f"?#不存在全部为氢原子的情况； Rlt^分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1?20的烷基、碳数3?20的脂环式烃基、 碳数12?24的芳香族烃基、碳数4?20的杂环基、碳数1?12的烷氧基、苯硫基、氨基、单 烧基氣基、-烧基氣基、亚硝基、疏基、二烧基娃烧基、亚横酸基、憐酸醋基、醜基、二氣甲基、 羟基、氰基、硝基、羧基、或者磺基。
【文档编号】G03F7/027GK104516196SQ201410432256
【公开日】2015年4月15日 申请日期:2014年8月28日 优先权日:2013年10月2日
【发明者】石部彻, 远藤刚 申请人:Jsr株式会社