一种玻璃基板的偏差检测和修正方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种集成电路装备制造领域，尤其涉及一种玻璃基板的偏差检测和修 正方法。
【背景技术】
[0002] 随着科学技术的发展，信息显示技术也在不断地更新换代。从传统的阴极射线管 (CRT)发展到了先进的液晶屏化CD)，现正在向第3代显示技术过渡。作为第3代显示技 术主要候选的有机电致发光屏（0LED)为人们提供更加理想的显示画面，并对现有的显示 产业格局产生巨大的影响。无论LCD还是0L邸，都需要采用与光刻工艺联系紧密的阵列加 工工艺。LCD和0L邸的制作依赖于光刻工艺，方形基板在曝光装置内的放置是否存在偏移 (Center化ift)将会深刻影响整个器件的制作质量。例如；A0I和异机匹配都会受到影响。 甚至如果上片精度不满足光刻机的要求，则无法进行下一步工艺。
[0003] 在曝光装置中，方形基板上载到工件台上时，方形基板有一个需求的理想位置。但 是在实际操作过程中，玻璃基板上图形位置相对于基板实际上片位置，会有一定的偏差，包 括偏必（Δχ和Ay)和偏向Θ，通常需要计算方形基板在中必处的偏必值和偏向值，从而 调整基板工件台的位置。目前，在方形基板初次上片时，现有技术有提供一种基于接触式传 感器的机械检测方法，特点是在曝光装置内承载方形基板的工件台上放置位置传感器，实 现对方形基板的偏移检测和纠正，其缺点是采用接触式的对准方法容易污染和损坏方形基 板；另有一现有技术是在方形基板搬运至工件台的过程中，在机械手上某一固定位置的上 方放置两个CCD，送两个CCD通过光学镜头对方形基板的边缘信息进行采集，然后通过上步 采集到的边缘信息检测方形基板位置，与方形基板的理想位置做比较，求出当前方形基板 的旋转及位移量，从而调整机械手的位置，达到调整方形基板位置的目的。然而W上方法都 是在方形基板曝光之前，采用预对准装置和预对准处理算法对方形基板的偏移进行纠正。 由于受预对准装置的精细水平和处理算法误差的限制，方形基板的偏必偏向值很难保证精 度。此外，对于预对准处理后的基板偏移纠正效果也没有一种方法来进行精确检测和修正。 因此针对已经经过曝光装置预对准之后的方形基板计算出其偏必偏向值，并把该值提供给 工件台进行基板偏移再次修正十分有必要。
【发明内容】
[0004] 为了克服现有技术中存在的缺陷，本发明提供玻璃基板偏移检测和修正的方法， 用于对已经经过曝光装置的预对准之后的方形基板计算出其偏必偏向值，并把该值提供给 工件台进行基板偏移再次修正。
[0005] 为了实现上述发明目的，本发明公开一种玻璃基板的偏差检测和修正方法， 其特征在于，包括；步骤一、对一方形基板进行涂胶曝光显影操作，该曝光时，利用具 有十字型、斜十字型或米字型中任一组成的掩模图形W形成一曝光标记；步骤二、将 该方形基板放置于一工件台上，并探测该曝光标记；步骤H、将所述工件台分别按X 轴方向和y轴方向移动直至所述方形基板的y轴向边缘和X轴向边缘，所述工件台 的移动距离分别记为第一横向距离也）、第二横向距离化2)、第一轴向距离化3)、第 二轴向距离化4);根据所述第一横向距离（Li)、第二横向距离化2)、第一轴向距离 化3)、第二轴向距离化4)W及所述方形基板的尺寸，计算所述y轴向边缘的偏向值（ 斯）和偏必值(At)，所述X轴向边缘的偏向值（瑪）和偏必值（晦0 ;其中毎曲瑪，取
最终得出偏必坐标值(Ajc和妙)和偏向值(0)，实现所述方形基板偏移再次修正。
[0006] 该步骤一进一步包括：在该方形基板上曝出四个曝光标记；四个曝光标记的中必 名义坐标值分别为（Xi,yi)、（而，72)、咕，y3)和（X4,y*)，其中Xi=而，yi= -y2，x3= -X4，y3=y4。 寻找第一曝光标记，并确定其标记中必；所述步骤Η进一步包括；所述工件台按X轴负方向 移动直至所述方形基板的y轴向边缘，将所述工件台移动距离记录为第一横向距离化1); 同理获得所述第二横向距离化2)、第一轴向距离化3)、第二轴向距离化4);根据坐标值XI、 而、&、与、71、72、73、74及基板的尺寸卿）和做，可计算出：
[0007] 该步骤一进一步包括；在该方形基板上曝出Η个曝光标记，Η个曝光标记的中必 名义坐标值分别为（义1，71)、（而，72)和咕，73)，其中义1=而=-&，71=-72=-73。寻找第一 曝光标记，并确定其标记中必；该步骤Η进一步包括；所述工件台按X轴负方向移动直至所 述方形基板的y轴向边缘，将所述工件台移动距离记录为第一横向距离化1);同理所述第 二横向距离化2)、第一轴向距离化3)、第二轴向距离化4);根据坐标值XI、而、&、yi、72、73、 及基板的尺寸（W)和做，可计算出：
[0008] 该步骤一进一步包括；在该方形基板上曝出两个曝光标记，两个曝光标记的中必 名义坐标值分别为（XI，0)和（0,yi)。寻找第一曝光标记，并确定其标记中必；该步骤Η进一 步包括：所述工件台按X轴负方向移动直至所述方形基板的y轴向边缘，将所述工件台移动 距离记录为第一横向距离化1);同理所述第二横向距离化2)、第一轴向距离化3)、第二轴向 距离化4);根据坐标值义1、而、71、72、及基板的尺寸卿）和做，可计算出：
[0009] 该步骤一进一步包括；在该方形基板上曝出一个曝光标记，该曝光标记的中必名 义坐标值为（0, 0)。寻找第一曝光标记，并确定其标记中必；该步骤Η进一步包括；所述工 件台按X轴负方向移动直至所述方形基板的y轴向边缘，将所述工件台移动距离记录为第 一横向距离化1);同理所述第二横向距离化2)、第一轴向距离化3)、第二轴向距离化4);根 据坐标值义1、而、71、72、及基板的尺寸卿）和^)，可计算出；偏向角
[0010] 与现有技术相比较，于先将方形基板进行曝光工艺，曝出特殊标记图形，再根据标 记图形与基板边缘的位置关系，计算出方形基板的偏差值，即偏必值和偏向值，实现对预对 准处理后的基板偏移进行精确检测和修正。
【附图说明】
[0011] 关于本发明的优点与精神可W通过W下的发明详述及所附图式得到进一步的了 解。
[0012] 图1是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第一实施方式的曝光 设计图； 图2是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第一实施方式的理想位置 和实际位置的对比图； 图3至图5是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第一实施方式的实际 上片后基板位置算法原理说明图； 图6是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第二实施方式的曝光设计 图； 图7是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第二实施方式的理想位置 和实际位置的对比图； 图8至图10是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第二实施方式的实 际上片后基板位置算法原理说明图； 图11是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第Η实施方式的曝光设计 图； 图12是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第Η实施方式的理想位置 和实际位置的对比图； 图13至图15是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第Η实施方式的实 际上片后基板位置算法原理说明图； 图16是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第四实施方式的曝光设计 图； 图17是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第四实施方式的理想位置 和实际位置的对比图； 图18至图20是本发明所涉及的玻璃基板的偏差检测和修正方法的第四实施方式的实 际上片后基板位置算法原理说明图。
【具体实施方式】
[0013] 下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。
[0014] 本发明的目的在于提供一种玻璃基板偏移检测和修正的方法，该方法是基于先 将方形基板进行曝光显影工艺，曝出特殊位置的标记图形，再根据标记图形与基板边缘的 位置关系，计算出方形基板的偏差值，即偏必值和偏向值。最后将该值输入给曝光装置，实 现对预对准处理后的基板偏移进行精确检测和修正。
[0015] 为达上述目的，本发明提出一种玻璃基板偏移检测和修正的方法，用于对已经经 过曝光装置的预对准之后的方形基板计算出其偏必偏向值，并把该值提供给工件台进行基 板偏移再次修正。包括W下步骤： 第一、设计一种或多种掩模图形，该掩模图形具有能够显示名义位置的交叉点，可W有 横线条、竖线条和斜线条中一种或多种线条任意交叉组成，即十字标记、斜十字标记或米字 标记。
[0016] 第二、对方形基板进行涂胶曝光显影操作。具体包括；涂光刻胶一软烘一曝光装置 曝光一曝光后烘烤一显影一后烘，其中利用曝光装置进行曝光时，采用上一步设计的掩模 图形进行曝光。
[0017] 曝光设计时的一种优选方案是在方形基板上曝出Η个标记图形或者四个标记 图形。该方案适用于于高世代线，此时方形基板较大，曝光装置工件台行程有限。曝Η 个标记图形时要求；Η个图形的中必名义坐标值分别为^1，71)、（而，72)和（&，73)，其中 χι=x2=-x3，yi=-y2=-y3。曝四个标记图形时要求：四个图形的中必名义坐