一种真零级波片的下盘方法

文档序号:10685860阅读:378来源:国知局
一种真零级波片的下盘方法
【专利摘要】本发明公开了一种真零级波片的下盘方法,包括一个容器、一个光胶板、真零级波片和酒精溶液,光学抛光时,真零级波片光胶在光胶板上;下盘时,容器中盛部分酒精,将真零级波片和光胶板一起浸入酒精中,在真零级波片与光胶板接触的地方,双面刀片成30°角度夹角,真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下,轻松的实现了剥离。本发明操作方便,加工成品率高,适用大批量生产。
【专利说明】
一种真零级波片的下盘方法
技术领域
[0001]本发明专利涉及光学和光通信领域,尤其是一种真零级波片的下盘方法。
【背景技术】
[0002]光学领域、激光系统、光通讯器件以及光测试测量仪表、数码相机等消费行业的偏振系统,偏振光路中都需要用到波片,但是由于真零级波片的级数最低,厚度最薄,延迟精度对温度和入射角度不敏感,在各器件中得到很好的光路效果。
[0003]真零级波片的厚度一般只有0.05-0.1_,因此,加工及下盘存在一定的难度,尤其是下盘,操作不当,导致真零级波片碎裂,因此,本发明很好的解决了真零级波片的下盘方法。

【发明内容】

[0004]本发明的目的是为了提供一种真零级波片的下盘方法;
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种真零级波片的下盘方法,同时利用了液体的渗透和浮力作用,在轻微的外力作用下,实现了真零级波片的下盘分离;
为了实现一种真零级波片的下盘方法,液体选择了酒精,原因如下:酒精能吸收真零级波片的水汽,达到烘干的效果,表面不会残留印迹;酒精能够清洗加工过程中残留的有机物;
进一步的,将酒精盛在容器中,真零级波片光胶在光胶板上成为一整体,加工完后,将整体浸入在酒精中;
进一步的,浸泡在酒精的真零级波片和光胶板,可以浸泡5-30分钟,让酒精从缝隙中渗入,同时利用液体的浮力;
更进一步的,采用双面刀片成30°角度夹角,真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下,轻松的实现了剥离。
【附图说明】
[0005]图1为本发明的一种真零级波片的下盘方法的真零级光胶到光胶板的示意图;
图2为本发明的一种真零级波片的下盘方法示意图。
具体实施例
[0006]根据本
【发明内容】
,如图1的所示,13为双面抛光好的光胶板、14为真零级波片,加工过程中,由于真零级波片14的厚度厚薄,本实例选择了波长为355nm的λ/4的石英晶体,厚度为0.009mm;真零级波片加工完后,将13和14整体浸泡到酒精溶液中,如图2所示,11为盛酒精的容器,12为酒精溶液,浸泡5-30分钟,让酒精从缝隙中渗入。
[0007]采用双面刀片成30°角度夹角,真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下,轻松的实现了剥离,同时酒精又能清洗真零级波片。
【主权项】
1.一种真零级波片的下盘方法,包括一个容器、一个光胶板、真零级波片和酒精溶液,光学抛光时,真零级波片光胶在光胶板上成一整体;下盘时,容器中盛部分酒精,将真零级波片和光胶板一起浸入酒精中,在真零级波片与光胶板接触的地方,双面刀片成30°角度夹角,真零级波片同时在酒精的渗透、酒精的浮力及双面刀片的刀锋的外力下,轻松的实现了剥离。2.根据权利要求1所述的一种真零级波片的下盘方法,其特征在于:真零级波片的厚度在0.005mm?0.1mm。3.根据权利要求1所述的一种真零级波片的下盘方法,其特征在于:双面刀片用力角度为5-45°之间。4.根据权利要求1所述的一种真零级波片的下盘方法,其特征在于:真零级波片同时利用了液体的渗透、液体的浮力及轻微的外面作用下,实现了下盘分离。5.根据权利要求1所述的一种真零级波片的下盘方法,其特征在于:酒精可以采用丙酮、纯净水和异丙醇替代。
【文档编号】G02B5/30GK106054305SQ201610719728
【公开日】2016年10月26日
【申请日】2016年8月25日
【发明人】朱村, 朱一村, 廖洪平, 张晓春, 王昌运, 陈伟
【申请人】福建福晶科技股份有限公司
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