一种处理盒的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种处理盒。
【背景技术】
[0002]激光打印机、复印机或者传真机等使用电子照相技术的设备，以高品质、高速度，具有竞争力的价格，越来越受用户的青睐。
[0003]这种实现电子照相技术的图像形成装置中可拆卸安装有处理盒，处理盒内还包括:显影剂容纳室，用以容纳显影剂，所述显影剂具有磁性；在显影剂容纳室设置开口，与开口平行处设置显影元件，比如磁辊，磁辊内包括磁芯，磁芯具有磁性；还包括感光元件，用于曝光形成静电潜像，以及用于给感光元件充电的充电元件。显影剂在容纳室内被转移到显影元件上，而显影元件、感光元件，充电元件通过导电元件与图像形成装置内的电路连接，在处理盒工作过程中，显影元件、感光元件之间形成电势差，这样显影剂在电场力的作用下，被牵引至感光元件上预定的区域；随着显影元件、感光元件不断地旋转，显影剂就可以转移至感光元件上，然后转印至打印介质上，从而完成图像的形成。
[0004]现有技术中还包括用以支撑显影元件的支撑架，所述支撑架的两端设置磁性密封元件，用以防止显影剂从显影元件的两端泄露出来污染打印环境，影响打印品质。优选地常选择密封性能好的磁性材料。图1所示为现有技术的处理盒粉仓部分1，图2所示为图1结构的爆炸视图。如图1至图2所示，显影剂容纳室e用于容纳磁性显影剂；出粉刀3与显影元件2的表面接触以控制显影剂在显影元件2表面上的厚度；一对磁性密封件4安装在支撑架5的两端上，处于显影元件2的两端，即磁性密封件4位于显影元件2的非显影区且不与显影元件2接触。磁性密封件4与显影元件2不接触，因此在磁性密封件4与显影元件2之间存在着间隙。通过磁性密封件4与显影元件2之间的磁场作用，显影剂容纳室e内的显影剂能够始终保持在显影剂容纳室内。显影剂受到磁场力的限制不能从磁性密封件4与显影元件2之间的间隙通过，磁性密封件4起到密封显影剂容纳室e内显影剂的作用。端部支架6安装到支撑架5上时，支柱61穿过支撑架5，同时穿过磁性密封件4。图3所示为图1中A-A剖面图；图4所示为现有技术涉及的支撑架5、磁性密封件4和端部支架6的分解示意图；图5所示为现有技术涉及的处理盒截面示意图。如图3至图5所示，磁性密封件4安装至凹槽51内，端部支架6上的支柱61穿过支撑架5和磁性密封件4，因支柱61穿过磁性密封件4上的安装孔43，磁性密封件4会以安装孔43为旋转中心发生转动，又磁性密封件4与凹槽51之间存在着间隙，所以磁性密封件两端41、42可绕安装孔43在凹槽51内转动。这种设置的不足之处在于:磁性密封件4在显影元件2快速旋转的过程中会发生转动，与显影元件2发生接触。磁性密封件4与显影元件2发生接触，磁性密封件4出现磨损，而且磁性密封件4的转动会偏移原来位置会出现密封不良而导致显影剂泄露的现象，影响到打印效果，引起打印质量问题。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型提供一种处理盒，以解决现有处理盒因磁性密封元件容易发生转动与显影元件接触而导致处理盒打印质量不良的技术问题。
[0006]为了解决以上技术问题，本实用新型的技术方案是:
[0007]一种处理盒，包括显影元件、磁性密封件和支撑所述显影元件的支撑架，所述支撑架上设置有凹槽，所述磁性密封件安装在所述支撑架的凹槽内以防止显影剂的泄漏，所述凹槽与所述磁性密封件之间还设置有防止所述磁性密封件转动与显影元件接触的定位部件。
[0008]所述的定位部件为非磁性部件。
[0009]所述定位部件为设置在所述凹槽上与所述磁性密封件两端部对应位置处的第一凸台和第二凸台，所述第一凸台与所述磁性密封件的一端部接触，所述第二凸台与磁性密封件另一端部接触。
[0010]所述凹槽包括弓形部分和非弓形部分，所述第一凸台和第二凸台分别设置在所述非弓形部分上。
[0011]所述的第一凸台、第二凸台与所述支撑架一体注塑成形。
[0012]所述定位部件为设置在所述凹槽与所述磁性密封件之间的垫片。
[0013]所述的垫片为塑胶材料制成。
[0014]所述的垫片为金属材料制成。
[0015]所述的垫片包含弹性材料。
[0016]所述的弹性材料是弹性胶或海绵或毛毡。
[0017]在采用了上述技术方案后，由于凹槽与所述磁性密封件之间还设置有防止所述磁性密封件发生转动与显影元件接触的定位部件，在显影元件高速旋转过程中，磁性密封件被定位在凹槽上，而不会发生转动与磁辊接触干涉，从而保证了处理盒的打印质量。解决了现有处理盒因磁性密封元件容易发生转动与显影元件接触而导致处理盒打印质量不良的技术问题。
【附图说明】
[0018]图1所示为现有技术使用处理盒中粉仓的结构示意图；
[0019]图2所示为现有技术使用处理盒中粉仓的结构分解示意图；
[0020]图3所示为图1示A-A方向的剖视图；
[0021]图4所示为现有技术使用的支撑架与磁性密封件的安装示意图；
[0022]图5所示为现有技术使用的处理盒截面示意图；
[0023]图6所示为本实用新型实施例一涉及处理盒截面示意图；
[0024]图7所示为本实用新型实施例一涉及处理盒支撑架凹槽截面示意图；
[0025]图8所示为本实用新型实施例二涉及处理盒支撑架凹槽截面示意图；
[0026]图9所示为本实用新型实施例二涉及处理盒支撑架凹槽截面示意图；
[0027]图10所示为本实用新型实施例而涉及处理盒支撑架凹槽截面示意图；
[0028]图11所示为本实用新型实施例三涉及处理盒支撑架凹槽截面示意图。
【具体实施方式】
[0029]为了使本领域技术人员更加容易、清楚地理解本实用新型涉及的技术方案，下面结合具体的实施方式进行说明。
[0030]实施例一
[0031]图6所示为实施例一提供一种处理盒，如图6所示，该处理盒包括显影元件2，磁性密封件4和支撑架5。其中磁性密封件4安装在支撑架5的两端上，作用于密封显影元件2两端，防止显影剂的泄漏。该支撑架5的端部上存在凹槽51，磁性密封件4安装在凹槽51内，磁性密封件4的两端41、42位于凹槽51上。磁性密封件4上的安装孔43被如图4所示的端部支架6的支柱61穿过，凹槽51与磁性密封件4之间还设置有防止磁性密封件4发生转动与显影元件2接触干涉的定位部件。
[0032]图7所示为实施例一提供一种处理盒用的支撑架5 —端的凹槽截面示意图，如图7所示，该凹槽51由弓形部分be和非弓形部分ab、Cd组成，与磁性密封件4相互配合；定位部件为分别设置在凹槽51的非弓形部分上的第一凸台511和第二凸台512，所述两凸台511,5