调制装置和电源配置的制作方法

调制装置和电源配置的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种在多细射束带电粒子光刻系统中根据图案数据来调制带电粒子细射束的调制装置。该装置包括：板状主体；由多个细射束偏转器组成的阵列；多个电源终端(202至205)，用于供应至少两个不同的电压；多个控制电路；以及导电板条(201)，用于供电给电源终端(202至205)中的一者或多者。该板状主体被分成狭长的射束区(51)以及狭长的非射束区(52)，该射束区(51)与该非射束区(52)被定位成使得它们的长边彼此相邻。细射束偏转器被放置在射束区中。控制电路被放置在非射束区中。导电板条被连接至非射束区中的控制电路。导电板条包括多个薄的导电平板(202至205)。
【专利说明】调制装置和电源配置

【技术领域】
[0001] 本发明大体上涉及光刻系统，且更明确地说，本发明涉及带电粒子细射束调制装 置以及用于细射束调制装置的电源系统。

【背景技术】
[0002] 带电粒子光刻系统在本领域中是已知的，举例来说，可从以本案 申请人:所有的美 国专利第6, 958, 804号中得知。此光刻系统使用多个电子细射束（electronbeamlet)将 图案转印至目标表面。图案数据被发送至调制装置，该调制装置亦称为细射束阻断器阵列。 在此，例如通过对这些细射束进行静电偏转用以接通或切断选定的细射束，来调制这些细 射束。这些经过调制的细射束被投射到要被曝光的目标的表面上。为了能将图案高速转印 至目标表面，可能会使用光学传送方式将控制数据传送至该调制装置。
[0003] 为制造能够以非常高的生产量实施具有较小临界图案尺寸的曝光的光刻系统，已 经有人提出具有非常大量的带电粒子细射束的带电粒子系统。适用于较小临界尺寸的带电 粒子系统中的射束数量大小可能为数万道、数十万道、或是数百万道。
[0004] 为达到光刻目的，进行最终投射的区域通常会限制到单个场，以及在细射束维持 基本上平行的带电粒子系统中，这会造成该调制装置的区域被限制到约27x27mm。调制装置 的电力需求相当大，而且在调制装置中流动的电流会产生磁场。在这样的小区域中，这些磁 场的效应会变得非常明显。调制装置的区域中的任何磁场会施加一偏转作用力在通过该装 置的电子细射束上，而且即使细射束非常小的偏转仍可能在该目标上造成写入误差。


【发明内容】

[0005] 所以，本发明的目的是降低因为在细射束调制装置中流动的电流而造成的不希望 的磁场的效应。本发明由独立权利要求来定义。从属权利要求定义了有利的实施例。据 此，根据随附权利要求，本发明涉及一种调制装置并且涉及一种带电粒子光刻系统，而且涉 及一种电源配置。
[0006] 在第一方面，本发明涉及一种使用在带电粒子光刻系统（100)中的调制装置，该 带电粒子光刻系统（1〇〇)适于产生带电粒子细射束（123)。该调制装置被配置成用以根据 图案数据来调制该等带电粒子细射束并且包括：i)板状主体（106) ;ii)由多个细射束偏 转器（30)组成的阵列，所述细射束偏转器设置在所述板状主体（106)上，用于偏转所述细 射束；iii)多个电源终端（202至205)，用于供应至少两个不同的电压；iv)多个控制电路 (40、41)，设置在所述板状主体（106)上，以接收所述图案数据和供应对应的控制信号给所 述细射束偏转器（30)，其中，所述控制电路（40、41)由所述多个电源终端（202至205)来 馈电；以及v)导电板条（201)，被配置成为所述电源终端（202至205供电。再者，该调制 装置的主体被分成狭长的射束区（51)以及被定位在该射束区（51)旁边的狭长的非射束区 (52)，使得该射束区（51)的一长边邻接一相邻非射束区（52)的一长边。这些细射束偏转 器设置在射束区（51)中。控制电路（40、41)被放置在非射束区（52)中，用于提供控制信 号给细射束偏转器（30)。导电板条（201)被连接至非射束区（52)中的控制电路（40、41)， 该导电板条（201)包括多个薄的导电平板（202至205)，其中，导电板条（201)形成电源配 置的一部分。设置在该板状主体"上"的多个细射束偏转器和控制电路并不意味着它们必 须完全仅设置在板状主体的表面上。偏转器和控制电路的一部分，或是全部，也可能设置在 板状主体中。
[0007] 电源配置提供了相对短的电源线路至控制电路和细射束偏转器。包括多个薄的导 电平板（优选的是，每个平板连接至不同的电源终端，但是并非必要）的导电板条可能沿着 该板条长度的全部或是大部分被连接至调制装置的控制电路，使得将电源连接至控制电路 和细射束偏转器的导电线路会在基本上垂直于导电板条板面的方向中延伸，以便最小化它 们的长度。结果，由这些互联线路所生成的磁场能够被最小化。降低磁场是通过该导电板 条的特定结构实现的，该导电板条是由几个平行布置的薄的导电平板所组成的。
[0008] 调制装置的一个实施例包括被配置成向电源终端供电的多个导电板条。调制装置 的主体被分成多个狭长的射束区以及被定位在射束区旁边的多个狭长的非射束区，使得每 个射束区的一长边邻接一相邻非射束区的一长边。细射束偏转器被分群布置，每一群细射 束偏转器均放置在射束区的其中一者中。控制电路被放置在非射束区中，用于为细射束偏 转器提供控制信号。每个控制电路被放置在相邻于射束区中其中一者的非射束区中其中一 者之中，射束区含有从该控制电路处接收控制信号的细射束偏转器中的一者或多者。再者， 导电板条被连接至非射束区中的控制电路，每个导电板条包括多个薄的导电平板，其中，多 个导电板条形成该电源配置的一部分。此种交替的调制装置设计的优点是：该调制装置能 够被制造成更大型（也就是，提高该带电粒子光刻系统的写入能力），同时保持与电源终端 的短距且低阻抗的连接。
[0009] 在调制装置的实施例中，每个薄的导电平板被配置成用于连接到电源终端中各自 的一个电源终端。如果控制电路具有有不同供应电压的多个电源终端，这会特别有利。
[0010] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者的每个导电平板均有以一个或多个 边终止的板面，而且这些平板设置成使得它们的板面基本上彼此平行。第一种效应是这些 平板充当彼此的屏蔽平板。再者，此种结构允许有位于附近的电流返回路径，使得电流回路 能够保持为较小的。这会导致电源线路电感较小，有利于电源噪声。
[0011] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者的每个导电平板的板面有基本上相 等的面积。此实施例的优点是屏蔽效应会提高，也就是，这些平板中没有任何一者会延伸超 越其它平板。
[0012] 在调制装置的实施例中，每个导电平板具有基本上均匀的厚度。这还会造成这些 平板有均匀的电阻值和均匀的最大电流容量。
[0013] 在调制装置的实施例中，导电平板中其中一者的厚度与该平板板面的面积的平方 根的比值小于0. 01。这种结构会导致在电源连接的低电源电阻值方面有非常好的电气性 能。
[0014] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者的每个导电平板具有相对于该导电 板条其它导电平板基本上相同的电阻率。此较厚的导电板条可以有利地被选为共同的电源 终端，也就是，电气接地终端，其充当所有电源终端的电流返回路径。
[0015] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者的每个导电平板在其范围中的每个 位置处具有相对于该导电板条其它导电平板基本上相同的电阻率。此种配置的优点是电源 电位会被最佳定义（比较不会受到处理和设计变化的影响）。
[0016] 在调制装置的实施例中，每个导电平板的至少一个边适于连接至电源，而且每个 平板的至少一个不同的边适于连接至多个控制电路。在此实施例中，导电板条中的多个导 电平板可以被耦合至电源，其可以便利地被集成在其他基板或平板上。
[0017] 在调制装置的实施例中，控制电路分布在非射束区长边的基本上整个长度中，该 长边邻接一相邻射束区的长边。这种结构会在控制电路和射束区里面的细射束偏转器之间 造成最短的连接。
[0018] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者和一非射束区中的控制电路之间的 连接分布在一非射束区的长边的基本上整个长度中，该长边邻接一相邻射束区的长边。因 为其保持很低的寄生电感，所以，这会导致最佳的电流分布而且相当有利。
[0019] 在调制装置的实施例中，导电板条和控制电路之间的连接是通过调制装置主体的 一表面上的多个导电凸块或焊接点形成的。这是形成这些连接的一种便利的方式。
[0020] 在调制装置的实施例中，导电板条包括：第一部分，其有一面平行于该主体中放置 着凸块的表面；以及较大的第二部分，其基本上垂直于主体的表面。这样的配置使得容易使 用凸块来形成这些连接。
[0021] 在调制装置的实施例中，第一多个导电凸块或焊接点连接一导电板条的导电平板 中的第一导电平板；而第二多个导电凸块连接该导电板条的导电平板中的第二导电平板。
[0022] 在调制装置的实施例中，导电板条中至少其中一者包括：多个导电平板，它们被配 置成将正向电流从电源传导至控制电路和细射束偏转器；以及至少一个导电平板，其被配 置成用以将返回电流从控制电路和细射束偏转器处传导至电源，其中，正向电流基本上等 于返回电流。这样的配置有利于保持电流回路较小并且保持寄生电感较低。每个导电板条 的导电平板优选的被制造成具有相同的尺寸和相同的电阻率。流经每个导电板条的导电 平板的正向电流和返回电流优选地是相等的。由于这些平板的形状、它们的均匀电阻率、以 及这些平板之间非常短的分离距离的关系，平行的平板能够被近似视为平行的无限电流薄 板。又，因为流至调制装置的电流等于回流至电源的返回电流，所以，每个导电板条的导电 平板上的线性电流密度的总和接近于零。在第一级近似中，由导电板条所产生的磁场在导 电平板之间的区域中以外的每个地方都接近于零，因此，能够建立非常良好的磁场抵消效 果。
[0023] 在调制装置的实施例中，传导正向电流的平板的厚度的总和与传导返回电流的平 板的厚度的总和的比值介于〇. 7与1. 3之间，而且优选的是，约1. 0。这种配置确保电流密 度是均匀的，且因此，热效应（因为电流流动所造成的加热）会更均匀。
[0024] 在调制装置的实施例中，导电板条中其中一者的两个相邻导电平板之间的距离与 该相邻平板之板面的面积的平方根的比值小于0.01。这种配置导致在电源连接的低功率寄 生电感方面有非常好的电气性能。
[0025] 在调制装置的实施例中，导电板条进一步包括被夹在导电平板之间的电绝缘层。 此实施例的其中一项优点是，电绝缘层会提供导电板条的机械稳定性。
[0026] 在调制装置的实施例中，导电板条为矩形的，具有两个相等的长边以及两个相等 的短边。此实施例导致一种简单的设计，确保电源连接的低阻抗。
[0027] 在调制装置的实施例中，从平板至光敏组件的导电线路以及返回线路基本上垂直 于平板的板面。
[0028] 在调制装置的实施例中，射束区具有一长度与一宽度，该长度为该宽度的至少五 倍。此实施例导致一种简单的设计，确保电源连接的低阻抗。
[0029] 在调制装置的实施例中，射束区具有一长度与一宽度，该长度为该宽度的至少十 倍。此实施例导致一种简单的设计，确保该电源连接的更低阻抗。
[0030] 在调制装置的实施例中，细射束偏转器设置在射束区中的多个二维阵列中，每个 偏转器具备延伸在孔径的相对的侧上的多个电极，用以产生跨越该孔径的电压差。这种配 置提供一种由多个细射束偏转器组成的简单且紧凑的阵列。
[0031] 在调制装置的实施例中，控制电路包括多个光敏组件，它们被配置成接收载有图 案数据的经过调制的光学信号并且将该光学信号转换成用于控制细射束偏转器的电控制 信号。在该调制装置中接收信号在光学上的重大优点是可以轻易越过一真空屏障而不会干 扰该真空，也就是，经由一窗口或是一跨越该真空屏障的光纤。
[0032] 在调制装置的实施例中，控制电路进一步包括多个多路分解器，每个多路分解器 设置成从光敏组件中的一个对应光敏组件接收控制信号，并且多路分解该控制信号用以产 生多个控制信号，以便控制多个细射束偏转器。如果使用光纤以光学方式将这些信号传送 给操控器，则可利用的带宽会非常大。此带宽开启分享多个细射束偏转器之间的这种光纤 连接的机会。光纤具有特定的尺寸，并且因此会占用光刻设备中的空间。这便是此处所述 实施例何以非常便利的原因（达到最大资源共享，同时保持足够的带宽）。
[0033] 第二方面，本发明进一步涉及一种带电粒子光刻系统，其包括：i)射束产生器，被 配置成用于产生被分成多个不同群的多个带电粒子细射束；ii)根据前述项中任一项的调 制装置；以及iii)投射系统，被配置成用于将经调制的细射束投射到要被曝光的目标上。 再者，该调制装置的每个射束区被定位在这些细射束群中其中一群的路径中，而每个非射 束区则被定位在细射束群的路径外面。本发明的带电粒子光刻系统会便利地从本发明的调 制装置处获得好处。此系统具有和本发明调制装置的实施例类似的实施例。
[0034] 第三方面，本发明还涉及一种用于使用在本发明的带电粒子光刻系统中的电源配 置。该电源配置包括：i)至少一个输入终端，用以接收至少一个输入电压；ii)至少两个输 出终端，用以供应至少两个不同的输出电压；iii)至少一个DC-DC转换器，被耦合在至少一 个输入终端和至少两个输出终端之间，该至少一个DC-DC转换器被配置成用于将该至少一 个输入电压转换成至少两个不同的输出电压；以及iv)导电板条，被耦合到至少两个输出 终端，该导电板条被配置成用于被耦合至调制装置的电源终端，以便供电给调制装置，该导 电板条包括多个薄的导电平板。如先前实施例的讨论，本发明还可以实现在其上形成导电 板条的电源配置中，其中，该导电板条被配置成用于耦合至调制装置并且供电给调制装置。 同样地，每个导电板条都包括多个导电平板，如根据本发明的调制装置所述。
[0035] 该电源配置的实施例包括多个导电板条，它们被配置成供电给电源终端，每个导 电板条包括多个薄的导电平板。此实施例的优点与效果类似于调制装置的对应实施例的优 点与效果。
[0036] 在电源配置的实施例中，每个薄的导电平板被配置成用于连接至电源终端的各自 一个电源终端。此实施例的优点与效果类似于调制装置的对应实施例的优点与效果。
[0037] 根据第三方面的电源配置具有与根据第一方面的调制装置相同的实施例。
[0038] 在本发明的第四方面中，本发明提供一种用于使用在适于产生多群带电粒子细射 束的带电粒子光刻系统中的调制装置，该调制装置被配置成用于根据图案数据来调制带电 粒子细射束并且包括：板状主体；由多个细射束偏转器组成的阵列，细射束偏转器被配置 成用于偏转细射束；多个控制电路，被配置成用于接收该图案数据并且供应对应的控制信 号给细射束偏转器；以及多个导电板条，被配置成用于为控制电路和细射束偏转器供电。其 中，调制装置的主体被分成多个狭长的射束区以及被定位在射束区旁边的多个狭长的非射 束区，使得每个射束区的一长边邻接一相邻非射束区的一长边。其中，细射束偏转器被配 置成多个群，每一群细射束偏转器被放置在射束区的其中一者之中。其中，控制电路被放置 在非射束区中，每个控制电路被放置在与射束区中其中一者相邻的非射束区中其中一者之 中，射束区含有细射束偏转器中的一者或多者，该细射束偏转器从控制电路接收控制信号。 且其中，导电板条被连接至非射束区中的控制电路，每个导电板条均包括多个薄的导电平 板。
[0039] 根据第四方面的调制装置具有与根据第一方面的调制装置相同的实施例。
[0040] 该电源配置提供多条相对短的电源线路至控制电路和细射束偏转器。包括多个薄 的导电平板（每个平板皆连接至不同的电源终端）的多个导电板条可能沿着该板条长度的 全部或是大部分被连接至调制装置的控制电路，使得将电源连接至控制电路和细射束偏转 器的导电线路会在基本上垂直于导电板条的板面的方向中延伸，以便最小化它们的长度。 结果，由这些互连线路所生成的磁场能够被最小化。
[0041] 降低磁场是通过导电板条的特定结构配置的，导电板条每一者均由几个平行配置 的薄的导电平板所组成。每个导电板条的导电平板优选地被制造成具有相同的尺寸和相同 的电阻率。流经每个导电板条的导电平板的正向电流和返回电流优选地是相等的。由于 平板的形状、它们的均匀电阻率、以及平板之间非常短的分离距离，平行的平板能够被近似 视为平行的无限电流薄片。又，因为流至该调制装置的电流等于回流至电源的返回电流，所 以，每个导电板条的导电平板上的线性电流密度的总和接近于零。在第一级近似中，由导电 板条所产生的磁场在导电平板之间的区域中以外的每个地方都接近于零，因此，能够建立 非常良好的磁场抵消效果。
[0042] 在实施例中，由每个导电板条所提供的电源会与其它导电板条所提供的电源有效 隔离，因此，不会有经由该调制装置在导电板条之间流动的任何不合需要的电流。此实施例 的特征可应用于本发明的所有已提及的实施例。
[0043] 本发明的第五方面涉及一种用于将电源电气连接至负载的导电板条。该导电板条 包括多个导电平板。每个平板都有以一个或多个边终止的板面。每个导电平板具有基本上 均匀的厚度，而且非常薄。优选的是，每个平板的厚度与该平板的板面的面积的平方根的比 值小于0. 01。平板被配置成使得它们的板面基本上彼此平行。
[0044] 本发明的第五方面的导电板条可以被配置在本发明的第一方面至第四方面的任 一项中，并且可能包含在本发明的第一方面至第四方面中所述的导电板条的特征中的一或 更多者。

【专利附图】

【附图说明】
[0045] 现在将参考附图来进一步说明本发明的前述与其它目的，其中：
[0046]图1所示的是带电粒子多细射束光刻系统的概念性示意图；
[0047] 图2所示的是图1的光刻系统的器件的模块式配置；
[0048] 图3所示的是细射束阻断器阵列与电源的互连结构的简化示意图；
[0049] 图4示意性地显示细射束阻断器阵列的一部分的更详细布局的俯视图；
[0050]图5所示的是用于供能给该细射束阻断器阵列中的偏转器的电路的简化示意图；
[0051] 图6所示的是细射束阻断器阵列和多个功率板条组成的配置的简图；
[0052] 图7a所示的是图5实施例中的这些功率板条中其中一者的连接的更详细示图；
[0053] 图7b所示的是图7a实施例的这些功率板条中其中一者的连接的剖面图；
[0054] 图7c所示的是两个功率板条的另一种连接配置的剖面图；
[0055] 图8所示的是细射束阻断器阵列的射束区中的电气隔离的简化示意图；
[0056] 图9所示的是细射束阻断器阵列的供电单元中的功率调制的概念性结构；以及
[0057] 图10所示的是细射束阻断器阵列的供电单元的简化示意俯视图。

【具体实施方式】
[0058] 下面为本发明某些实施例的说明，其仅作为示例给出并且参考附图。附图并未依 照比例绘制而且其仅仅旨在达到解释的目的。不同附图中的等效元件会以相同的组件符号 来表示。
[0059] 图1所示的是以电子射束光学系统为基础的带电粒子多细射束光刻系统100的概 念性示意图，所有这些电子细射束没有常见的交叉。举例来说，这样的光刻系统已经在美 国专利第 6, 897, 458 号、第 6, 958, 804 号、第 7, 019, 908 号、第 7, 084, 414 号、第 7, 129, 502 号、以及第8, 089, 056号；美国专利申请公开第2007/0064213号、第2009/0261267号、第 2011/0079739号、以及第2012/0091358号中说明过，这些案件全部已受让给本发明的拥有 人，而且本文以引用的方式将它们完整并入。
[0060] 在图1中所示的实施例中，光刻设备100包括电子光学柱，其具有电子源101，用以 产生扩展的电子射束120。该扩展的电子射束120会被准直器透镜系统102准直。该经准 直的电子射束121会照射在孔径阵列103上，该孔径阵列103会阻隔射束的一部分，以生成 多个子射束（sub-beam) 122。聚光器透镜阵列104被包含在孔径阵列103后面，用以将子 射束122聚焦成，例如朝向射束阻挡阵列108中的对应开口。子射束122会照射多孔径阵 列105,其会阻隔每一道子射束的一部分，以从每一道子射束122生成多个细射束123。在 此示例中，孔径阵列105虽然从每一道子射束生成三道细射束；但是，实际上，每一道子射 束可以产生更多数量的细射束，举例来说，49道细射束，甚至更多，因此，该系统会产生非常 大量的细射束122,优选地，约10, 000至1，000, 000道细射束。
[0061] 电子细射束123会通过细射束阻断器阵列106中的孔径。孔径阵列105可以与细 射束阻断器阵列106相集成，举例来说，紧密的布置在一起或是设置成单个单元。细射束阻 断器阵列106与射束阻挡阵列108会一起操作，用以调制细射束或是接通或切断细射束。 该射束阻断器阵列106包含多个细射束偏转器，它们的形式可能是被定位在该阵列的每个 孔径附近的阻断器电极。藉由施加跨越孔径阻断器电极的电压，通过该孔径的细射束可能 被稍微偏转。在通过细射束阻断器阵列之后，这些细射束123会到达射束阻挡阵列108,该 射束阻挡阵列108有多个孔径被定位成使得没有被偏转的细射束会通过该射束阻挡阵列 而经偏转的细射束则会被该射束阻挡阵列阻隔（或者，与之相反）。如果细射束阻断器阵 列106偏转了细射束，则该细射束将不会通过射束阻挡阵列108中的对应孔径，而是会被阻 隔；但是，如果细射束阻断器阵列106没有偏转细射束，那么，该细射束将会通过射束阻挡 阵列108中的对应孔径，并且通过射束偏转阵列109与投射透镜阵列110。因此，细射束阻 断器阵列106与射束阻挡阵列108会一起操作，用以阻隔细射束123或是让细射束123通 过。
[0062] 射束偏转器阵列109会在与没有被偏转的细射束的方向基本上垂直的X及/或Y 方向中偏转细射束124,用以使这些细射束扫描过目标或基板的整个表面130。接着，细射 束124会通过投射透镜阵列110并且被投射在基板的表面130上。该投射透镜配置优选地 提供约100至500倍的缩小倍数。这些细射束124会照射在被定位于用以承载该基板的可 移动平台132上的基板的表面130上。对光刻应用来说，该基板经常包括具备带电粒子敏 感层或光阻层的晶圆。
[0063] 控制单元140可被提供用以提供用来控制细射束阻断器阵列106的信号。该控制 单元140可包括数据储存单元142、处理器单元143、以及数据转换器144。该控制单元140 可能被放置在远离该系统的其余部分之处，举例来说，位于无尘室内部的外面。该控制系统 可进一步被连接至致动器系统146,用以控制可移动平台132的移动以及偏转阵列109对细 射束的扫描。该控制单元140可能被配置成用于处理图案数据，以便产生用于控制阻断器 电极的信号。该图案数据可被转换成经过调制的光射束以便通过使用光纤传送至细射束阻 断器阵列106,经过调制的光射束从光纤末端被投射到放置在细射束阻断器阵列106上的 对应光敏组件上。这些光敏组件可以被配置成将光信号转换成用于控制阻断器电极的电信 号。
[0064] 带电粒子光刻设备100操作在真空环境中。要求真空是为了移除可能被带电粒子 射束离子化并且被吸引至该源的粒子，它们可能会解离并且被沉积在机械器件上，并且可 能会分散带电粒子射束。通常需要至少1(T6巴的真空。为保持真空环境，该带电粒子光刻 系统被放置在真空腔室135中。光刻设备100的所有主要组件优选地被容纳在一共同的真 空腔室中，这些主要组件包括带电粒子源、用于将细射束投射到基板上的投射系统、以及可 移动的平台。
[0065] 图2所示的是模块式光刻设备500的主要组件的简化框图。该光刻设备500优选 地是以模块方式来设计的，以便允许方便维修。主要子系统优选地是以自包含的且可拆卸 的模块来建构的，使得它们能够从该光刻设备中移除，而对其它子系统造成尽可能小的干 扰。这特别有利于被封闭在真空腔室中的光刻机，其中，对该部机器的接近会受到限制。因 此，故障的子系统可快速地被移除和置换，而不必断连或干扰其它系统。
[0066] 在图2中所示的实施例中，这些模块式子系统包括：照明光学模块501，其包含带 电粒子射束源101和射束准直系统102 ;孔径阵列和聚光器透镜模块502,其包含孔径阵列 103和聚光器透镜阵列104 ;射束切换模块503,其包含多孔径阵列105和细射束阻断器阵 列106 ;以及投射光学模块504,其包含射束阻挡阵列108、射束偏转器阵列109、以及投射透 镜阵列110。该等模块被设计成滑入对齐框架和从对齐框架滑出。在图2中所示的实施例 中，该对齐框架包括对齐内子框架505和对齐外子框架506。框架508透过振动阻尼底座 507来支撑这些对齐子框架505与506。基板130搁在基板支撑结构509上，该基板支撑结 构509接着被放置在卡盘510上。该卡盘510位于短行程平台511和长行程平台512上。 该光刻设备被封闭在真空腔室135中，该真空腔室可能包括一个或多个缪金属（mumetal) 屏蔽层515,并且搁置在由多个框架部件521支撑的底板520上。
[0067] 理所当然的是，没有电源，细射束阻断器阵列106便无法发挥功能。当细射束阻断 器阵列106被连接至电源并且工作时，电流会流经电源、电源与细射束阻断器阵列上的电 路之间的连接电线、以及这些电路和细射束阻断器阵列基板上的导电组件。这些电流全部 会产生磁场，这可能导致电子细射束的非所希望的偏转并且在光刻系统所实施的曝光中造 成错误。如所见，本发明的目标是有效地降低这些磁场，使得光刻系统的操作能够优化。
[0068] 图3所示的是本发明的一个实施例中的细射束阻断器阵列106与电源的互连结 构的简化示意图。该电源包括具有薄的导电平板形式的多个功率板条201、共同供电单元 300、以及数条电源连接线301。在图中所示的实施例中有六个功率板条201。每个功率板 条201皆具有薄的矩形平板的形式，有一大的面以薄边终止，并且具有一长边与一短边，从 图6和图7中可以更清楚看见；不过，也可以使用其它形状。这些功率板条201的朝向基本 上垂直于阻断器阵列106的表面（也就是，功率板条的面垂直于或接近垂直于阻断器阵列 的表面），这些长边中其中一者平行于该阻断器阵列106的表面，以便连接至此，这些短边 中其中一者垂直于阻断器阵列106的表面（或者与其形成某个角度），以便经过电源连接器 301连接至供电单元300。并非矩形结构，取而代之的是，该功率板条在和阻断器阵列106 进行连接的侧边以及被连接至供电单元300的侧边之间的整个轨道中可能具有固定宽度。 可以轻易了解的是，在这种情况中，还可以使用带状缆线（也就是，包括多个平行导体的带 状物）取代功率板条。
[0069] 图3还显示该细射束阻断器阵列106细分成多个射束区51和多个非射束区52。 电子细射束123由光刻系统的上游组件引导至细射束阻断器阵列106的射束区51上。射束 区51包含电子细射束123会通过的孔径（细射束阻断器阵列基板中的孔洞）、被定位在孔 径旁边用以偏转电子细射束123的阻断器电极，和将阻断器电极连接至用于供能给阻断器 电极的电路的导电线路。相反地，非射束区被定位在细射束123的正常路径外面，并且包含 用于对设置在相邻射束区51中的阻断器电极进行控制的电路。非射束区52可能包含光敏 组件，例如，光电二极管，用于接收载有图案数据的已调制光学信号并且将这些光学信号转 换成用于控制细射束偏转器的电信号。用以将已调制光学信号引导光敏组件的光纤还可能 被安排在非射束区中，以便防止干扰细射束123。功率板条201同样被定位在非射束区中， 以便防止干扰细射束123 ;而且，功率板条与细射束阻断器阵列106上的电路之间的连接同 样在非射束区52中进行。
[0070] 在一个实施例中，阻断器阵列106通常在平行于功率板条201的方向具有介于15 与35mm之间的长度L，举例来说，约33mm，而在垂直于功率板条的方向具有介于10与50mm 之间的宽度W。在一个实施例中，阻断器阵列106的主动区域（举例来说，涵盖所有射束区 51)的外形为33mmX30mm的方形。射束区51的宽度可以改变为合宜的数值，举例来说，落在 0. 1与5mm之间的范围中。在一个实施例中，射束区51与非射束区52的宽度为约2.0mm。
[0071] 在一个实施例中，如图3中所示，每个射束区51可以被两个相邻的非射束区52使 用。因此，一射束区中的细射束偏转器由被放置在该射束区两侧的非射束区中的光敏组件 所收到的信号来控制。又，对每个射束区51来说，电力由被连接至该射束区任一侧的非射 束区的两个相邻的功率板条201来供应。
[0072] 图4示意性地显示细射束阻断器阵列的一部分的更详细布局的俯视图，图中显示 单一射束区51。细射束阻断器阵列进一步在该射束区的每一侧包含一非射束区52,并且含 有负责控制通过该射束区的细射束123的偏转的电路与器件。于此实施例中，这些非射束 区52实际上覆盖该细射束阻断器阵列106中没有被保留用于射束区的所有表面区域。功 率由被连接至非射束区的两个功率板条201来供应。
[0073] 非射束区52包含光学接口区53以及功率接口区55,并且可能进一步包含额外的 接口区57。光学接口区53被保留用于在多条光纤与细射束阻断器阵列上的多个光敏组件 之间建立光学接口。光纤被配置成用以将已调制的光射束引导至被放置在该光学接口区53 内的光敏组件。光纤会被适当配置，使得它们实际上不会在该光刻系统的使用期间阻隔射 束区51内的电子细射束，举例来说，如图6b中所示。
[0074] 在一个实施例中，光学接口区53是一长矩形区（举例来说，33mmx2. 0mm)。光学 接口区53的其中一个长边是与射束区51的交界。射束区51中的细射束偏转器30被分布 在该射束区的长度中。光敏组件优选地被分布在光学接口区53的长度中，使得每个光敏组 件会被放置与射束区51中受到来自光敏组件的信号控制的（多个）细射束偏转器30靠近 的位置处。该光学接口区53的另一个长边是连接功率板条201的功率接口区55的边界。
[0075] 功率接口区55被配置成用于容纳功率装置，用以适当地供电给光学接口区53内 的光敏组件和其它器件以及射束区51中的细射束偏转器30。同样如图3中所示，功率板条 201延伸在基本上垂直于且远离阻断器阵列的方向中。此配置能够将功率线路散布在一广 大表面区域上，这会改善效率并且降低损失，举例来说，因为增大的辐射表面积导致热阻降 低。
[0076] 这些功率板条201与细射束阻断器阵列106上的电路之间的电气连接优选地被分 布在这些功率板条的一长边的长度中。功率板条201在光学接口区53侧边的位置会使得 从每个功率板条至相邻光敏组件以及用于驱动阻断器电极30所需要的其它电路使用相对 短的电源线路。
[0077] 狭长的射束区51 (含有分布在其长度中的多个细射束偏转器30)、相邻的狭长光 学接口区53 (含有分布在它们的长度中的多个光敏组件40)、以及相邻于狭长光学接口区 53的狭长功率接口区55 (含有分布在它们的长度中连接至狭长功率板条201的多条电气连 接线）所组成的配置可结合起来用于缩短从功率板条至由该功率板条供电的细射束偏转 器的距离。从功率板条至光敏组件以及用于驱动细射束偏转器的其它电路的导电电源线路 以及返回线路（电源共同线路）可能被配置成基本上垂直于功率板条的长边，以便最小化 这些导电线路的距离。结果，由这些导电线路所创造的磁场可以被最小化。再者，不同电源 线路之间的电压降变化同样会因减少线路的长度的变化而减少，举例来说，连接至比较靠 近功率板条的光敏组件相对于连接至更远的光敏组件。在上面提及的实施例中，光学接口 区53是细长的矩形区域，举例来说，33_x2. 0_。于此实施例中，光敏组件与相邻功率板 条201之间的距离的变化最大值为4mm;不过，光敏组件也可能被定位在66mm2区域中的任 何地方。因此，电源线路之间的电压降变化会大幅地降低。
[0078] 非射束区52可能进一步包含额外的接口区57,用以容纳进一步的电路系统，举例 来说，时钟电路及/或控制电路。该等功率板条201可能还会被配置成提供足够的功率给 额外的接口区57,用以供电给这些额外的电路。
[0079] 射束区51包括细射束偏转器30。细射束偏转器30优选地是具有第一电极32和 第二电极34的静电式偏转器。图4显示一种由多个独立细射束偏转器30组成的配置。偏 转器30可包括至少一个凹形电极32或34。适宜的是，如图中所示的实施例中，两个电极 32、34均有凹形的形状。孔径35在电极32、34之间延伸穿过射束区51中的细射束阵列基 板。凹形的形状导致电极32、34具有与圆柱形孔径35相符的形状。这种圆柱形孔径形状 本身适合防止引入特定的光学像差，例如，像散现象。藉由谨慎选择布局和偏转方向，细射 束的偏转便能够分散在所有的方向中，从而避免在光刻系统的特定位置中不合需要地累积 电荷。
[0080] 图5所示的是用于控制细射束偏转器30的电路的一个实施例的简化示意图。图中 所示的电路包括光敏组件40、多路分解器（demultiplexerMl、驱动器电路（举例来说，运 算放大器）351、第一电极32、以及第二电极34。多路分解器41可以控制多个偏转器30。在 图中所示的实施例中，光敏组件40在光学前端电路中实现。这些电路由三个电源终端202、 203、205来供电，并且具有共同的电源终端204。这些电源终端还可被称为电压源，而共同 的电源终端还可被称为电源共同端。然而，在电气上，就电气的观点来说，因为电线的显著 寄生阻抗，这样的共同的电源终端204不可以被视为单一电节点。举例来说，在一个实施例 中，电源终端202供应3. 3VDC，电源终端203供应2. 2VDC，而电源终端205供应1. 0VDC。
[0081] 光敏组件40由电源终端203和205来供电，并且被定位在非射束区52中。在一 个实施例中，载有用于控制一群细射束偏转器的经多路复用的图案数据的光学信号会被引 导到光敏组件40上。该光敏组件40将光学信号转换成电信号，并且将该电信号发送至多 路分解器41，该多路分解器41由电源终端205来供电。多路分解器41会多路分解该电信 号，以导出不同的控制信号，以便控制该群细射束偏转器中的每个个体的细射束偏转器30。
[0082] 如果特定的细射束123要被偏转，则供能信号会被传送至驱动电路351，该驱动电 路351被放置在射束区51中，靠近相关的第一电极32。由电源终端202来供电的驱动电 路351会放大该信号并且提供第一电极32与第二电极34之间的需要电压差，以便偏转入 射的电子射束123。相反地，如果特定的细射束123没有要被偏转的话，那么，对应的第一电 极32将不会被供能。这种情况下，入射的电子射束123会通过细射束偏转器30,而不会被 偏转。
[0083] 光敏组件40、多路分解器41、驱动电路351、以及第二电极34全部被连接至电源共 同端204，该电源共同端204承载返回电流给电源。
[0084] 图6a所示的是细射束阻断器阵列106和多个功率板条201组成的配置的简图。 每个功率板条201均被放置在相邻射束区51之间的非射束区52中垂直于细射束阻断器阵 列106的表面。每个功率板条201均沿着该功率板条的基本上整个长度连接至该细射束阻 断器阵列106上的电路，功率板条相邻于放置着细射束偏转器的射束区51。每个功率板条 201还具有经由连接器301到电源300的连接，这些连接是沿着该功率板条面向电源300的 侧边的基本上整个长度来进行的。
[0085] 图6b所示的是细射束阻断器阵列106的配置的简图，其显示被放置在一个或多个 光纤束208旁边的单块功率板条201。于此实施例中，该功率板条201是在两个光纤束208a 与208b之间，该光纤束全部被连接至射束区51a与51b之间的细射束阻断器阵列。该功率 板条201会供电给该功率板条每一侧两个射束区51a与51b中的半数细射束偏转器，而光 纤束208a与208b则分别供电给射束区51a与51b中的半数细射束偏转器。
[0086] 图7a所示的是功率板条201与细射束阻断器阵列106之间的连接的更详细透视 图。每个功率板条201均包括平行布置的一个或多个薄的导电平板。图中所示的实施例包 括四个功率平板202至205。每个功率平板可以被连接至电源300,用以供应不同的电压给 细射束阻断器阵列。举例来说，在一个实施例中，功率平板202至205可以分别充当电源终 端202 (举例来说，3. 3VDC)、电源终端203 (举例来说，2. 2VDC)、电源共同端204、以及电源终 端205 (举例来说，1VDC)。这些功率平板的材料优选地是良好的导体并且适合制作有均匀 维度的薄平板，例如，铜。三个电绝缘层被夹在四个功率平板202至205之间，以便保持该 功率板条201的超薄结构。功率平板202与205的两个外侧面可能同样被绝缘层覆盖。
[0087] 在一个实施例中，功率平板202至205的形式为矩形的平板。每个功率板条201的 平板202至205优选地具有近似相同的长度与高度，而每个平板的厚度则可能不同。每个 平板优选地在其范围中具有均匀的厚度以及均匀的电阻率。在更明确的实施例中，每个功 率平板的高度hslab为约28mm;长度略大（其为连接至电源连接器301的允许额留下余地）； 两个相邻平板之间的距离为约5ym;被夹在功率平板202至205之间的电绝缘层的厚度为 约10ym(也就是，两个相邻平板之间的距离）；外侧电绝缘层的厚度可以比较厚或是比较 薄，举例来说，8ym;功率平板202、203以及205的厚度为约4ym，而功率平板204的厚度 为约15ym。这些厚度、功率平板202至205的距离（也就是，功率板条201的厚度）、以及 功率平板202上的一个外侧电绝缘层的厚度的总和为约60ym。
[0088] 因为功率平板204接收在返回电路中流至电源的所有电流，所以，流经功率平板 204的电流大于在每个其它平板中流动的电流（而且优选地等于流经该功率板条中所有其 它平板的组合电流）。因此，优选的是，功率平板204具有充分较大的厚度用以降低它的电 阻率，以便导致在预期的操作条件下会与该功率板条中的其它平板有近似相等的热膨胀。 更一般来说，当功率板条的不同平板在操作中承载不同电流时，这些平板的相对厚度优选 地被配置成，使得因为电流流经平板，平板的预期热膨胀会近似相等。
[0089] 应该注意的是，对功率平板202至205来说，长度、高度、厚度、以及距离的相对大 小比绝对大小更为重要。长度、高度、厚度、以及距离可以一起改变为更小或更大。功率平 板202至205优选地被制造成在每个位置处具有相对彼此的相同的电阻率。因为功率平板 202至205的形状和它们的均匀电阻率，电流会在操作中均匀地在这些平板中流动。
[0090] 封闭式导电电路中的通用规则是流自电源的总电流等于在返回电路中流动的电 流。为方便起见，将在返回电路中流动的电流定义为负值，流经功率平板202至205的电流 的总和优选地近似为零。
[0091] 又，因为功率平板202至205的均匀电阻率而使得电流均匀地在平板202至205 上流动，且因为功率平板202至205具有相同的面积（也就是，功率平板202至205中的每 一者具有相同的长度和相同的高度），所以，功率平板202至205上的线性电流密度J(也就 是，流经单位长度的电流）的总和同样为零，也就是：

【权利要求】
1. 一种用于带电粒子光刻系统（100)的调制装置，该带电粒子光刻系统（100)适于产 生带电粒子细射束（123)，该调制装置被配置成用于根据图案数据来调制所述带电粒子细 射束并且包括： -板状主体（106); -被设置在所述板状主体（106)上用于偏转所述细射束的细射束偏转器（30)的阵列； -多个电源终端（202至205)，用于供应至少两个不同的电压； _多个控制电路（40、41)，设置在所述板状主体（106)上，以接收所述图案数据和供应 对应的控制信号给所述细射束偏转器（30)，其中，所述控制电路（40、41)由所述多个电源 终端（202至205)馈电；以及 -导电板条（201)，配置成为所述电源终端（202至205)中的一者或多者供电， 其中，所述调制装置的所述主体被分成狭长的射束区（51)以及狭长的非射束区（52)， 所述非射束区（52)被定位成邻近所述射束区（51)，使得所述射束区（51)的一长边邻接相 邻的非射束区（52)的一长边， 其中，所述细射束偏转器设置在所述射束区（51)， 其中，所述控制电路（40、41)设置在所述非射束区（52)，用于向所述细射束偏转器 (30)提供控制信号；以及 其中，所述导电板条（201)连接至所述非射束区（52)中的控制电路（40、41)，所述导电 板条（201)包括多个薄的导电平板（202至205)，其中，所述导电板条（201)形成电源配置 的一部分。
2. 根据权利要求1所述的调制装置，其包括多个导电板条（201)，配置成为所述电源终 端（202至205)供电； 其中，所述调制装置的所述主体被分成多个狭长的射束区（51)以及多个狭长的非射 束区（52)，该非射束区（52)被定位成邻近所述射束区，使得每个射束区的一长边邻接相邻 的非射束区的一长边； 其中，所述细射束偏转器按群设置，每群细射束偏转器被放置在所述射束区之一中； 其中，所述控制电路放置在所述非射束区，用于提供控制信号给所述细射束偏转器 (30)，每个控制电路被放置在与所述射束区之一相邻的一个非射束区，所述射束区包含从 所述控制电路接收控制信号的一个或多个所述细射束偏转器；以及 其中，所述导电板条（201)被连接至所述非射束区中的所述控制电路，每个导电板条 (201)包括多个薄的导电平板（202至205)，其中，所述多个导电板条（201)形成所述电源 配置的一部分。
3. 根据权利要求1或2所述的调制装置，其中，每个薄的导电平板（202至205)配置成 连接至各自一个所述电源终端（202至205)。
4. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条（201)之一中的 每个导电平板均具有一个以一个或多个边终止的板面，以及所述平板设置成使得其板面基 本上彼此平行。
5. 根据权利要求4所述的调制装置，其中，所述导电板条之一的每个导电平板的板面 具有基本上相等的面积。
6. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，每个所述导电平板具有基本上 均匀的厚度。
7. 根据权利要求4-6中任一项所述的调制装置，其中，所述导电平板之一的厚度与所 述平板的所述板面面积的平方根的比值小于〇. 01。
8. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条之一的每个导电 平板具有相对于该导电板条的其它导电平板基本上相同的电阻率。
9. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条之一的每个导电 平板在其范围中的每个位置处具有相对于该导电板条的其它导电平板基本上相同的电阻 率。
10. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，每个导电平板的至少一个边适 于连接至电源，以及每个平板的其他至少一个边适于连接至多个所述控制电路。
11. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述控制电路分布在与相邻射 束区长边邻接的非射束区长边的基本上整个长度中。
12. 根据权利要求11所述的调制装置，其中，所述导电板条之一与非射束区中控制电 路之间的连接分布在邻接相邻射束区长边的非射束区长边的基本上整个长度上。
13. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条与所述控制电路 之间的连接是通过所述调制装置的所述主体的表面上的多个导电凸块或焊接点形成的。
14. 根据权利要求13所述的调制装置，其中，所述导电板条包括：第一部分，其有一面 平行于所述主体中放置所述凸块的表面；以及较大的第二部分，其基本上垂直于所述主体 的所述表面。
15. 根据权利要求13或14所述的调制装置，其中，第一多个所述导电凸块或焊接点连 接导电板条的所述导电平板中的第一导电平板；第二多个所述导电凸块连接所述导电板条 的所述导电平板中的第二导电平板。
16. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条中的至少一个包 括：多个导电平板，它们被配置成将正向电流从电源传导至所述控制电路和细射束偏转器； 以及至少一个导电平板，其被配置成将返回电流从所述控制电路和细射束偏转器传导至所 述电源，其中，所述正向电流基本上等于所述返回电流。
17. 根据权利要求16所述的调制装置，其中，传导正向电流的所述平板的厚度的总和 与传导返回电流的所述平板的厚度的总和的比值介于0. 7与1. 3之间。
18. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条中的一个的两 个相邻导电平板之间的距离与所述两个相邻平板的所述板面的面积的平方根的比值小于 0. 01〇
19. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条进一步包括被夹 在所述导电平板之间的电绝缘层。
20. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述导电板条为矩形的，具有 两个相等的长边以及两个相等的短边。
21. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，从所述平板至所述光敏组件的 导电线路以及所述返回线路基本上垂直于所述平板的板面。
22. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述射束区具有长度和宽度， 该长度为该宽度的至少五倍。
23. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述射束区具有长度和宽度， 该长度为该宽度的至少十倍。
24. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述细射束偏转器设置在所述 射束区中的二维阵列，每个偏转器配备有电极，该电极延伸在一孔径的相反侧上，用于产生 跨越该孔径的电压差。
25. 根据前述权利要求中任一项所述的调制装置，其中，所述控制电路包括多个光敏组 件，该光敏组件被配置成接收载有所述图案数据的经调制的光学信号，并将所述光学信号 转换成电控制信号，用于控制所述细射束偏转器。
26. 根据权利要求25所述的调制装置，其中，所述控制电路进一步包括多个多路分解 器，每个多路分解器均被配置成从所述光敏组件中对应的一个光敏组件接收控制信号，并 且多路分解所述控制信号产生多个控制信号，以便控制多个细射束偏转器。
27. -种带电粒子光刻系统（100)，包括： 射束产生器（101、102、103、105)，被配置成产生多个带电粒子细射束（123); 根据前述权利要求中任一项的调制装置；以及 投射系统（110)，被配置成将经调制的细射束投射到要被曝光的目标（130)上； 其中，所述调制装置的每个射束区被定位在所述细射束群中其中一群的路径中，而每 个非射束区则被定位在所述细射束的路径外面。
28. -种用于如权利要求27所述的带电粒子光刻系统（100)的电源配置，该电源配置 包括： -至少一个输入终端，用以接收至少一个输入电压； -至少两个输出终端，用以供应至少两个不同的输出电压； -至少一个DC-DC转换器（312)，耦合在所述至少一个输入终端与所述至少两个输出终 端之间，该至少一个DC-DC转换器（312)被配置成将所述至少一个输入电压转换成所述至 少两个不同的输出电压；以及 -导电板条（201)，耦合至所述至少两个输出终端，该导电板条（201)配置成被耦合至 所述调制装置的所述电源终端（202至205)，用于供电给所述调制装置，所述导电板条包括 多个薄的导电平板（202至205)。
29. 根据权利要求28所述的电源配置，其包括多个导电板条（201)，该导电板条（201) 被配置成给所述电源终端（202至205)供电，每个导电板条（201)包括多个薄的导电平板 (202 至 205)。
30. 根据权利要求28或29所述的电源配置，其中，每个薄的导电平板（202至205)配 置成连接至各自一个的所述电源终端（202至205)。
31. -种在适于生成多个群的带电粒子细射束（123)的带电粒子光刻系统（100)中使 用的调制装置，该调制装置配置成根据图案数据调制所述带电粒子细射束，并且包括：板状 主体（106);细射束偏转器（30)的阵列，配置成用于偏转所述细射束；多个控制电路（40、 41)，配置成接收所述图案数据并且对应的控制信号供给所述细射束偏转器；以及多个导电 板条（201)，配置成为所述控制电路和细射束偏转器供电； 其中，所述调制装置的所述主体被分成多个狭长的射束区（51)以及多个狭长的非射 束区（52)，该非射束区定位成邻近所述射束区，使得每个射束区的长边邻接相邻非射束区 的长边； 其中，所述细射束偏转器按群设置，每一群细射束偏转器放置在所述射束区中的一个 中； 其中，所述控制电路被放置在所述非射束区中，每个控制电路被放置在与所述射束区 之一相邻的所述非射束区中其中一者之中，所述射束区含有从所述控制电路接收控制信号 的一个或多个所述细射束偏转器；以及 其中，所述导电板条连接至所述非射束区中的所述控制电路，每个导电板条包括多个 薄的导电平板（202至205)。
【文档编号】H01J37/317GK104428868SQ201380037416
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2013年5月8日 优先权日:2012年5月14日
【发明者】T.范德普特, H.登博尔 申请人:迈普尔平版印刷Ip有限公司