反光灯罩的制作方法

1.本实用新型涉及照明技术领域，特别是涉及一种反光灯罩。


背景技术：

2.随着高铁和汽车事业的发展，对高铁列车和汽车研发过程和生产制造的标准化程度逐步提高，列车出厂前要求对整车进行热工试验测试。高铁和汽车研发整车热工试验室，要求具有均匀的模拟太阳光照射在列车表面上，同时，环境仓为高低温交变环境，并且对于环境仓内的灯光控制，要求实现不同模式和独立的灯光自动控制。传统的模拟太阳光照射的灯具，其各灯具是固定在灯架上的，虽然传统的模拟太阳光照射的灯具的发光源所处的位置固定，多个灯具在测试车体上形成的光照区在边缘位置相互交叠，从而形成类似于太阳光的大面积辐射。
3.然而，传统的模拟太阳光照射的灯具中的反光杯的曲面结构是常见的圆锥曲线，对于需要集中光线以提高照射均匀性时，只能是通过调节发光体在反光杯内的位置实现，而这种方式在照射中心区域的照度还是较低，无法准确模拟太阳光的实际照射情况，从而严重影响对车体的测试结果，导致测试结果的准确性下降。同时，由于灯具在交变高低温环境仓内，结露是不可避免的，即灯具内部的空气通过冷热交替后形成小水珠，并附着在灯具的反光板上，其中，附着在反光板靠近灯泡的一面的水珠，会在自身重力的作用下，滴落在处于高温状态的灯泡上，使得灯泡局部受冷而破裂，导致灯具的损坏。甚至在灯泡破损之后，灯泡内的气体将会溢出，对环境造成污染。


技术实现要素：

4.基于此，有必要针对如何提高照射均匀性以及如何降低光源体破裂几率的技术问题，提供一种反光灯罩。
5.一种反光灯罩，包括罩体、灯体穿过圆框及出光圆框，所述罩体具有反光面和出光口，所述反光面沿预设方向的截面为抛物线结构，所述罩体开设有通过孔，所述通过孔所在的平面与所述出光口所在的平面平行，且所述通过孔的孔径小于所述出光口的孔径，
6.所述灯体穿过圆框与所述通过孔的边缘连接，所述出光圆框与所述出光口的边缘连接，所述灯体穿过圆框的内径等于所述通过孔的孔径，所述出光圆框的内径等于所述出光口的孔径，
7.所述出光圆框的外侧边凸出于所述罩体，所述出光圆框开设有若干安装孔，各个所述安装孔用于配合螺丝将所述罩体固定，所述出光圆框还设置有限位块，所述限位块凸出所述出光圆框的内侧且部分位于所述出光口中；
8.沿所述通过孔到所述出光口的方向，所述反光面设置有多个反光环，多个所述反光环的内径等距增加，每一所述反光环由若干反光板组成，每一所述反光板均为平行四边形结构，各所述反光环的反光板的面积等距增加；
9.每一所述反光板的表面对应设置有磨砂层，所述磨砂层覆盖所述反光板的表面，
且同一所述反光环中的相邻的两个磨砂层之间形成有v型沟槽。
10.在其中一个实施例中，相邻两个所述反光环之间的v型沟槽共线设置。
11.在其中一个实施例中，沿所述通过孔到所述出光口的方向，各个相邻两个所述反光环的v型沟槽组合形成抛物线结构。
12.在其中一个实施例中，每一所述磨砂层对应完全覆盖每一所述反光板的表面。
13.在其中一个实施例中，所述v型沟槽的槽底所在抛物线与相邻两个所述反光板之间的接触边缘线对应。
14.在其中一个实施例中，所述罩体的截面曲线为抛物线结构。
15.在其中一个实施例中，各所述安装孔沿所述出光圆框等距设置。
16.在其中一个实施例中，所述出光圆框一体式设置有所述限位块。
17.在其中一个实施例中，沿所述通过孔到所述出光口的方向，多个所述反光环的宽度等距增加。
18.在其中一个实施例中，所述罩体、所述灯体穿过圆框及所述出光圆框一体式成型设置。
19.上述反光灯罩，通过呈抛物线结构的反光面，反光面内的反光板的面积沿通过孔到出光口的方向逐渐增大，使得每一反光板上的接收的光线数量相等，进而通过调节发光体在反光杯内的位置，更方便快捷地实现对反光杯的焦点的调节，提高照射均匀性，从而准确地模拟出太阳光的实际照射情况；同时，通过对每一反光板的表面对应设置有磨砂层，磨砂层覆盖反光板的表面，且同一反光环中的相邻的两个磨砂层之间形成有v型沟槽，根据磨砂层的表面特性，即磨砂层表面具有毛细现象，使得所述磨砂层对水分子具有亲合性，增大了罩体对水珠的亲合力，从而使得罩体内形成的水珠沿着磨砂层的表面以及v型沟槽下滑，减少了水珠滴落在光源体上的几率，降低了光源体因局部受冷而破裂的几率，延长了光源体的使用寿命，从而延长了反光聚焦灯头的使用寿命，广泛用于影视、工业，尤其是碰撞照明、老化和阳光模拟等领域。
附图说明
20.图1为一个实施例中反光灯罩的结构示意图；
21.图2为图1所示实施例中反光灯罩的剖视结构示意图；
22.图3为一个实施例中反光灯罩的局部结构示意图。
具体实施方式
23.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型。但是本实用新型能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似改进，因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示
或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
24.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
25.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
26.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
27.需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
28.请一并参阅图1至图3，本实用新型的一实施例提供了一种反光灯罩10，该反光灯罩10包括罩体100、灯体穿过圆框200及出光圆框300，罩体100具有反光面110和出光口120，反光面110沿预设方向的截面为抛物线结构，罩体100开设有通过孔130，通过孔130所在的平面与出光口120所在的平面平行，且通过孔130的孔径小于出光口120的孔径。
29.灯体穿过圆框200与通过孔130的边缘连接，出光圆框300与出光口120的边缘连接，灯体穿过圆框200的内径等于通过孔130的孔径，出光圆框300的内径等于出光口120的孔径。
30.出光圆框300的外侧边凸出于罩体100，出光圆框300开设有若干安装孔310，各个安装孔310用于配合螺丝将罩体100固定，出光圆框300还设置有限位块320，限位块320凸出出光圆框300的内侧且部分位于出光口120中。
31.沿通过孔130到出光口120的方向，也就是图2中箭头指示的从标记a到标记b的方向，反光面110设置有多个反光环140，多个反光环140的内径等距增加，每一反光环140由若干反光板141组成，每一反光板141均为平行四边形结构，各反光环140的反光板141的面积等距增加。
32.每一反光板141的表面对应设置有磨砂层142，磨砂层142覆盖反光板141的表面，且同一反光环140中的相邻的两个磨砂层142之间形成有v型沟槽143。
33.上述反光灯罩10，通过呈抛物线结构的反光面110，反光面110内的反光板141的面积沿通过孔130到出光口120的方向逐渐增大，使得每一反光板141上的接收的光线数量相
等，进而通过调节发光体在反光杯内的位置，更方便快捷地实现对反光杯的焦点的调节，提高照射均匀性，从而准确地模拟出太阳光的实际照射情况；同时，通过对每一反光板141的表面对应设置有磨砂层142，磨砂层142覆盖反光板141的表面，且同一反光环140中的相邻的两个磨砂层142之间形成有v型沟槽143，根据磨砂层142的表面特性，即磨砂层142表面具有毛细现象，使得磨砂层142对水分子具有亲合性，增大了罩体100对水珠的亲合力，从而使得罩体100内形成的水珠沿着磨砂层142的表面以及v型沟槽143下滑，减少了水珠滴落在光源体上的几率，降低了光源体因局部受冷而破裂的几率，延长了光源体的使用寿命，从而延长了反光聚焦灯头的使用寿命。
34.在其中一个实施例中，相邻两个反光环140之间的v型沟槽143共线设置。这样使得相邻的两个v型沟槽143相连通。进一步地，沿通过孔130到出光口120的方向，各个相邻两个反光环140的v型沟槽143组合形成抛物线结构。这样，多个v型沟槽143之间形成贯通的抛物线型沟槽，如此，当罩体100内形成的水珠较多，而磨砂层142不能完全靠磨砂层142的表面特性的亲合力保留在磨砂层142时，水珠可进入v型沟槽143中。根据三角形勾股定理可知，三角形的两边长度之和大于第三边的长度，v型沟槽143的设置大大的增加了磨砂层142的表面积，同时v型沟槽143也为水珠提供了避让空间，更重要的，多个v型沟槽143之间形成贯通的抛物线型沟槽可在水珠严重增加时将水珠快速地排出至出光口120中，进而使得水珠排出罩体100的外部，极大地减少了水珠滴落在光源体上的几率，极大地降低了光源体因局部受冷而破裂的几率，延长了光源体的使用寿命，从而延长了反光聚焦灯头的使用寿命。
35.可以理解，由于磨砂层的表面为磨砂结构，即磨砂层靠近光源体的一面具有毛细现象，使得磨砂层的表面具有较强的亲水性，从而使得磨砂层与水珠之间的亲和力增大，进而使得罩体的内侧结露形成的水珠与磨砂层紧密贴合，便于结露形成的水珠贴附在磨砂层的表面，从而便于水珠顺着罩体的内侧表面下滑，即罩体内侧因结露形成的水珠沿着与罩体相同的弧形曲面下滑，也即水珠的下滑路径与罩体的抛物线相同。这样，水珠在自身重力的作用下沿着罩体的表面下滑，减少了水珠直接滴落在光源体上的几率，即水珠的下滑移动路径减少与光源体交叠的几率减小，降低了光源体受冷而破裂的几率，延长了光源体的使用寿命，从而延长了反光聚焦灯头的使用寿命。
36.为了进一步降低光源体受冷而破裂的几率，在其中一个实施例中，每一磨砂层142对应部分覆盖每一反光板141的表面。也就是说，磨砂层在罩体上的投影与罩体重叠。在本实施例中，磨砂层完全覆盖于罩体的内侧表面，也就是，，磨砂层完全覆盖于反光面。这样，罩体上的任意位置上的水珠均贴附于磨砂层上，其中，位于发光源上方的水珠，在磨砂层的亲水效果下，水珠远离发光源的几率增大，从而使得水珠滴落在发光源上的几率进一步减少，进一步确保了发光源的安全性，进一步降低了光源体受冷而破裂的几率，进一步延长了光源体的使用寿命，从而进一步延长了反光聚焦灯头的使用寿命。
37.在其中一个实施例中，罩体100的截面曲线为抛物线结构。反光面110沿预设方向的截面为抛物线结构。所述罩体110的抛物线弧度为80
°
～170
°
。在本实施例中，罩体的截面曲线为抛物线，即罩体沿平行于光源体的发光方向进行截取剖视图，也就是沿图2中箭头指示的从标记a到标记b的方向进行截取剖视图，罩体的边缘形成抛物线结构，而且，光源体位于抛物线的对称轴上。由于罩体用于对光源体所发射的光线进行反射聚焦，罩体的弧度影响水珠下磨砂层上的滑落情况，其中，当抛物线弧度过大时，即罩体的弧度大于170
°
时，罩
体上位于光源体上方且靠近出光孔位置的水珠的下滑力较小，即此位置的水珠沿垂直于罩体的切向力较小，使得此处的水珠的下滑较为缓慢，从而使得此处的水珠继续凝结，导致此处的水珠体积增大，从而导致此处的水珠在达到一定的体积和重量之后，即水珠的重力大于磨砂层对水珠的亲和力时，水珠将直接滴落在光源体上，造成光源体破裂；而当抛物线弧度过小时，即罩体的弧度小于80
°
时，罩体内的结露形成的水珠将快速下滑，即位于光源体上的水珠沿着磨砂层的表面快速下滑。而由于罩体外部存在灯罩，在水珠快速下滑之后，将会聚集在发光源的下方，使得罩体内的结露水珠聚集在一起，在反光聚焦灯头对水的蒸发速度较低时，光源体下方的水珠增多，从而在罩体和灯罩之间形成积水，造成对光源体的侵蚀，增大了光源体的破裂几率。而在本技术所在的弧度范围内，水珠在光源体的上下两侧聚集的情况减少，降低了光源体的破裂几率。在其中一个实施例中，罩体的抛物线弧度为135
°
。在确保水珠沿磨砂层的弧形表面下滑的情况下，进一步减少了水珠在光源体的上下两侧聚集的情况。
38.为进一步地提高反光灯罩结构的规整性，在其中一个实施例中，v型沟槽143的槽底所在抛物线与相邻两个所述反光板141之间的接触边缘线对应。在其中一个实施例中，各安装孔310沿出光圆框300等距设置。在其中一个实施例中，出光圆框300一体式设置有限位块320。在其中一个实施例中，沿通过孔130到出光口120的方向，多个反光环140的宽度等距增加。在其中一个实施例中，罩体100、灯体穿过圆框200及出光圆框300一体式成型设置。这样，确保整个罩体100的结构规整，照射均匀性得以确保，同时降低光源体破裂几率。
39.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
40.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。