专利名称：激光刻版装置的制作方法
技术领域：
本实用新型是关于一种激光刻版装置(laser beam recordingapparatus)，特别关于一种以非圆柱状激光光束进行基板刻版的激光刻版装置。
承上所述，激光刻版制程是利用激光刻板装置在涂布光阻剂的基板上蚀刻所需要的资料格式。更详细地说，激光刻版装置是利用激光光束，如蓝光激光光束(波长为457nm)或是紫外光激光光束(波长为364nm)，在光阻剂上刻上所需的EFM调变讯号。
请参照
图1所示，习知的激光刻版装置1包括一激光光源(laser lightsource)11、一光圈12、一光学构件(optical device)13以及一承载元件14。如图所示，激光光源能够依据所欲刻版至基板15的讯号发出一激光光束，光圈12具有一圆形开口，用以控制激光光束射入光学构件13的形状(shape)，光学构件13将激光光束聚焦，以便于基板15上形成一光点(circle spot)，承载元件14则用以承载基板15。
如上所述，由于光圈12的圆形开口能够阻隔部分激光光源11所发出的激光光束，所以能够限制激光光束形成圆柱状，因此激光光束被光学构件13聚焦于基板15上所形成的光点为一小圆点。如图2所示，激光光束于基板15上形成光点16，而基板15上所形成的沟槽151的宽度是依据光点16的直径而定，而由于光点16为圆形，所以光点16在平行基板15的轨道方向(track direction)所曝光的距离与沟槽151的宽度相同。另外，基板15上可以是形成复数个凹洞(图中未显示)，其宽度亦是依据光点16的直径而定。
此时，欲在基板15上形成所需的讯号的几何形状，除了利用光圈12来控制激光光束的形状外，还必须配合控制激光光源11所发出的激光光束的波长及强度，以便控制基板15的光阻剂(图中未显示)的曝光效杲。承上所述，当输出激光光束时，激光光源11必须消耗大量能量以发出激光光束，然而，激光光源11会因长期使用造成其输出功率降低，此时，为维持激光光束的强度，必须提高激光光源11的输出功率，因此，相对地增加了激光光源11所消耗的能量。
另外，激光光源11的输出功率会依据基板15的用途而有所不同，例如，当基板15用来制作可读写式光碟(CDRW)的母版时，激光光源11必须输出较高的功率，如0.88Vrms，而当基板15用来制作可读武光碟(CDR)的母版时，激光光源11可以输出较低的功率，如0.72Vrms。换言之，当进行制作可读写式光碟母版的刻版制程时，激光光源11必须输出较高的功率，进而加速激光光源11的耗损、缩短激光光源11的使用期限。另外，由于光圈12阻隔部分激光光源11所发出的激光光束，所以，当激光光源11所输出的功率越高时，被光圈12阻隔而损失的激光光束能量越大。
综上所述，如何提供一种能够于进行激光刻版时减低能量消耗及输出功率并达成所需的曝光效果的激光刻版装置，实是当前激光刻版技术的重要课题之一。
为达上述目的，依本实用新型的激光刻版装置包含一用以发出一激光光束的激光光源、一光圈、一光学构件、及一用以承载一基板的承载元件，其特征在于该光圈具有一非圆形开口，以便该激光光束经过该光圈后形成一非圆柱状激光光束，该光学构件将该非圆柱状激光光束以非圆点聚焦于该基板上。
根据上述技术方案该光圈具有一椭圆形开口，该激光光束经过该光圈后形成一椭圆柱状激光光束，该光学构件将该椭圆柱状激光光束收敛(converge)一成一椭圆光点(oval spot)，并聚焦于该基板上。该椭圆光点的长轴平行该基板的轨道方向(track direction)。更包含一圆形光圈，以便该激光光束经过该光圈及该圆形光圈后形成一圆柱状激光光束，该光学构件将该圆柱状激光光束以圆点(circle spot)聚焦于该基板上。
如上所述，由于依本实用新型的激光刻版装置是以具椭圆状开口的光圈来透过激光光源所发出的激光光束，所以能够增加射入光学构件的激光光束的强度，因此，依本实用新型的激光刻版装置能够减低能量消耗及输出功率并达成所需的曝光效果。
图号说明1 激光刻版装置 11 激光光源12 光圈 13 光学构件14 承载元件 15 基板151 沟槽 16 光点3 激光刻版装置 31 激光光源32 光圈 33 光学构件34 承载元件 35 基板351 沟槽 36 椭圆光点具体实施方式
以下将参照相关图式，说明依本实用新型较佳实施例的激光刻版装置，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。
请参照图3所示，依本实用新型较佳实施例的激光刻版装置3包括一激光光源31、一光圈32、一光学构件33以及一承载元件34。在本实施例中，光圈32具有一椭圆形开口，以便激光光源31发出的激光光束经过光圈32，形成一椭圆柱状激光光束射入光学构件33，光学构件33则将椭圆柱状激光光束收敛(converge)成一椭圆光点(oval spot)，并聚焦于承载元件34所承载的一基板35上。
如上所述，由于光圈32具有椭圆形开口，所以通过光圈32的激光光束大于通过习知光圈12(如
图1所示)的激光光束，因此，聚焦于基板35上的椭圆光点的总能量会大于习知的圆形光点。
需注意的是，熟悉该项技术者应当了解，通过光圈32的椭圆形开口的长轴方向的激光在经过光学构件33之后，会被投射于椭圆形光点的短轴方向，相对地，通过光圈32的椭圆形开口的短轴方向的激光在经过光学构件33之后，会被投射于椭圆形光点的长轴方向，因此，聚焦于基板35上的椭圆光点的强度会大于习知的圆形光点。
请参照图4所示，激光光束于基板35上形成椭圆光点36，而且椭圆光点36的长轴平行基板35的轨道方向(track direction)，基板35上所形成的沟槽351(或凹洞)的宽度是依据椭圆光点36的短轴长度而定。如图5所示，比较本实施例的激光刻版装置所形成的椭圆光点36与习知的激光刻版装置所形成的光点16(如
图1所示)，椭圆光点36比光点16多出部分面积，因此，椭圆光点36与光点16可以刻版具相同宽度的沟槽或凹洞，而椭圆光点36可以利用较低强度来达成与光点16相同的曝光效果。另外，如前所述，由于投射于椭圆形光点36的短轴方向的激光为通过光圈32的椭圆形开口的长轴方向的激光，所以椭圆光点36的强度会大于习知的圆形光点，进而提高曝光效果。也就是，依本实施例的激光刻版装置可以减低激光光源的输出功率，来进行所需的激光刻版制程。
如上所述，依本实用新型较佳实施例的激光刻版装置能够增加射入光学构件的激光光束的强度，进而减低激光光源的耗电量及输出功率，而能够达成所需的曝光效果。
需注意的是，在本实用新型的激光刻版装置中，光圈的开口可以是任何一种非圆形开口，例如长方形，激光光束经过此光圈聚焦于基板上所形成的光点的宽度是配合所要蚀刻的沟槽或凹洞的宽度，而光点的长度大于沟槽或凹洞的宽度，所以，本实用新型的激光刻版装置所形成的光点的面积能够大于习知的激光刻版装置所形成的圆形光点的面积，进而增加曝光面积并增加所形成的光点的强度，所以能够减少激光光源的耗电量及输出功率。
另外，依本实用新型的激光刻版装置可以更包括一圆形光圈，以便激光光束经过光圈及圆形光圈后形成一圆柱状激光光束，而光学构件将圆柱状激光光束以圆点聚焦于基板上。
本实用新型虽以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型的范围，任何熟习此项技艺者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可做些许的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视权利要求范围所界定的为准。
权利要求1.一种激光刻版装置，包含一用以发出一激光光束的激光光源、一光圈、一光学构件、及一用以承载一基板的承载元件，其特征在于该光圈具有一非圆形开口，以便该激光光束经过该光圈后形成一非圆柱状激光光束，该光学构件将该非圆柱状激光光束以非圆点聚焦于该基板上。
2.根据权利要求1所述的激光刻版装置，其特征在于该光圈具有一椭圆形开口，该激光光束经过该光圈后形成一椭圆柱状激光光束，该光学构件将该椭圆柱状激光光束收敛成一椭圆光点，并聚焦于该基板上。
3.根据权利要求2所述的激光刻版装置，其特征在于该椭圆光点的长轴平行该基板的轨道方向。
4.根据权利要求1所述的激光刻版装置，其特征在于更包含一圆形光圈，以便该激光光束经过该光圈及该圆形光圈后形成一圆柱状激光光束，该光学构件将该圆柱状激光光束以圆点聚焦于该基板上。
专利摘要一种激光刻版装置，包括一激光光源、一光圈、一光学构件以及一承载元件；其中光圈具有一非圆形开口，以便激光光源发出的激光光束经过光圈的非圆形开口后，形成非圆柱状的激光光束射至光学构件，光学构件将非圆柱状的激光光束以非圆点聚焦于承载元件所承载的一基板上。
文档编号B23K26/00GK2551389SQ0223330
公开日2003年5月21日 申请日期2002年4月26日 优先权日2002年4月26日
发明者黄建智, 邱昌模 申请人:精碟科技股份有限公司