悬吊式精密对位平台的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种悬吊式精密对位平台，包括顶座；顶座具有一构件装设面；悬吊式活动平台悬吊于构件装设面下方，且悬吊式活动平台锁设刀具装设台面能提供预定的刀具组设，进而能对设置于悬吊式活动平台间隔下方的工件进行加工；气浮间隙设置于磁吸座与导磁面域之间，且令磁吸座的预定部位形成一气体导引部连通气浮间隙，藉以能自外部将气压经由气体导引部导引喷入气浮间隙中产生气浮作用，使得磁吸座与导磁面域之间产生间隙而呈可相对运动调整状态；在不影响工件输送状态为前提下，直接通过移动调整悬吊式活动平台以调校刀具至正确加工位置，以使刀具每次进行加工动作时皆能保持正确位置，达到提升加工便利性与加工效率的目的。
【专利说明】悬吊式精密对位平台
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种对位平台装置，特别涉及一种能于不影响工件输送状态为前提下，而针对输送中工件调校加工精准度的创新精密对位平台。
【背景技术】
[0002]按，随着高科技时代的来临，多种制造加工的处理模式已进入奈米等级，众多精密产品于制程中有更高更严苛的精度要求，尤其是光电及晶圆产品，其精密定位技术成为必备条件。
[0003]精密加工制程中，对位平台(或称对位滑台)为产业界普遍采用的设备；目前习知对位平台的典型结构型态，主要是在一活动平台与一基座之间横设有数组X轴向与Y轴向的螺杆导动装置，螺杆导动装置的组装座部被定位于基座，螺杆导动装置的伸缩作动端则呈滑动配合状态连结于活动平台；藉此，其运作时能够通过控制螺杆导动装置的其中单组作动或整体同动等方式，达到驱使活动平台位移或转动以调校加工精准度的目的。
[0004]以一般习知对位平台的使用型态而言，通常是将基座组装于一默认位置呈定位状态，并将工件置放于活动平台上方，再通过活动平台位移作动而带动工件位移，以调校工件与刀具之间的加工位置；惟，此种习知对位平台使用上固然可达到精密位移调校的功能，但若运用于精密冲压加工的场合时，会产生不利调校、甚至无法调校工件位置的缺弊，举IXD面板产业的精密加工为例，通常先将被工作物锁设定位于活动平台上，通过导动装置驱使活动平台位移，以调校被工作物至正确加工位置，使刀具能由上向下进行冲压加工动作，但习知对位平台运用于此种加工型态时，必须于每一个被工作物加工完毕取下后，再放置下一被工作物重新进行调校加工位置、公差等流程，导致加工便利性、加工效率不佳以及不利调整的缺弊产生；而随着LCD面板业界发展进步，当所谓被工作物变为成卷的光学薄膜时，其送料方式将光学薄膜摊开而不断进行卷收输送，刀具同样于固定位置进行冲压动作，此时习知利用活动平台位移作动而调校工件的结构设计，无法于被工作物移动状态下调校位置来配合刀具加工位置，进而导致无法使用的窘境，使得产品的实用性大打折扣，亦会影响加工的便利性与加工效率，且对于必须大量生产的加工场合而言更显得不利，实难以符合产业界预期的使用要求。
【发明内容】
[0005]本实用新型的主要目的在于提供一种悬吊式精密对位平台。
[0006]为达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案:
[0007]—种所述精密对位平台包括:一顶座,为座体,该座体包括一顶部装配面以及一构件装设面；一悬吊式活动平台，呈悬吊型态设置于顶座的构件装设面下方一间隔高度位置处，该悬吊式活动平台包括一刀具装设台面以及一顶面，所述刀具装设台面能提供预定的刀具组设，进而能对设置于悬吊式活动平台间隔下方的工件进行加工；至少两组导动装置，连接于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台的顶面之间，导动装置藉以驱使控制悬吊式活动平台产生平移调整运动；一可控制式磁吸接口，包括设于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台顶面之间相对位处的一导磁面域与一磁吸座，该磁吸座能够通过控制朝导磁面域产生一磁吸作用力，令悬吊式活动平台相对于顶座的定位状态能够通过磁吸作用力而趋于刚性稳固状态；
[0008]一气浮间隙，设置于磁吸座与导磁面域之间，且令磁吸座的预定部位形成一气体导引部连通该气浮间隙，藉以能自外部将气压经由气体导引部导引喷入气浮间隙中产生气浮作用，使得磁吸座与导磁面域之间产生间隙而呈可相对运动调整状态；
[0009]藉此创新独特设计，使本实用新型对照先前技术而言，能在不影响工件输送状态为前提下，直接通过移动调整悬吊式活动平台以调校刀具至正确加工位置，以使刀具每次进行加工动作时皆能保持正确位置，藉以能针对输送中的工件调校加工精准度，以达到大幅提升加工便利性与加工效率，并利于大量生产的加工场合。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型结构较佳实施例的分解立体图。
[0011]图2为本实用新型结构较佳实施例的组合立体图。
[0012]图3为本实用新型结构较佳实施例的组合剖视图。
[0013]图4为本实用新型装设于设备上的使用状态图。
[0014]图5为本实用新型的磁吸座内部结构立体剖视图。
[0015]图6为本实用新型可通过喷气孔将气压喷入气隙中形成气浮作用的状态示意图。
[0016]图7为本实用新型磁吸作用的状态示意图。
[0017]图8为本实用新型装设有防落构件的实施型态局部放大图。
[0018]图9为本实用新型装设有防落构件的平面图。
【具体实施方式】
[0019]如图1至7所示，本实用新型悬吊式精密对位平台A包括下述构成:
[0020]一顶座10，为一座体，包括一顶部装配面11以及一构件装设面12 ;其中所述顶部装配面11能配合装设于一设备(如图4标示箭号B)的预定位置；
[0021]一悬吊式活动平台20，呈悬吊型态设置于顶座10的构件装设面12下方一间隔高度位置处，该悬吊式活动平台20包括一刀具装设台面21以及一顶面22，所述刀具装设台面21能提供预定的刀具组设，进而能对设置于悬吊式活动平台20间隔下方的工件(图面省略)进行加工；
[0022]至少两组导动装置30，连结于顶座10的构件装设面12与悬吊式活动平台20的顶面22之间，导动装置30藉以驱使控制悬吊式活动平台20产生平移调整运动；
[0023]一可控制式磁吸接口 40，包括设于顶座10的构件装设面12与悬吊式活动平台20顶面22之间相对位处的一导磁面域41与一磁吸座42,该磁吸座42能够通过控制朝导磁面域41产生一磁吸作用力，令悬吊式活动平台20相对于顶座10的定位状态能够通过磁吸作用力而趋于刚性稳固状态；具体实施上，该导磁面域41设置于顶座10或悬吊式活动平台20任其中一者的预定区域，而磁吸座42能组设定位于悬吊式活动平台20或顶座10任其中一者与导磁面域41对位处(本实施例的导磁面域41设置于顶座10,而磁吸座42能组设定位于悬吊式活动平台20)。
[0024]一气浮间隙50，设置于磁吸座42与导磁面域41之间(此处请配合图5、6所示)，且令磁吸座42的预定部位形成一气体导引部51连通该气浮间隙50，藉以能自外部将气压经由气体导引部51导引喷入气浮间隙50中产生气浮作用，使得磁吸座42与导磁面域41之间产生间隙而呈可相对运动调整状态；
[0025]如图1、3、6所示，其中该可控制式磁吸接口 40可为一电磁式吸附接口，以使该磁吸座42包括有至少两组线圈组421，磁吸座42能够通过线圈组421的通电产生电磁力；而磁吸座42所产生的电磁力实施上呈可调整状态，通过减弱或增强该磁吸座42的电磁力，并配和自外部将气压经由气体导引部51导引喷入气浮间隙50中产生气浮作用，以使磁吸座42与导磁面域41之间呈可相对运动调整状态，或者令悬吊式活动平台20呈磁吸刚性稳固状态，使用者能依照使用情形自由调整。
[0026]或者，该可控制式磁吸接口亦可为一机械式磁吸座，能够通过机械切换方式产生磁吸力以加强定位活动平台。(注:本例图面省略绘示)
[0027]另如图5、6所示，其中该磁吸座42所形成的气体导引部51具体实施上包括间隔布设于磁吸座42的至少两个立向喷气孔52、以及形成于磁吸座42内部连通该立向喷气孔52的供气导流道53所构成，藉以能自外部将气压W(仅标示于图6)导引至该立向喷气孔52复喷入气浮间隙50中形成气浮作用。
[0028]如图8、9所示，其中该顶座10预定位置处另设置有一防落构件60，该防落构件60能辅助支撑悬吊式活动平台20，令该悬吊式活动平台20装载刀具后能避免负荷过重而产生掉落的疑虑；所述防落构件60实施上装设于顶座10周侧呈L板体型态(该防落构件60的型态不局限于此)，且令悬吊式活动平台20的刀具装设台面21与防落构件60底部相对应位置处开设有一缺口 61，以使防落构件60底部能伸入缺口 61内，进而能辅助限位支撑该悬吊式活动平台20。
[0029]通过上述结构组成设计，本实用新型所揭精密对位平台A的核心设计，主要能在不影响工件输送状态为前提下，直接通过移动调整悬吊式活动平台20以调校刀具至正确加工位置，藉以能针对输送中的工件调校加工精准度，例如本实用新型运用于精密冲压的加工场合时，工件若为成卷的光学薄膜，能于工件卷收输送的状态直接通过移动调整悬吊式活动平台20来调校刀具位置，如此即能修正刀具与工件之间的加工精准度，使得刀具每次向下进行冲压时皆能保持在正确加工位置，进而改善习知对位平台必须将工件放置于活动平台上加工，而无法于工件输送状态下作调校动作的缺弊，进一步大幅提升加工便利性与加工效率，并利于大量生产的加工产合，另一方面，本实用新型利用磁吸座42朝导磁面域41产生磁吸作用力，令悬吊式活动平台20于定止状态时，与顶座10之间能够通过磁吸作用力Fl (如图7所示)相互吸住，如同单一金属块状结构而趋于刚性稳固状态，进而能于加工过程中大幅提升精密对位平台的加工精度与质量，具体而言，本实用新型能达到大幅提升加工的便利性、加工效率以及加工精度与质量，并兼具提升产品的适用性与实用性等诸多产业实用效益。
[0030]以上所述，仅为本发明的【具体实施方式】，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本【技术领域】的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
【权利要求】
1.一种悬吊式精密对位平台，其特征在于包括: 一顶座，为一座体，该座体包括一顶部装配面和一构件装设面； 一悬吊式活动平台，呈悬吊型态设置于顶座的构件装设面下方一间隔高度位置处，该悬吊式活动平台包括一刀具装设台面以及一顶面，所述刀具装设台面能提供预定的刀具组设，进而能对设置于悬吊式活动平台间隔下方的工件进行加工； 至少两组导动装置，连接于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台的顶面之间，导动装置驱使控制悬吊式活动平台产生平移调整运动； 一可控制式磁吸接口，包括设于顶座的构件装设面与悬吊式活动平台顶面之间相对位处的一导磁面域与一磁吸座，该磁吸座能够通过控制朝导磁面域产生一磁吸作用力，令悬吊式活动平台相对于顶座的定位状态能够通过磁吸作用力而趋于刚性稳固状态； 一气浮间隙，设置于磁吸座与导磁面域之间，且令磁吸座的预定部位形成一气体导引部连通该气浮间隙，藉以能自外部将气压经由气体导引部导引喷入气浮间隙中产生气浮作用，使得磁吸座与导磁面域之间产生间隙而呈可相对运动调整状态。
2.根据权利要求1所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述顶座预定位置处另设置有一防落构件，该防落构件能辅助支撑悬吊式活动平台。
3.根据权利要求1所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述导磁面域设置于顶座或悬吊式活动平台任其中一者的预定区域，而磁吸座组设定位于悬吊式活动平台或顶座任其中一者与导磁面域对位处，通过磁吸座与磁吸面域之间产生的磁吸作用力，以使悬吊式活动平台相对于顶座的定位状态能够趋于刚性稳固状态。
4.根据权利要求1、2或3所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述可控制式磁吸接口为一电磁式吸附接口，以使该磁吸座包括有至少两组线圈组，磁吸座通过线圈组的通电产生电磁力。
5.根据权利要求4所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述磁吸座所形成的气体导引部包括间隔布设于磁吸座的至少两个立向喷气孔、以及形成于磁吸座内部连通该立向喷气孔的供气导流道所构成，藉以能自外部将气压导引至该立向喷气孔再喷入气浮间隙中形成气浮作用。
6.根据权利要求5所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述磁吸座所产生的电磁力呈可调整状态，通过减弱或增强该磁吸座的电磁力，并配和自外部将气压经由气体导引部导引喷入气浮间隙中产生气浮作用，以使磁吸座与导磁面域之间呈可相对运动调整状态，或者令悬吊式活动平台呈磁吸刚性稳固状态。
7.根据权利要求1或2所述的悬吊式精密对位平台，其特征在于，所述可控制式磁吸接口为一机械式磁吸座，能够通过机械切换方式产生磁吸力以加强定位悬吊式活动平台。
【文档编号】B23Q1/25GK203390546SQ201320217342
【公开日】2014年1月15日 申请日期:2013年4月25日 优先权日:2013年4月25日
【发明者】庄运清, 陈伟伦 申请人:高明铁企业股份有限公司