本实用新型涉及激光雕刻机领域，特别是一种内雕机。
背景技术：
激光内雕技术是目前国际上最先进的，也是最流行的玻璃内雕刻加工方法，通过将脉冲强激光在玻璃体内部聚焦，产生微米量级大小的汽化爆裂点，通过计算器控制爆裂点再玻璃体内的空间位置，构成绚丽多姿的立体图案，也可以用于对其他材料进行内雕或表面雕刻。现有的激光内雕机，基本上激光雕刻头的朝向都是固定的，而且大部分的激光雕刻头都只能在一个平面上运动，雕刻范围较小，且只能朝向一个方向进行雕刻，在需要旋转雕刻的产品上进行雕刻十分困难。
技术实现要素：
为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种能在多个方向进行雕刻，且运动空间较大的激光内雕机。
本实用新型为解决问题所述采用的技术方案是：
一种激光内雕机，包括：
激光雕刻头，所述激光雕刻头用于对待雕刻物进行雕刻，
驱动机构，所述驱动机构与所述激光雕刻头相连，所述驱动机构可以驱动所述激光雕刻头运动，所述驱动机构包括：
第三支座，所述第三支座上设置有水平导轨，所述水平导轨上设置有可沿水平导轨运动的第二支座，还包括一个与第二支座相连并驱动第二支座沿水平导轨运动的第四驱动装置；
第二支座，所述第二支座上设置有垂直导轨，垂直导轨上设置有可沿垂直导轨运动的第一支座，还包括一个与第一支座相连并驱动第一支座沿垂直导轨运动的第三驱动装置；
第一支座，所述第一支座上设置有竖直导轨上，所述竖直导轨上设置有可沿竖直导轨运动的基座，还包括一个与基座相连并驱动基座沿竖直导轨运动的第二驱动装置；
基座，所述基座上安装有可以在基座表面旋转的激光雕刻头，还包括一个与激光雕刻头相连并驱动激光雕刻头在基座表面进行旋转的第一驱动装置。
作为上述技术方案的进一步改进，所述第一驱动装置为旋转电机；所述第二驱动装置，第三驱动装置，第四驱动装置均为直线电机。
作为上述技术方案的进一步改进，所述第一驱动装置为旋转气缸；所述第二驱动装置，第三驱动装置，第四驱动装置均为液压气缸。
本实用新型的有益效果：本实用新型包括激光雕刻头和驱动机构，所述驱动机构包括基座，设置有竖直导轨的第一支座，设置有垂直导轨的第二支座、设置有水平导轨的第三支座，所述基座设置于所述竖直导轨上，所述第一支座设置于所述垂直导轨上，所述第二支座设置于所述水平导轨上，从而形成一个三轴驱动机构，通过所述基座，竖直导轨，垂直导轨，水平导轨的相互运动，可以驱动所述激光雕刻头做三维运动及旋转，相对于现有技术，同时具备自动内雕的功能，可以在机型大小相同的情况下进行更大幅面的雕刻，且能对不同方向进行雕刻，从而实现酒瓶、圆筒、灯罩等薄壁产品的旋转内雕。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1为本实用新型第一种实施例的结构示意图。
具体实施方式
参照图1，一种激光内雕机，包括：激光雕刻头10，所述激光雕刻头10用于对材料进行雕刻，还包括驱动机构，所述驱动机构可以驱动所述激光雕刻头10运动。所述驱动机构至少包括：第三支座50，所述第三支座50上设置有水平导轨，所述水平导轨上设置有可沿水平导轨运动的第二支座40，还包括一个与第二支座40相连并驱动第二支座40沿水平导轨运动的第四驱动装置；第二支座40，所述第二支座40上设置有垂直导轨，垂直导轨上设置有可沿垂直导轨运动的第一支座30，还包括一个与第一支座30相连并驱动第一支座30沿垂直导轨运动的第三驱动装置；第一支座30，所述第一支座30上设置有竖直导轨上，所述竖直导轨上设置有可沿竖直导轨运动的基座20，还包括一个与基座20相连并驱动基座20沿竖直导轨运动的第二驱动装置；基座20，所述基座20上安装有可以在基座20表面旋转的激光雕刻头10，还包括一个与激光雕刻头10相连并驱动激光雕刻头10在基座20表面进行旋转的第一驱动装置。通过竖直导轨、垂直导轨、水平导轨形成了一个三轴驱动装置，从而驱动所述激光雕刻头10做三维运动，扩大了激光雕刻头10的运动范围，从而相对于现有技术可以对更大的材料进行雕刻，通过所述激光雕刻头10在基座20表面的旋转运动，再结合三维运动，从而可以对不同方向进行雕刻，从而实现酒瓶、圆筒、灯罩等薄壁产品的旋转雕刻。相对现有技术雕刻精度更好，难度更小，且更为稳定。
优选为所述第一驱动装置为旋转电机，所述第二驱动装置，第三驱动装置，第四驱动装置均为直线电机。次优选为所述第一驱动装置为旋转气缸，所述第二驱动装置，第三驱动装置，第四驱动装置均为液压气缸。
由于所述激光雕刻头10能通过驱动机构驱动作用下在空间中做三维运动及旋转，所述被雕刻物品不需要像传统技术一样，需要放置于固定的位置来进行雕刻。优选在靠近本实用新型的激光雕刻头10的一侧放置一个多层的雕刻物摆放架60，将待雕刻物品放置于所述雕刻物摆放架60上，然后操控本实用新型对雕刻物摆放架60上的待雕刻物依次进行雕刻。
以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。