一种双面镭雕机的制作方法

文档序号:32447400发布日期:2022-12-07 00:59阅读:38来源:国知局
一种双面镭雕机的制作方法

1.本实用新型涉及镭雕机技术领域,更具体地说,涉及一种双面镭雕机。


背景技术:

2.镭雕机又称激光雕刻机、激光打标机,是利用镭射光束在物料表面或是透明物料内部雕刻出永久的印记;镭射光束对物质可以产生化生效应与特理效应两种,物质在瞬间吸收镭射光后会产生物理或化学反应,从而被刻出痕迹从而显示出图案或文字。镭雕机可广泛地用于对各种金属材料以及非金属材料进行精细雕刻的领域。
3.而现有的镭雕机大多只有一个镭雕头,当需要对待镭雕产品的正面和背面进行镭雕时,只能先对待镭雕产品的任一面进行镭雕,然后人工进行翻转后再对另一面进行镭雕,现有的镭雕机一次只能对待镭雕产品的一面进行镭雕,工作效率低。


技术实现要素:

4.本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的上述缺陷,提供一种双面镭雕机。
5.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种双面镭雕机,包括呈上下堆叠设置的上机架和下机架,所述上机架上设有沿y轴方向运输工件板的y轴移料运输机构;所述y轴移料运输机构上设有供所述工件板放置的待镭射区,和将所述工件板固定压紧在所述待镭射区的压料组件;所述上机架上还设有对所述工件板的上表面进行镭射的第一镭雕头机构,带动所述第一镭雕头机构在所述y轴移料运输机构的上方沿z轴方向移动的升降机构,带动所述第一镭雕头机构在所述y轴移料运输机构的上方移动的第一xy轴平移组件;所述下机架上设有对所述工件板的下表面进行镭射的第二镭雕头机构,带动所述第二镭雕头机构在所述y轴移料运输机构的下方移动的第二xy轴平移组件;
6.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述y轴移料运输机构包括活动轨道、固定轨道,和调节所述活动轨道与所述固定轨道间距的调距组件;
7.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述压料组件包括两个分别设置于所述活动轨道和所述固定轨道上的压板,和带动所述压板在所述待镭射区上升降的压料气缸;
8.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述活动轨道和所述固定轨道相对一侧表面均连续设置有第一传输带组件、第二传输带组件和第三传输带组件;两所述第一传输带组件构成第一移料传输组件;两所述第二传输带组件构成第二移料传输组件;两所述第三传输带组件构成第三移料传输组件;
9.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述第一移料传输组件、所述第二移料传输组件和所述第三移料传输组件均相互独立工作;
10.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述第二传输带组件的上方为所述待镭射区,其前后两端均活动安装有止档组件;
11.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述止档组件包括止挡件和带动所述止挡
件在所述第二传输带组件上伸缩的伸缩气缸;当工件板移动到所述待镭射区时,所述伸缩气缸带动所述止挡件与所述工件板的端头抵接;
12.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述第一镭雕头机构和所述第二镭雕头机构均包括激光光路发生组件、聚焦组件和光源组件;所述激光光路发生组件与所述聚焦组件通过连接部贯通连接;所述聚焦组件的一侧还设有光源组件,和与所述光源组件垂直的ccd镜头;
13.本实用新型所述的双面镭雕机,其中,所述第一xy轴平移组件和所述第二xy轴平移组件均包括带动所述第一镭雕头机构或所述第二镭雕头机构沿x轴方向移动的x轴平移组件,和带动所述x轴平移组件沿y轴方向移动的y轴平移组件。
14.本实用新型的有益效果在于:该双面镭雕机操作简单,使用方便,y轴移料运输机构将工件板运输到带镭射区后,压料组件将工件板固定住,能够有效防止工件板发生偏移;通过第一镭雕头机构对工件板的上表面进行镭射,第二镭雕头机构对工件板的下表面进行镭射,实现了同时对同一工件板的上下两面进行镭射,工作效率高;且y轴移料运输机构为间距可调的运输机构,通过调距组件可以调节活动轨道与固定轨道之间的间距,以适应传输不同规格尺寸的工件板,具有很高的实用性。
附图说明
15.为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,下面描述中的附图仅仅是本发明的部分实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他附图:
16.图1是本实用新型较佳实施例的一种双面镭雕机的结构示意图;
17.图2是本实用新型较佳实施例的上机架的结构示意图;
18.图3是本实用新型较佳实施例的下机架的结构示意图。
具体实施方式
19.为了使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本实用新型的部分实施例,而不是全部实施例。基于本发明的实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型的保护范围。
20.本实用新型较佳实施例的一种双面镭雕机,如图1-3所示,包括呈上下堆叠设置的上机架100和下机架200,上机架100上设有沿y轴方向运输工件板11的y轴移料运输机构300;y轴移料运输机构300上设有供工件板11放置的待镭射区12,和将工件板11固定压紧在待镭射区12的压料组件301;上机架100上还设有对工件板11的上表面进行镭射的第一镭雕头机构101,带动第一镭雕头机构101在y轴移料运输机构300的上方沿z轴方向移动的升降机构102,带动第一镭雕头机构101在y轴移料运输机构300的上方移动的第一xy轴平移组件;该升降机构为升降驱动气缸或者是现有技术中其他能带动第一镭雕头机构升降的机构;下机架200上设有对工件板11的下表面进行镭射的第二镭雕头机构201,带动第二镭雕头机构201在y轴移料运输机构300的下方移动的第二xy轴平移组件。
21.该双面镭雕机操作简单,y轴移料运输机构将工件板运输到带镭射区后,压料组件将工件板固定住,能够有效防止工件板发生偏移;通过第一镭雕头机构对工件板的上表面进行镭射,第二镭雕头机构对工件板的下表面进行镭射,实现了同时对同一工件板的上下两面进行镭射,工作效率高;且y轴移料运输机构为间距可调的运输机构,通过调距组件可以调节活动轨道与固定轨道之间的间距,以适应传输不同规格尺寸的工件板,实用性高,使用方便。
22.y轴移料运输机构300包括活动轨道302、固定轨道303,和调节活动轨道302与固定轨道303间距的调距组件304;
23.具体地,调距组件包括丝杆,和与丝杆传动连接的滑块;活动轨道固定安装于滑块上;丝杆的一端通过丝杆固定座与固定轨道固定连接,另一端设有驱动滑块沿丝杆靠近或远离固定轨道的驱动电机;通过调距组件可以调节活动轨道与固定轨道之间的间距以适应不同尺寸的工件板移料需求;值得说明的是,调距组件也可以采用其他现有的调距结构,基于该处的简单变换均属于本技术保护范围。
24.具体地,压料组件301包括两个分别设置于活动轨道302和固定轨道303上的压板3011,和带动压板3011在待镭射区12上升降的压料气缸3012;活动轨道302和固定轨道303相对一侧表面均连续设置有第一传输带组件305、第二传输带组件306和第三传输带组件(图中未示);两第一传输带组件305构成第一移料传输组件;两第二传输带组件306构成第二移料传输组件;两第三传输带组件(图中未示)构成第三移料传输组件。
25.值得说明的是,该第一传输带组件、第二传输带组件和第三传输带组件均包括传送皮带以及驱动其转动的电机组成;第一移料传输组件、第二移料传输组件和第三移料传输组件均相互独立工作。
26.该y轴移料运输机构结构简单,通过依次设置的第一移料传输组件、第二移料传输组件和第三移料传输组件,多段传输带组件相互独立工作,不仅方便检修,而且使用灵活,工件板可以从第一移料传输组件上料,也可以从第三移料传输组件上料,当工件板从第一移料传输组件上料时,第一移料传输组件为进料端,第三移料传输组件为出料端;当工件板从第三移料传输组件上料时,第三移料传输组件为进料端,第一移料传输组件为出料端;操作方便,灵活;当需要对工件板进行反复雕刻时,不需要工作人员两端跑,提高了工作效率。
27.具体地,第二传输带组件306的上方为待镭射区12,其前后两端均活动安装有止档组件307;止档组件307包括止挡件3071和带动止挡件3071在第二传输带组件306上伸缩的伸缩气缸3072;当工件板11移动到待镭射区12时,伸缩气缸3072带动止挡件3071与工件板11的端头抵接。
28.工件板移动到第二移料传输组件的预定位置时,止档组件将工件板的前端抵挡住防止工件板继续朝出料端移动,能够有效将工件板定位在第二移料传输组件上,压料组件将工件板压紧在第二移料传输组件上,能够有效防止工件板向上移动从而偏移预定位置;通过止档组件和压料组件相互配合能够对工件板进行有效固定,有效防止工件板进行镭雕时发生偏移。
29.具体地,第一镭雕头机构101和第二镭雕头机构201均包括激光光路发生组件103、聚焦组件104和光源组件105;激光光路发生组件103与聚焦组件104通过连接部106贯通连接;聚焦组件104的一侧还设有光源组件105,和与光源组件105垂直的ccd镜头107。
30.值得说明的是,该激光光路发生组件为现有技术,光源组件为环形led灯,ccd镜头和聚焦组件均为现有技术。
31.具体地,第一xy轴平移组件和第二xy轴平移组件均包括带动第一镭雕头机构101或第二镭雕头机构201沿x轴方向移动的x轴平移组件108,和带动x轴平移组件108沿y轴方向移动的y轴平移组件109;该x轴平移组件和y轴平移组件均为现有技术中能带动镭雕设备移动的运输结构,该具体形状和机构并不受限制。
32.应当理解的是,对本领域普通技术人员来说,可以根据上述说明加以改进或变换,而所有这些改进和变换都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
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