专利名称：玻化纤瓷板的抛光方法及抛光装置的制作方法
技术领域：
本发明属于陶瓷生产领域，尤其涉及一种用于玻化纤瓷板烧成后的表面抛光处理方法和抛光处理装置。
背景技术：
尺寸(长×宽×厚)为2～3米×1.5～2米×0.03～0.06米的大规格超薄玻化纤瓷板产品，其厚度仅为3～6毫米，具有单位面积瓷板重量轻、强度高、单片瓷板所装饰的面积大、能显著减少房屋及框架结构的承重和具有较强的抗菌、抗污能力等优点，可完全替代大理石、花岗岩等各种装饰板材，正在迅速成为建筑行业装饰建筑物内外空间的一种高档次的绿色环保建筑装饰材料。
在玻化纤瓷板的生产过程中，需对经过烧结后的玻化纤瓷板进行表面抛光处理，以提高其表面光洁度，使其具有很好的光泽和镜面效果。
现有陶瓷板材的抛光机，均采用由驱动电机经减速机构与磨头连接的技术方案，在公告号为CN 2380349Y和CN 2569975Y的中国专利以及公开号为CN 1445057A的中国发明专利申请公开说明书中，对此均有相应的技术方案描述。
但是，对于厚度在15mm以下的玻化纤瓷板，采用现有的抛光装置无法对其进行抛光。其主要原因是现有抛光装置的纵向振动力太大，在抛光加工过程中极易将较薄的玻化纤瓷板击碎，导致其成品率很低，无法满足工业化大规模生产的需求。
此外，现有抛光工艺仅仅局限于对玻化纤瓷板的表面进行单纯的机械研磨、抛光，对于玻化纤瓷板加工面分布存在的细微气孔无法进行处理，导致其制成产品的光泽度较低，难以达到镜面效果。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种抛光工序成品率高、制得产品的光泽度高、抗污能力强的玻化纤瓷板的抛光方法及抛光装置。
本发明的技术方案是提供一种玻化纤瓷板的抛光方法，包括对烧结后的玻化纤瓷板进行抛光，其特征是(1)在常规抛光机的磨头上加设减震缓冲机构；(2)用上述抛光机对烧结后的玻化纤瓷板进行常规抛光工艺，制得粗抛板；(3)在粗抛板的加工面布施纳米抛光剂；(4)用上述抛光机对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行二次抛光，制得二次板；(5)在加热状态下用上述抛光机对二次板进行再次精抛光，制得所需产品。
其所述的布施纳米抛光剂和对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行抛光之工序至少进行一次，亦可根据需要重复进行。
其所述的纳米抛光剂为市售的大鸿制釉有限公司的产品。
其所述加热状态的温度范围为200～300℃。
本发明还提供了一种用于上述抛光方法的玻化纤瓷板的抛光装置，包括由带有磨片和其驱动装置的磨头，其特征是在所述磨片和其驱动装置之间的驱动轴上设置减震缓冲机构；所述的减震缓冲机构包括与驱动装置输出轴联接的第一传动齿轮、经传动轴与磨片联接且与第一传动齿轮套装啮和的第二转动齿轮、位于第一传动齿轮和第二传动齿轮之间的第一减震单元和位于第二转动齿轮与磨片之间的第二减震单元。
其中，所述第一传动齿轮的一端经第一压盖与驱动装置输出轴联接，其另一端设置第二压盖，与磨片联接的传动轴穿过第二压盖设置。
其所述的第一传动齿轮为内齿齿轮，所述的第二传动齿轮为外齿齿轮，两者套装啮和匹配设置。
其所述的第一减震单元包括弹簧，弹簧设置在第一压盖与第二传动齿轮之间；所述的第二减震单元包括弹簧，弹簧套装设置在第二压盖与磨片之间的传动轴上。
与现有技术比较，本发明的优点是1.采用双重减震缓冲机构，减缓了抛光磨头对玻化纤瓷板的振动冲击，满足了厚度在15mm以下玻化纤瓷板进行工业化大规模生产的需求；2.在进行机械抛光的同时，添加纳米抛光剂，降低了玻化纤瓷板表面的气孔率，提高了产品的光泽度和镜面效果，大大提升了产品的档次和装饰效果；3.由于光泽度的提高和表面气孔率的降低，使得产品表面对液体产生明显的“荷叶”现象，产品的抗污能力大大提高。
图1是本发明抛光工艺的工序流程示意图；图2是本发明抛光装置的结构示意图。
图中1为马达，2为减速机，3为驱动装置输出轴，4第一压盖，5为第一传动齿轮，6为第二传动齿轮，7为第二压盖，8为磨片联接的传动轴，9为磨片，10为第一减震单元，11为第二减震单元。
具体实施例方式
下面结合附图和实施例对本发明做进一步说明。
实施例1在现有的常规抛光机上加装采用如图2所示的减震缓冲机构，减震缓冲机构包括与驱动装置(由马达1和减速机2组成)的输出轴3联接的第一传动齿轮5、经传动轴8与磨片9联接且与第一传动齿轮套装啮和的第二转动齿轮6、位于第一传动齿轮和第二传动齿轮之间的第一减震单元10和位于第二转动齿轮与磨片之间的第二减震单元11。
其中，第一传动齿轮的一端(图中为上端)经第一压盖4与驱动装置输出轴3联接，其另一端(图中为下端)设置第二压盖7，与磨片9联接的传动轴8穿过第二压盖设置。
其第一传动齿轮采用内齿齿轮结构，第二传动齿轮采用外齿齿轮结构，两者套装啮和匹配设置。
其所述的第一减震单元包括弹簧，弹簧设置在第一压盖4与第二传动齿轮6之间，为了取得平衡的减震效果，可以对称设置数组弹簧，构成一个减震弹簧组。
第二减震单元包括弹簧，弹簧套装设置在第二压盖7与磨片9之间的传动轴上，进一步减少磨片的纵向振动。
通过设置上述结构，磨片的纵向振动或跳动被大大减少和柔化，使用带有该减震缓冲机构的抛光机，可以对厚度仅为3mm的玻化纤瓷板进行抛光，达到无破碎的成品率，满足了工业化大规模生产的需要。
采用上述抛光机按照图1所述工艺对烧结后的玻化纤瓷板进行抛光首先，对烧结后的玻化纤瓷板进行常规的粗、中抛光，制得粗抛板；其次，在粗抛板的加工面布施纳米抛光剂；然后，对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行二次抛光，制得二次板；最后，在加热状态下用上述抛光机进行精抛光，制得所需产品。
其采用的纳米抛光剂为市售的大鸿制釉有限公司的产品。
其加热状态的温度范围为200～250℃。
添加纳米抛光剂的目的是为了利用纳米抛光剂填平玻化纤瓷板表面的气孔(亦称结晶孔)，提高板表面的致密度和平整度。
在加热状态下对二次板进行精抛光是为了使纳米抛光剂与坯体发生低温烧结，增加其结合强度和密实度，保证其长期效果。
经过上述工艺处理的玻化纤瓷板，其气孔率由原来的30～40％，下降至5～10％；采用国标GB/T4100.1-1999中规定的光泽仪法进行测试，产品的光泽度不低于70％(国标GB/T4100.1-1999中的规定为不低于50％)；由于光泽度的提高和表面气孔率的降低，使得产品表面对液体产生明显的“荷叶”现象，产品的抗污能力大大提高。
如果在纳米抛光剂中添加市售的银系或稀土激活无机纳米抗菌剂，则更能使产品同时具有抗菌功能。
实施例2对烧结后的玻化纤瓷板进行常规的粗、中、精抛光，制得粗抛板；重复进行两次布施纳米抛光剂和对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行抛光的工序；最后，在加热状态下用上述抛光机进行精抛光，制得所需产品。
其加热状态的温度范围为230～270℃。
其余同实施例1。
经过上述工艺处理的玻化纤瓷板，其气孔率为5～6％；产品的光泽度不低于75％，产品表面对液体的附着产生明显的“荷叶”拒亲现象。
实施例3在进行布施纳米抛光剂和对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行抛光的工序中，布施料中按纳米抛光剂∶氧化银纳米无机杀菌剂＝1∶(0.005～0.01)的比例添加纳米无机杀菌剂，抗菌剂可选用正元纳米材料工程有限公司或明日纳米材料有限公司的产品。
加热状态的温度范围控制在260～300℃。
经过上述工艺处理的玻化纤瓷板，其气孔率为6～10％；产品的光泽度不低于72％，产品表面对液体产生明显的“荷叶”现象。
添加纳米杀菌剂后，对金黄色葡萄球菌24小时杀抑率可大于99％；对金黄色葡萄球菌抑菌圈直径大于12mm；对大肠杆菌24小时杀抑率大于94％；对大肠杆菌抑菌圈直径大于12mm；对腊叶芽枝霉杀菌率在90％以上；对黑曲霉杀菌率亦在91％以上。
其余同实施例1。
实施例4在进行布施纳米抛光剂和对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行抛光的工序中，重复进行两遍布施抛光剂和对布施有纳米抛光剂的玻化纤瓷板进行抛光。
第一次布料采用纳米抛光剂，第二次布施料中按纳米抛光剂∶稀土激活无机纳米抗菌剂＝1∶(0.003～0.05)的比例添加纳米无机杀菌剂，抗菌剂同样可选用正元纳米材料工程有限公司或明日纳米材料有限公司的产品。
加热状态的温度范围控制在250～280℃。
经过上述工艺处理的玻化纤瓷板，其气孔率为5～6％；产品的光泽度不低于75％，产品表面对液体产生明显的“荷叶”现象。
添加纳米杀菌剂后，对金黄色葡萄球菌24小时杀抑率可大于99.4％；对金黄色葡萄球菌抑菌圈直径大于12.2mm；对大肠杆菌24小时杀抑率大于94.6％；对大肠杆菌抑菌圈直径大于11.5mm；对腊叶芽枝霉杀菌率在91.3％以上；对黑曲霉杀菌率在92.2％以上。
其余同实施例2。
本发明可广泛用于板状陶瓷烧结体、玻化纤瓷板之生产领域。
权利要求
1.一种玻化纤瓷板的抛光方法，包括对烧结后的玻化纤瓷板进行抛光，其特征是(1)在常规抛光机的磨头上加设减震缓冲机构；(2)用上述抛光机对烧结后的玻化纤瓷板进行常规抛光工艺，制得粗抛板；(3)在粗抛板的加工面布施纳米抛光剂；(4)用上述抛光机对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行二次抛光，制得二次板；(5)在加热状态下用上述抛光机对二次板进行再次精抛光，制得所需产品。
2.按照权利要求1所述的玻化纤瓷板的抛光方法，其特征是所述的布施纳米抛光剂工序和对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行抛光之工序至少进行一次。
3.按照权利要求1所述的玻化纤瓷板的抛光方法，其特征是所述的纳米抛光剂为市售的大鸿制釉有限公司的产品。
4.按照权利要求1所述的玻化纤瓷板的抛光方法，其特征是所述加热状态的温度范围为200～300℃。
5.一种用于权利要求1所述抛光方法的玻化纤瓷板的抛光装置，包括由带有磨片和其驱动装置的磨头，其特征是在所述磨片和其驱动装置之间的驱动轴上设置减震缓冲机构；其所述的减震缓冲机构包括与驱动装置输出轴联接的第一传动齿轮、经传动轴与磨片联接且与第一传动齿轮套装啮和的第二转动齿轮、位于第一传动齿轮和第二传动齿轮之间的第一减震单元和位于第二转动齿轮与磨片之间的第二减震单元。
6.按照权利要求5所述的玻化纤瓷板的抛光装置，其特征是所述第一传动齿轮的一端经第一压盖与驱动装置输出轴联接，其另一端设置第二压盖，与磨片联接的传动轴穿过第二压盖设置。
7.按照权利要求5所述的玻化纤瓷板的抛光装置，其特征是所述的第一传动齿轮为内齿齿轮，所述的第二传动齿轮为外齿齿轮，两者套装啮和匹配设置。
8.按照权利要求5或6所述的玻化纤瓷板的抛光装置，其特征是所述的第一减震单元包括弹簧，弹簧设置在第一压盖与第二传动齿轮之间。
9.按照权利要求5或6所述的玻化纤瓷板的抛光装置，其特征是所述的第二减震单元包括弹簧，弹簧套装设置在第二压盖与磨片之间的传动轴上。
全文摘要
一种陶瓷纤维板的抛光方法及抛光装置，属于陶瓷生产领域。其特征是在常规抛光机的磨头上加设减震缓冲机构；所述的减震缓冲机构包括第一、第二转动齿轮、位于第一和第二传动齿轮之间的第一减震单元和位于第二转动齿轮与磨片之间的第二减震单元；用上述抛光机对烧结后的玻化纤瓷板进行常规抛光工艺，制得粗抛板；在粗抛板的加工面布施纳米抛光剂；用上述抛光机对布施有纳米抛光剂的粗抛板进行二次抛光，制得二次板；在加热状态下用上述抛光机对二次板进行再次精抛光，制得所需产品。采用上述工艺和装置，抛光工序成品率高、制得产品的光泽度高、抗污能力强，可广泛用于板状陶瓷烧结体、玻化纤瓷板之生产领域。
文档编号B24B41/00GK1654165SQ200510042090
公开日2005年8月17日 申请日期2005年2月4日 优先权日2005年2月4日
发明者孙守年 申请人:淄博德惠来装饰瓷板有限公司