控制厚度的设备和方法

专利名称：控制厚度的设备和方法
技术领域：
本发明涉及一种用于控制通过连续地传送长形的金属元件穿过熔融
控制的方法，所述元件沿预定的传送路径在传送方向上从熔池传送，其 中所述设备包括至少 一对电磁擦拭器构件，所述擦拭器构件设计为在沿 所述传送路径传送的元件的各侧上沿所述路径设置，以用于通过将移动 磁场施加到元件上的熔融金属而从元件上擦去多余的熔融金属。
背景技术：
这种设备和方法在金属条带的连续电镀中尤其有利。在下文中，本 发明将参考这种应用进行描述。然而，应当注意的是本发明还可以用于 对其它如线、杆、管或其它长形元件等金属物体进行电镀。本发明还可 以用于以除了锌之外的其它涂层(如锡或铝、或者这些或其它金属混合 物的涂层)涂覆长形的金属元件。
在对金属条带(如钢条)进行连续电镀的过程中，钢条连续地经过 含有熔融金属(通常为锌)的熔池。在熔池中，钢条通常经过被浸没的 辊的下方并随后向上移动穿过稳定和校正辊。钢条离开熔池，并净皮传送
过擦拭器设备，如引言中限定的类型的设备。在上下文中，移动磁场祐: 用于控制涂层的厚度并从金属条带上擦去多余的锌。多余的锌回到熔池 并由此可被重复使用。条带随后被无支撑地传送直到涂层冷却并固化。 涂覆的条带随后经由上辊而被引导或导向至用于将条带切割成分离的条 带元件或用于在辊上巻绕条带的装置。通常，条带沿远离浸没的辊的竖 直方向移动并穿过校正和稳定辊以及擦拭器设备而到达上辊。
当对钢条进行电镀时，旨在涂覆一层均匀的厚度较薄的涂层。在多
余的熔融金属被擦去、并在涂层固化之后， 一种通用的检查涂层厚度的 方法是在条带例如经过上辊之后测量涂层的质量。此读数被用于控制擦 拭器设备，由此调节涂层的厚度。
经由所述设备的擦拭器构件施加到元件的擦拭力的大小由元件沿传 送路径以给定速度获得的涂层的厚度决定。这意味着当需要非常薄的涂
层时，如在10nm数量级时，元件必须在低于有效生产条带所需速度的 速度下行进。所述电磁擦拭构件的最大擦拭力受到以下情形限制，即铁 芯中发生由所述擦拭器构件呈现的磁性饱和，其限制了磁通量并由此限 制了擦拭力。进一步，移动磁场在元件上的液态金属中产生横向的电流， 并且这在元件侧边缘的附近变换，从而此处擦拭力减小，并由此使涂层 在边缘增厚。
由此，开始限定的类型的设备在以下方面呈现某些限制，即在元件 的整个宽度上获得具有均匀厚度的薄金属涂层、同时保持高生产效率的 方面。
在此还要提到已知的另 一种类型的具有相同目的设备，即这样一阵 设备其不是将移动磁场施加到元件，而是施加喷射气体以从所述元件 上擦去多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体上与所述元件垂直 的线一致的目标区域。这种类型设备的一个缺点在于气体喷射的可行速 度受到声速限制，从而元件通常必须被緩慢地移动以将金属涂层的厚度 减小至期望的水平。当使用这种用于从元件上擦去多余的熔融金属的所 谓的气刀的另 一个缺点在于这种类型的擦除方法通常由于发生在喷射气 体中的湍流而导致元件中部的涂层较厚，而元件侧边的涂层较薄。另夕卜， 如果所述喷射气体被施加以过高的压力，涂层的熔滴、即所谓的飞溅将 会出现，这降低了涂层的质量。

发明内容
本发明的目的是提供一种最初限定的类型的设备和方法，其至少部 分地消除现有技术的设备和方法的上述缺点。
这种目的根据关于所述设备的本发明通过最初描述的类型的设备而 实现，所述设备具有相应的电磁擦拭器构件，具有第二擦拭器构件，所 述第二擦拭器构件设计为将喷射气体施加到所述元件，以辅助所述电磁
擦拭器从所述元件上擦除多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体 上与所述元件的垂直于所述传送路径方向的线一致的目标区域。
所述电磁擦拭器构件和基于喷射气体的擦拭器构件彼此完全独立地 进行操作，从而根据需要经由电磁擦拭器构件可施加最大的可能的力， 并且同时经由第二擦拭器构件的喷射气体施加最大的可能的力。这样， 在这种设备中相对于仅仅具有电磁擦拭器构件或基于喷射气体的擦拭器 构件的设备而言可以获得两倍的擦拭力。这意味着对于给定的金属涂层 的期望厚度，可以增大元件沿所述传送路径传送的速度，并由此提高了 基于元件而生产的产品(如条带等)的生产率。
通过组合两个上述的擦拭方法，还可以实现其它的优点。 一种优点 来自以下事实，喷射气体对金属涂层具有冷却的效果，而移动磁场对其 具有加热的效果，这意味着这两种效果一定程度上彼此抵消，从而减小 擦拭器构件对涂层冷却速率的影响，这导致涂层的质量提高。进一步， 所述第二擦拭器构件倾向于通过喷射气体将较大的擦拭力作用于所述元 件侧边缘附近，而所述电磁擦拭器构件在这里施加了比元件中部更小的 擦拭力，从而这两种效果一起导致涂层沿元件的横向的厚度均匀。进一 步，移动磁场抑制上述由喷射气体引起的所谓的飞溅，因为磁场对在熔 融金属涂层中的这种运动具有使其平静的效果。
根据本发明的一个实施方式，所^目应的电磁擦拭器构件和与其配 合的所述第二擦拭器构件适于将擦拭力在所述元件大体相同的区域施加 到所述元件。这样，上述使用这两种类型擦拭器的组合优点可被最大程 度地利用。由此，有利的是，所述第二擦拭器构件适于在沿所述传送路 径的位置或在所述传送路径的方向上大致刚好在所述位置的下游将所述 喷射气体施加于所述元件，所述位置大体与通过所述配合的所述电磁擦 拭器构件施加擦拭力的位置相同。如果原理上可以在相同位置施加两个 擦拭器构件最大的擦拭力，则在大多数情况时将实现组合两者的上述优 点的最大效果。
在上下文中，已经证明有利的是所述第二擦拭器构件适于将所述喷
射气体在沿所述传送路径的位置作用于所述元件，即所述位置与源于所 述配合的电磁擦拭器构件的擦拭力为最大时的位置之间的距离小于
10cm、优选地小于5cm。如上所述，在如下情况下特别有利，所述第二 擦拭器构件适于将所述喷射气体在沿所述传送路径的位置作用于所述元 件，即所述位置大体与所述配合的所述电磁擦拭器构件适于施加最大的 擦拭力的位置相同。
根据本发明的另一个实施方式，所述第二擦拭器构件设置为将喷射 空气作用于所述元件，而这意味着可以成本低廉地实现所述喷射气体。
根据本发明的另一个实施方式，所i^目应的第二擦拭器构件设置为 将喷射氮气施加于所述元件，如果必须尽可能地避免在涂覆的金属涂层 中的材料氧化，这是有利的。
根据本发明的另一个实施方式，各所述电磁擦拭器构件包括擦拭器 磁极，所述擦拭器磁极由磁芯形成。在这种情况时，根据本发明的又一 个实施方式，所述第二擦拭器构件可包括设置在所i^磁芯中的气体喷嘴，
同的位置。
根据本发明的另一个实施方式，所池磁芯设计为通过其部分形成所 述喷嘴，并且根据本发明的再一个实施方式，所池磁芯给出内部空腔， 其中容纳形成喷嘴的独立部分。所述两个实施方式可根据依照本发明的 设备的期望用途而选择。
根据本发明的另 一个实施方式，所述设备包括至少一对电磁稳定构 件，所述设备在用于所述元件的传送路径的各侧包括一个稳定构件，以 相对所述预定的传送路径稳定所述元件的位置；并且所述稳定构件包括 稳定磁极。当所述元件是所提到的金属条带时，所述条带的几何形状、 所述没有支撑而行进的条带的长度、其速度、以及来自擦拭器构件的影 响将使金属条带沿大体垂直于其传送方向的方向移动或振动。通过所述 电磁稳定构件会有效地减小条带的所述振动，由此使涂覆的条带的质量 提向。
根据本发明的另 一个实施方式，在所述传送路径同 一侧的所勤目应
的电磁擦拭器构件和所述稳定构件设置为使所述擦拭器磁极和所述稳定 磁极重合。这导致来自所述稳定构件的稳定磁力与来自所述电磁擦拭器 的干扰力作用在相同的区域。由于稳定力与来自所述擦拭器构件的在条 带上的干扰作用在相同的区域，因此可以使元件弯曲和振动减小。稳定 构件和电磁擦拭器构件的相对设置的另 一个优点是使设备变得紧凑。有 利的是，擦拭器构件和稳定构件随后将具有共用的磁芯。
本发明还涉及一种用于控制长形的金属元件上金属涂层厚度的方 法，为此，所述涂层通过连续传送所述元件穿过熔融金属熔池而施加，
其中所述方法包括 -沿预定路径在传送方向上传送所述元件，以及
-通过将移动磁场作用于具有仍未固化的金属涂层的元件，以及将喷射 气体施加到所述具有仍未固化的金属涂层的元件，从所述长形的金属元件 上擦去多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体上与垂直于所述元件 传送路径方向的线一致的目标区域。
通过以上对根据本发明的设备的说明将清楚了解这种方法的优点和 有利特性。
根据本发明的一个实施方式，所述方法包括擦去多余的熔融金属之 后测量所述涂层的厚度，为此，所述测量厚度和厚度的期望值之间的差 值控制a)流向产生所述移动磁场的相绕组的电流，和/或b)施加到 所述元件的所述喷射气体的压力。这样，可以确保以可靠的方式获得所 述涂层的期望厚度。
根据本发明的另 一个实施方式，流向产生所述移动磁场的相绕组7a、 7b、 8a、 8b的电流和所述喷射气体的施加相互调适，从而由这两个因素 形成并作用于所述元件的总擦拭力的大小在所述元件的整个宽度上(即 沿垂直于元件传送路径方向的方向)大体相等。这样，确保了随后固化 的涂层的厚度在所述元件的端部和中部大体相同。
根据本发明的另 一个实施方式，在所述喷射气体喷射到所述元件之 前，对其进行预热以从中去除湿气，这意味着喷射气体将不会冷却至相 同程度，并且没有湿气施加到熔融金属，在某些类型的应用中对这两个
特征有所要求。


如实例描述的本发明的优选的实施方式将在下文中参考附图进行描
述，其中
图1是从侧面观察的穿过用于控制金属条带上的金属涂层厚度的设 备的一个实施方式的非常简化的横截面图2是涂覆有熔融金属的金属条带的擦拭力施加到涂层的区域的非 常简化的细节图3是从根据本发明的部^i殳备的从前部观察的视图，其包括电磁 擦拭器构件和具有喷射气体的擦拭器构件；
图4是沿图3的线B-B的简化横截面图；以及
图5是根据本发明第二实施方式的对应于图4的设备的视图。
具体实施例方式
图1示意性地示出了才艮据本发明的一个实施方式用于控制呈条带形 式的长形的金属元件l上的金属涂层的厚度的设备。通过将条带l连续 地传送穿过熔融金属熔池2而使条带涂覆有熔融金属层。条带沿预定的 传送路径x在传送方向3上从熔池传送。预定的传送路径x基本在浸没 于熔池2中的辊4和上辊5之间延伸，所述上辊5设置在擦拭器和稳定 单元6后，所述擦拭器和稳定单元6适于从条带1上擦去多余的熔融金 属并稳定条带。所述单元显示出两个相同的半部a、 b，其设置在传送路 径x的相应侧上，以用于^目对的方向对条带产生作用。设备在传送路 径x的各侧包括电磁擦拭器构件，其由用于第一相的第一相绕组7a、 7b 和用于第二相的第二相绕组8a、 8b形成，所勤目绕组设置为围绕磁芯 9a、 9b,所逸磁芯9a、 9b包括指向传送路径x并由此指向沿所述^M圣 行进的条带1的擦拭器磁极10a、 10b。由此形成的电磁擦拭器构件如下 进行操作。相绕组7a、 7b、 8a、 8b被供给交流电(未示出)并在条带1 上产生交变磁场(还称为移动磁场)。所逸磁场在涂层中产生电流路径(未 示出)以及沿与条带传送方向相对的方向作用于涂层的力。由此，多余 的涂层材料沿带的纵向被擦去。
现在将参考图3和图4。设备在传送路径的各侧进一步包括第二擦 拭器构件11，所述擦拭器构件11设计为将喷射气体施加到条带，以帮 助电磁擦拭器将多余的熔融金属从条带上擦去，其中所述喷射气体具有 大体上与条带的垂直于传送路径方向的线一致的目标区域。由图3和图 4可清楚了解所述第二擦拭器构件如何设计。设备包括装置33，所述装 置33适于将高压的诸如空气或氮气之类的气体供应至气室12，所述气 室12形成在磁芯9中。气室12适于在条带的整个宽度上沿垂直于传送 路径的方向延伸并经由指向传送路径(即，指向条带)的窄的气体喷嘴 13向内开口，以用于在条带上形成具有线状的目标区域的喷射气体。在 图4示出的实施方式中，气体喷嘴13由磁芯本身的一部分14形成。通 过在电磁擦拭器构件的磁芯中这样设置所谓气刀，源于喷射气体和电磁 擦拭器构件的擦拭力基本上重合。
图2示意性地示出了涂层15厚度通过两个擦拭器构件的作用如何减 小；涂层上应用擦拭器构件的点的上游部分16的厚度例如为100nm， 而此后部分17的厚度大概减小至10nm。在此，源于电>^擦拭器构件的 作用力由箭头18表示，而喷射气体的作用由箭头19表示。条带沿传送 路径的给定速度优选地在200米每分钟数量级，以这种速度，经过应用 擦拭器构件的点之后获得的涂层的厚度大致为F1/2，其中F是擦拭力。 由于擦拭力通过组合两种类型的擦拭器构件而几乎加倍，因此在条带的 运动速度不变的情况下，可以获得30%的数量级的厚度减小，即，对于 给定的厚度，条带可相对较快地行进。另外，通过同时使用这两种类型 的擦拭器，如上所述还可以获得多种其它组合的优点。
设备在传送路径的各侧进一步包括电磁稳定构件20a、 20b，所述电 磁稳定构件20a、 20b呈围绕相同的磁芯10a、 10b缠绕的稳定绕组的形 式，以作为相绕组，从而可获得共用的擦拭器和稳定磁极10a、 10b。
相应的稳定绕组20a、 20b被供给直流电，从而稳定力垂直于条带l 作用。由于稳定磁极10a、 10b适于与擦试器/^极配合，因此稳定力可作 用于与干m擦拭器磁极产生的区域相同的区域中的条带上。当然，除 了从擦拭器构件产生之外，干扰和振动可以从其它方式产生，例如由于 条带1的自由长度(即，条带1未受支撑地延伸的长度)而产生。而且 这些干扰或振动可通过稳定构件稳定。檫拭器和稳定磁极10a、 10b设置 在距离预定的传送路径x的确定的距离处。距离当然随条带l的当前厚 度和涂层的厚度而改变。
用于擦拭和稳定的整个单元设置在共用的所谓擦拭器壳体23中(参 见图3和图4)。以这种方式通过将两种类型的擦拭器构件封闭在相同的 机械单元中，所述擦拭器构件将共同地起作用，从而可以共同使用所有 的用于垂直于传送路径x定位、喷射气体和传送路径之间角度调节等等 的装备。这避免了这种装备的成本高昂的双重设置。
图1示出了用于检测条带1相对于其预定的传送路径x的位置的传 感器24a、 24b设置在条带l的任一侧。传感器24a、 24b设置在擦拭器 和稳定单元6的附近。传感器适于检测根据条带相对于预定传送路径x 的位置的|*值，为此稳定构件设计为将对应于检测值的力施加到条带 1。
设备进一步设置有装置25a、 25b，以用于在层固化之后测量层的厚 度。所述控制装置25a、 25b适于将对应于层厚度的信号发送至控制单元 26,所述控制单元26适于根据测量的结果控制提供至用于擦拭的相绕组 7a、 7b和8a、 8b以及用于设定总擦拭力的供气装置33的电流，从而获 得涂层的期望厚度。
图5示出了根据本发明第二实施方式的设备，其与图4示出的设备 的不同之处在于部分磁芯9a、 9b没有用于形成气体喷嘴，而所述喷嘴 由容纳在磁芯的空腔28中的独立部分27形成。气体在此经由长形管29 供应，开口均匀分布在外壳中以将喷射气体通过喷嘴13导出。从图3 可以看出气体(如空气)穿过擦拭器壳体23的端部的气体连接构件30 分别提供至气室12和管29。整个壳体23还在31以轴颈连接以能够围 绕轴线32枢转，由此改变方向，据此擦拭力将作用于经过电>^擦拭器构
件和喷射气体擦拭器构件的元件上的涂层。
当然，本发明并不以任意形式限于上述的实施方式；相反，本发明 多种可行的修改对于本领域的技术人员是显而易见的，为此对于技术人 员并未脱离所附权利要求中限定的基本的发明概念。
例如，尽管在大多数情况下设备给出稳定构件或许是有利的，但是 也并非是完全必须的。进一步，设备在长形的金属元件的任一侧可给出 多于一个的电磁擦拭器构件，并且这同样也适用于所述第二擦拭器构件。
位于传送路径相应侧的电磁擦拭器构件和/或其它气体喷射擦拭器 构件还可被分为设置于沿经过这些构件的条带的横向的不同位置的几个 部分，在所述情况时，不同的部分可以被单独地控制以在条带的一些有 限部分(如条带的边缘部或中部)改变相对于其横向的擦拭力。
权利要求
1.一种用于控制通过连续传送长形的金属元件(1)穿过熔融金属熔池而在所述元件上形成的金属涂层的厚度的设备，其中，所述元件用于沿预定的传送路径(x)在传送方向上从所述熔池传送，其中所述设备包括至少一对电磁擦拭器构件(7a、7b、8a、8b)，所述电磁擦拭器构件设计为在沿所述路径传送的元件的各侧沿所述传送路径设置，以用于通过将移动磁场施加到所述元件上的熔融金属而从所述元件上擦去多余的熔融金属，其特征在于所述设备另外还包括与电磁擦拭器构件相关联的第二擦拭器构件(11)，所述第二擦拭器构件设计为将喷射气体施加到所述元件，以辅助所述电磁擦拭器构件从所述元件上擦去多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体上与所述元件的垂直于所述传送路径方向的线一致的目标区域。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所勤目应的电磁擦拭 器构件(7a、 7b、 8a、 8b )和与其配合的所述第二擦拭器构件(11)适 于在所述元件大体相同的区域内将擦拭力施加到所述元件。
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述第二擦拭器构件 (11)适于在与所述电磁擦拭器构件(7a、 7b、 8a、 8b )施加擦拭力的 位置沿所述传送路径(x)大体相同的位置处或在所述传送路径的方向 上大致刚好在所述位置的下游将所述喷射气体施加到所述元件。
4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述第二擦拭器构件 (11)适于在沿所述传送路径(x)距所述配合的电磁擦拭器构件(7a、 7b、 8a、 8b)的擦拭力为最大值的位置的距离小于10cm、优选地小于 5cm的位置处将所述喷射气体施加到所述元件。
5.根据权利要求2-4中任一项所述的设备，其特征在于，所述第二 擦拭器构件(11)适于在沿所述传送路径(x)与配合的电磁擦拭器构 件(7a、 7b、 8a、 8b )适于施加最大擦拭力的位置大体相同的位置处将所述喷射气体施加到所述元件。
6.根据在前权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所i^目应 的第二擦拭器构件(11)设计为向所述元件施加喷射空气。
7.根据权利要求1-5中任一项所述的设备，其特征在于，所勤目应 的第二擦拭器构件(ll) 设置为向所述元件施加喷射氮气。
8.根据在前权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，各所述电 磁擦拭器构件(7a、 7b、 8a、 8b )包括由磁芯(9)形成的擦拭器磁极 (10 )。
9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所勤目应的第二擦拭 器构件(11)包括设置在所述磁芯(9)中的气体喷嘴(13)。
10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所逸磁芯(9)设计 为通过其一部分(14)形成所述喷嘴(13)。
11.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述磁芯(9)具有 内部空腔(28),其中容纳形成喷嘴(30)的独立部分(27)。
12. 根据在前权利要求中任一项所述的设备，其特征在于，所述设 备包括至少一对电磁稳定构件(20a、 20b)，包括设置在用于所述元件 的传送路径的各侧的一个稳定构件，以相对所述预定的传送路径稳定所 述元件的位置，并且所述稳定构件包括稳定磁极(10a、 10b)。
13. 根据权利要求12所述的设备，其特征在于，在所述传送路径同 一侧的所勤目应的电磁擦拭器构件(7a、 7b、 8a、 8b )和所述稳定构件(20a、 20b )设置为使所述擦拭器磁极(10a、 10b )和所述稳定磁极(10a、 10b )重合。
14. 根据权利要求13所述的设备，其特征在于，所述电磁擦拭器构 件(7a、 7b、 8a、 8b )和所述稳定构件(20a、 20b )具有共用的磁芯(9 )。
15. —种用于控制长形的金属元件上金属涂层厚度的方法，其中， 所述涂层通过连续传送所述元件(1)穿过熔融金属熔池(2)而施加， 其中所述方法包括沿预定路径在传送方向上传送所述元件，以及通过将移动磁场施加到具有仍未固化的金属涂层的元件，以及将喷 射气体施加到所述具有仍未固化的金属涂层的元件，从所述长形的金属 元件上擦去多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体上与垂直于所 述元件传送路径方向的线一致的目标区域。
16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述长形的金属元件是金 属条带。
17. 根据权利要求15或16所述的方法，所述方法包括在擦去多余的熔融金属之后测量所述涂层的厚度，为此，所述测量 厚度和厚度的期望值之间的差值控制a)流向产生所述移动磁场的相 绕组的电流，和/或b)施加到所述元件的所述喷射气体的压力。
18. 根据权利要求15-17中任一项所述的方法，其中，流向产生所 述移动磁场的相绕组(7a、 7b、 8a、 8b )的电流和所述喷射气体的施加 相互调适，从而由这两个因素形成并施加到所述元件的总擦拭力的大小 在所述元件的整个宽度上即沿垂直于元件的所述传送路径方向的 方向——大体相等。
19. 才艮据权利要求15-18中任一项所述的方法，其中，施加所述移 动磁场和所述喷射气体，使得源于此的擦拭力在所述元件大体相同的区 域施加到所述元件。
20.根据权利要求15-19中任一项所述的方法，其特征在于，所述元件的位置大体相同的位置处或者在所述传送路径的方向上大致刚好 在所述位置下游的位置处被施加到所述元件。
21.根据权利要求20所述的方法，其中，所述喷射气体在沿所述传 送路径与源于所述移动磁场的擦拭力为最大的位置之间的距离小于 10cm、优选地小于5cm的位置处被作用于所述元件。
22.根据权利要求15-21中任一项所述的方法，其中，所述喷射气 体在沿所述传送路径与所述移动磁场设置为将最大擦拭力作用于所述 元件的位置大体相同的位置处被施加到所述元件。
23.根据权利要求15-22中任一项所述的方法，其中，所述喷射气 体是喷射空气。
24.根据权利要求15-22中任一项所述的方法，其中，所述喷射气 体是喷射氮气。
25.根据权利要求15-24中任一项所述的方法，其中，在用于所述 喷射气体的气体喷射到所述元件之前，对其进行预热以去除其中的湿 气。
全文摘要
一种用于通过连续传送长形的金属元件(1)穿过熔融金属熔池(2)而控制所述元件上的金属涂层厚度的设备和方法包括至少一对电磁擦拭器构件(7a、7b、8a、8b)；以及与其相关联的第二擦拭器构件(11)，其设计为将喷射气体施加到元件(1)，以辅助所述电磁擦拭器构件从所述元件上擦去多余的熔融金属，其中所述喷射气体具有大体上与所述元件的垂直于所述传送路径方向的线一致的目标区域。
文档编号C23C2/14GK101208449SQ200680022805
公开日2008年6月25日 申请日期2006年6月19日 优先权日2005年6月30日
发明者康尼·斯万, 本特·吕德霍尔姆, 简·埃里克·埃里克森, 雷贝伊·贝尔·夫德希拉 申请人:Abb公司