用于脉冲沉积监测和控制的传感器的制作方法

专利名称：用于脉冲沉积监测和控制的传感器的制作方法
用于脉冲沉积监测和控制的传感器 5相关申请的交叉参考本申请涉及2004年4月12日(案号MKS-143)提交的系列号 为10/822,358 ("'358申请")的共同-未决申请、2004年12月17 日(案号MKS-147)提交的系列号为11/015,465 ("，465申请")的 共同-未决申请、2005年3月18日(案号MKS-156)提交的系列 io 号为11/083,586 ("'586申请")的共同-未决申请，其全部转让给本 申请的受让人，其全部内容在此引为参考。
背景技术：
半导体生产需要反应气体精细同步并且准确测定地传输至反 15 应室。在ALD (原子层沉积)工艺中，例如，可以产生分层膜， 一次产生一个原子层。可以连续地将两个或多个前驱体气体脉冲传 输至维持在真空下的反应室。每个前驱体气体可以从基底表面上流 过以在表面形成吸附单层。然后可以将第二前驱体气体导入室(清 洗第一前驱体的室之后)，并且可以与第一前驱体反应以通过自-限 20 制表面反应形成要求的单层薄膜。可以通过重复必要的沉积循环获 得要求的膜厚度。可以通过计算沉积循环的次数来控制膜的厚度至 原子层精确度。同样，与ALD工艺不同，脉冲沉积系统需要准确 测量至反应室的气体脉冲的传输。为了在ALD工艺或其它脉冲沉积工艺中获得高水准的性能， 25 可以以高可靠性和准确度的方式测量和监测流入半导体处理室的 前驱体气体的脉冲质量流量的传输。由于在所考虑的时间量程(毫秒)各种计时的不准确性，基于流量和压力控制的ALD控制技术 可能是不准确的。而且，这些技术不是控制总剂量，而是控制流量 或压力，由于温度和计时的影响这可能导致显著的剂量变化。为用于ALD工艺和其他半导体制造工艺中，需要传输气体的 5高可重复性和精确质量。需要用于实际测量流入到处理室的气体的 量以及用于在每个脉冲过程中精确传输需要量的前驱体原子的方 法和系统。发明内容io 本发明提供一种设备，其包括被构造为以一个或多个脉冲传输气体的脉冲气体传输装置、与脉冲气体传输装置相连的传感器，以 及控制器。传感器被设置为响应通过气体传输装置进行的气体传输 的存在或缺乏。控制器被设置为根据传感器的响应来确定通过脉冲 气体传输装置传输的气体的量。15 本发明还提供一种用传感器监测通过气体传输装置进行的气 体传输的方法，包括在包括气体的吸收频率的光谱范围内产生光 辐射，以及传输光辐射通过容器，该容器中容纳有通过气体传输装 置传输的气体。该方法还包括在使光辐射传输通过容器中的气体之 后确定光辐射的强度。该方法还包括根据所检测的强度确定通过容20 器中气体吸收的光辐射的吸收量来确定由气体传输装置传输的气体的量。监测通过脉冲气体传输装置进行的气体传输的方法包括将被 构造为响应通过气体传输装置进行的气体传输的存在或缺乏的传 感器与脉冲气体传输装置相连。该方法还包括由传感器的响应来确 25 定通过脉冲气体传输装置传输的气体的量。


图1A是脉冲气体传输系统的一个实施例的框图。图IB仍然示出图1A所示的脉冲气体传输系统中的气体传输 装置。5 图2是用于监测气体传输的光学传感器的概念框图。
具体实施方式
下面描述精确监控通过脉冲气体传输系统进行的气体传输的 系统和方法。概括地说，所述系统可以包括被构造为以一个或多个 io 脉冲传输气体的脉冲气体传输装置、与脉冲气体传输装置相连的传 感器，以及控制器。传感器被设置为响应通过气体传输装置进行的 气体传输的存在或缺乏。控制器被设置为根据传感器的响应来确定 通过脉冲气体传输装置传输的气体的量。在图1A所示的一个实施例中，传感器可以是光学传感器，脉 15冲气体传输装置可以是ALD (原子层沉积)系统的一部分。图1A 是用于原子层沉积的脉冲气体传输系统100，和用来监测ALD系 统100中气体传输的光学传感器200的框图。当图1A所示实施例 示出ALD系统时，应当理解为该公开描述的技术也适用于ALD系 统以外的脉冲沉积系统，并且不同的实施例可以涉及不同的脉冲沉 20 积系统。概括地说，ALD系统可以包括液体前驱体源110; ALD气 体传输装置120;和处理室130。源110可以将液体前驱体供给ALD 气体传输装置120。 ALD气体传输装置120可以以脉冲次序将前驱 体气体传输至处理室130。处理室130可以容纳至少一个半导体基 25底132，半导体基底132暴露在前驱体气体中。在。58申请、、65申请和'586申请中描述了示例性ALD系统，其全部内容在此引 为参考。ALD气体传输装置120可以包括蒸发器(未示出)，蒸发器蒸 发由源IIO供给的液体前驱体来由此产生前驱体气体。在所示的实 5 施例中，ALD气体传输装置120可以放置在集成加热器/蒸发器模 块中，尽管这样，在其他的实施例中，加热器和蒸发器也可以放置 在单独的模块中。首先可以通过液体质量流量控制器(未示出)来 计量来自源110的液体，该液体质量流量控制器可以是单独的装置， 或者也可以与蒸发器结合成集成单元。然后可以通过蒸发器蒸发所 io计量的液体，因此形成用于ALD工艺的前驱体气体。ALD反应一般可以在大约200摄氏度到大约400摄氏度的温 度范围内进行。原子层沉积工艺基于交替地将基底132暴露在高反 应性前驱体气体的脉冲中。使用气体的脉冲，沉积薄膜， 一次一个 原子层，允许极高的均匀性和精确的厚度控制。在每个脉冲期间，15 发生自-限制气体-固体表面反应。在一般的ALD处理沉积循环中， 两种或多种前驱体或反应气体的每一种顺序地导入处理室130，以 不产生气相相互混合。第一反应气体单层吸附在基底表面上。多余 的反应物排出， 一般通过惰性净化气体来进行。第二反应物导入到 处理室130中，并通过自-限制表面反应与第一反应物反应形成预20 期的薄膜单层。 一旦第一反应物完全与第二反应物反应，这种自-限制反应结束。在此将多余的第二反应物排出， 一般通过惰性净化 气体来进行。通过重复必要的沉积循环获得预期的膜厚度。根据应用场合不同可以大大地改变ALD前驱体气体。对于不 同的基底和沉积膜的要求，继续开发和试验新的前驱体。三种常用 25的前驱体是AL(CH3)3 ( A1203沉积膜)、HfCU(Hf02沉积膜)和ZrCl4 (Zr02沉积膜)。对于每个这些气体的氧气前驱体一般是H20或02或03。可以通过ALD或CVD技术沉积的其他膜类包括Ni、 W、 Si02、 Ta2Os、 TaN、 Ti02、 WN、 ZnO、 Zr02、 WCN、 Ru、 Ir、 Pt、 Ru窗、Ti、 Mo、 ZnS、 WNxCy、 HfSiO、 LaxCayMn03、 CuInS2、 In2S3、 HfN、 TiN、 Cu、 V205和SiN。然而，应当注意，本发明的公开不 5 局限于使用任何特定的前驱体或工艺。处理室130—般可以维持在真空下。放置在处理室130中的基 底132—般保存在支撑架或卡盘133的顶部。加热器134可以与卡 盘133相连来加热卡盘133和基底132。可以使室的气氛满足预定 的参数。例如，为了进行原子层沉积可以增加基底温度。io 图1B提供了 ALD气体传输装置120的截面图。在所示的实施例中，ALD气体传输装置120是传输气体脉冲至图1A所示处理室 130的脉冲传输装置。概括地说，所示的ALD气体传输装置120的实施例可以包括气体传输开-关阀122;清洗阀124; —个或多个加热器126;以及压力转换器128。15 如上所述，在液体前驱体被传输至保持容器之前，可以通过蒸发器蒸发来自源110的液体前驱体。可以通过加热器126将保持容 器加热至适当的温度。在所示的实施例中，加热器可以是6-区加热 器，当然尽管这样，此公开不限定为6-区加热器。压力转换器128可以被构造为提供处理室130中的压力测量。 20用于ALD气体传输装置120的适当的压力转换器128的实例可以 是来自本公开受让人的商标为Bamtnm牌的压力转换器， Andover，MA的MKS装置。开-关型气体阀122可以用于从加热的保持容器传输预期量的 前驱体到处理室130中。换句话说，传输到处理室130种的前驱体 25气体的脉冲可以用气体传输开-关阀122和清洗阀124来控制。阀122和124可以打开预定时间段以分别传输预定量的前驱体气体和 净化气体，进入处理室130。阀122和124可以是现场可更换阀。ALD沉积工艺可能需要非常精确地测量和控制的传输到处理 室130的前驱体气体的量。然后应当以高准确和可重复方式监测和 5控制前驱体气体的传输。同样，其他类型的脉冲沉积工艺同样需要 气体传输的精确和准确地监测和控制。由于在所考虑的时间量程 (即毫秒)各种计时的不准确性，流量和压力模式的技术可能是不 准确的，在流量和压力模式的技术中气体的质量流量是通过检测压 力和阀开/关时间段来估计的。这些技术不能控制总剂量，即不能 io测量流入到处理室130中的气体的实际量，而是可以控制流量或压 力。由于温度和i+时的影响，这可能导致显著的剂量变化。回来参见图1A，传感器200可以用于实时监测由ALD气体传 输装置120进行的气体传输。传感器200可以设置在ALD气体传 输装置120和处理室130之间。传感器200可以是光学传感器，该15 光学传感器能够通过检测由于通过被传输的气体导致的光辐射吸 收而产生的光辐射减少来测量通过气体传感器120传输的每个脉 冲中的气体浓度。光学传感器可以是例如IR (红外线)传感器， 其构造为检测红外辐射、并通过检测由于通过气体的IR辐射吸收 导致的IR辐射减少来测量每个脉冲中气体的浓度。可选择地，光20学传感器可以是被构造为检测IR频率范围外的光辐射的传感器， 包括但不限定为UV (紫外线)传感器，或者是被构造为检测可见 光的传感器。对于每个脉冲，传感器200可以允许预定量前驱体气体原子的 的精确传输。由于温度和压力的变化可以被完全考虑在内，传感器 25200可以允许更加严格的控制。图2是用于ALD系统(图1A所示)以在ALD工艺中监测和控制气体传输的光学传感器200的概念性图示。尽管图2示出的是 光学传感器200，其他实施例可以使用其他类型的传感器，其能通 过检测相对于传输气体浓度和分压的信号来测量通过气体传输装 置120传输的每个气体脉冲中的气体浓度。这些传感器包括，但不5 限定为声学传感器；光声传感器；质谱仪；荧光分光计；和电解 传感器。虽然图2示出的是被构造为产生和检测IR辐射的IR(红外线)光学传感器，其他实施例可以使用被设计为用于光学吸收落入红外除外的光谱范围(包括但不限定为可见光或uv光谱范围)的气体10 的光学传感器。概括地说，光学传感器200包括被构造为在包括通过ALD 气体传输装置120 (图1A和1B所示)传输的前驱体气体的吸收光 谱的光谱范围内产生光辐射的辐射源210;能够检测通过源210产 生的光辐射的检测器230;以及朝向待检测前驱体气体开口并且在 15 检测器230和源210之间提供光路的容器或样品管220。前驱体气 体由气体传输装置120流入样品管220。检测器230被构造为检测IR辐射的光谱频率(或频率)和/或 光谱范围(或范围)，并产生一个或多个代表检测强度的检测器信 号，源210产生该IR辐射，该IR辐射在通过样品管220中的前驱 20体气体传输后到达检测器230。控制器240与检测器230相连，控制器240包括被构造为通过 处理检测器信号来测量传输气体量的信号处理电路。控制器240由 IR辐射的检测强度来确定被样品管220中气体吸收的IR辐射的量。 当样品管220中的气体吸收由源210产生的光辐射的能量时，检测 25 器230检测到比如果源210的辐射在满强度到达检测器230时应当 具有的强度小的强度。这个辐射的减少允许测量传输气体的浓度。在一个实施例中，辐射的减少可以与吸光率直接成比例。在其他的 实施例中，可以使用不同的代数方法来推导出辐射的减少。在图2所示的光学传感器的实施例中，源210产生在包括通过 气体传输装置120传输的前驱体气体的吸收光谱的光谱范围内的 5 IR光。如果仅具有准确匹配吸收频率的IR光到达检测器，那么将 会检测到任何由前驱体气体的吸收。由于多数源产生覆盖宽光谱范 围的辐射，并且多数检测器检测覆盖宽光谱的辐射，应当限制源 210产生的能量以使检测器230主要观察样品管220中前驱体气体 吸收的光子。io 因此光学传感器200 —般包括波长选择装置225。例如，波长选择装置225可以是适当频率的IR窄波段滤光器225，波长选择 装置225被构造为选择地传输适当预期频率的光到检测器。波长选 择装置225还可以包括多于一个在适当频率下运行的IR窄波段滤 光器225。波长选择装置225也可以工作在包含适当频率的一个或15 多个IR波段下。可选择地，波长选择装置225可以是下述中的一 个或多个光栅、棱镜、干涉仪、激光器、特定频率二极管和声光 滤光器。用于通过传输装置120传输的前驱体气体的样品管229可以具 有允许IR光由源210传输至样品管220，并由样品管220至检测 20器230的辐射-传输窗222。在一个实施例中，样品管220可以是 ALD处理室130 (图1A所示)的一部分。可以设置聚焦反射镜或 透镜215，以将源210产生的光聚焦在样品管220上。当源210产生的IR光碰撞样品管220中的气体分子时，由于 IR光通过样品管220传输，如果光子的能量与气体分子的特征能 25量状态(振动、旋转等)精确匹配，IR光的一个或多个光子的能 量可以被气体分子吸收。每个气体分子表现出一个非常具体的吸收波长值，这依赖于组成气体分子的原子之间的化学键的强度。为了减少传感器漂移和校准漂移，可以实时调整IR光源210， 以提供可被监测的无漂移信号。可以以大约10Hz或更快速率调整 源210。在一些实施例中，可以以100 Hz或更快的速率调整源210。 5 ALD脉冲可以是大约1秒的持续时间。这些参数可以确定需要的 敏感度、需要的检测器的类型，来进行必要的测量。如果10Hz是 足够快的，通过实例的方式检测器230可以被构造为LiTa03检测 器。如果需要更快的检测器，检测器230可以包括，但不限于一 个或多个下述检测器DTGS检测器、PbS检测器、PbSe检测器或 io MCT检测器。控制器240可以包括电路，该电路允许传感器200在当沉积气 体不流动时沉积处理之前或之后或者沉积脉冲之间自动-回零。控 制器可以被构造为确定通过气体传输装置进行的气体传输是否处 于零值，如果是，重置传感器来记录零值。控制器还可以包括校正 15 电路，该校正电路可以被构造为用已知的气体量或参考资料来初始 校正光学传感器200，然后通过使用已知气体量或参考资料来重置 传感器200的校正。如上所述，尽管描述的是ALD气体传输，但本文中描述的技 术适用于任何脉冲气体传输系统，而并不限定为ALD系统。20 控制器240可以被构造为通过响应于由检测器信号指示的检测强度而产生和传输将被传输气体量适应性调整至预定量的一个 或多个控制信号，来实时监测气体的传输。控制器240可以确定和 监测在每个ALD脉冲期间传输的气体的量，即可以测量和监测从 ALD气体传输装置传输至室130的ALD前驱体气体的量。25 控制器240还可以确定和监测在包含多个ALD脉冲的一个时间周期内传输的气体的总量。例如，控制器240可以测量和监测每 个ALD循环的ALD前驱体的总量。因此，可以用绝对浓度方法监 测ALD系统100 (图1A所示)。还可以用信号(或带)强度或面 积的代数组合来监测ALD系统100以提供绝对浓度或者在结果之 5间进行辨别以提供最优终产物。控制器140可以以大约1%测量精 确度和准确度、10 Hz或更快分析速率来提供用于ALD传输系统的 实时反馈。可选择地，可设置一个单独的监测装置(未示出)，该监测装 置被构造为通过产生和传输可适当地将气体传输调节至预定量的 io —个或多个控制信号来实时监测气体的传输。控制器240可以被构造为监测通过ALD系统传输的气体的漂 移。控制器240还可以被构造为监测ALD气体传输装置的上升时 间和下落时间。控制器240还可以被构造为监测ALD气体传输系 统120的绝对零值。控制器240还可以被构造为监测阀122和/或 15 124的任何失效，以确定是否和何时阀需要更换，以及气体传输装 置120是否需要维护。控制器240可以被构造为静态处理控制系统， 监测和/或控制对ALD工艺的多种影响因素。上述方法允许适当的控制。换句话说，控制器240通过响应于 用于检测待传输脉冲中包含的气体的量来产生表示应当传输的预 20定量的适当的控制信号，来适当控制气体传输至预定量。该方法还允许控制器240确定是否和何时阀122和/或124不 正确运行，例如如果阀渗漏，或如果阀处于开和关公差范围之外。 由于传感器非常敏感并且允许每个脉冲中预定量前驱体原子的精 确传输，控制器240可以被构造为检测无论何时至少一个阀在关闭 25或"关"状态渗漏。以这种方式，上述方法提供用于将重要反应物传输至ALD室 的闭环控制，前驱体的一致和准确传输对沉积膜层的质量和性能是 重要的。上述的方法和系统允许每个脉冲中预定量前驱体原子的准 确传输。上述的传感器和控制器允许ALD工艺的严格控制，充分 5 考虑温度和压力的变化。可以减小例如由于阀与阀的不同、随使用 时间延长产生阀的退化、和/或传输条件的变化而产生的ALD工艺 的可变性。总之，上述的方法和设备允许用绝对浓度方法监测和控制ALD 系统。上述光学传感器允许ALD气体的传输被监测在读数的几个 io百分比，即100ppm脉冲或负2ppm。上述的传感器还可以用于除 ALD系统之外的任何具有脉冲传输的气体传输系统。由于这些工 艺一般持续时间相当短，因此传感器还可以与端点装置联合使用。尽管描述的是用于脉冲沉积监测和控制的设备和方法的某些 实施例，应当理解的是，在这些实施例中暗示的概念也可以用于其 15他实施例中。本申请的保护范围仅限于后附的权利要求。在这些权利要求中，除非特殊声明，单个元件的参考不意指"一 个及仅一个"，而是指"一个或多个"。对本领域技术人员而言，本 文中所结合作为参考的已公开或将公开文献中所述的各实施例元 件在结构或功能上的等效物将被包含于权利要求中。而且，本文公 20 开的内容并不是要贡献给公众，不管这种公开是否在权利要求中清 楚地陈述。权利要求不应该按35 U.S.C.§112第六款的规定来解释， 除非使用了术语"用于……的装置"清楚地表达的要素，或，在方 法权利要求的情况下，用术语"用于……的步骤"表达的要素。
权利要求
1.一种设备，包括脉冲气体传输装置，其被构造为以一个或多个脉冲传输气体；传感器，其与脉冲气体传输装置相连并被构造为响应通过该气体传输装置进行的气体传输的存在或缺乏；以及控制器，其被构造为通过传感器的响应来确定由脉冲气体传输装置传输的气体的量。
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述传感器包括光学传感器； 其中所述光学传感器包括-光源，其被构造为在包括气体吸收频率的光谱范围内产生光 辐射；15 容器，其被构造为检测从光源通过该容器中气体传输之后到达检测器的光辐射的强度；检测器，其被构造为检测从光源通过该容器中气体传输之后 到达检测器的光辐射强度；以及20 其中所述控制器被构造为根据检测器确定的强度导出容器中 气体吸收的光辐射吸收量从而确定由气体传输装置传输的气体的
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述检测器还 25 被构造为产生一个或多个表示检测的光辐射强度的检测器信号，且其中控制器还被构造为通过处理检测器信号来测量传输的气体 的量。
4. 根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述控制器被 5 构造为通过响应于所述检测器信号而产生和传输可将被传输气体量适当地调节至预定量的一个或多个控制信号，来实时监测气体 的传输。
5. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，还包括监测装 io置，其被构造为通过产生和传输可将气体传输适当地调节至预定量的一个或多个控制信号，来实时监测气体传输。
6. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述控制器还 被构造为确定由气体传输装置进行的气体传输是否为零值，如果15是，重置传感器来记录零值。
7. 根据权利要求l所述的设备，其特征在于，所述控制器被构造为确定和监测每一个脉冲期间传输的气体 的量；以及20 其中所述控制器还被构造为确定和监测在包括多个脉冲的时 间周期内传输的气体的总量。
8. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述气体传输 装置包括被构造为传输至少一种ALD前驱体气体至ALD处理室25的ALD (原子层沉积)气体传输装置。
9. 根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述控制器还 被构造为确定和监测在每个脉冲期间从ALD气体传输装置至ALD处理室传输的ALD前驱体气体的浓度，以及其中所述控制器还被构造为确定和监测在包括ALD气体传输 装置、ALD处理室和用于ALD气体传输装置的液体前驱体源的 ALD系统的一个循环期间传输的ALD前驱体气体的总量。
10. 根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述控制器还 被构造为监测ALD系统的气体传输的变化。
11. 根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述控制器还 io 被构造为监测脉冲气体传输装置的上升时间和下落时间中的至少一个。
12. 根据权利要求5所述的设备，其特征在于，所述控制器还 被构造为监测脉冲气体传输装置的绝对零值。15
13. 根据权利要求l所述的设备，其特征在于，所述辐射源包 括调制的辐射源。
14. 根据权利要求13所述的设备，其特征在于，所述源在大 20约大于10Hz下被调制。
15. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述光学传感 器还包括波长选择装置，该波长选择装置被构造为将所需带宽的 光辐射从容器选择性地传输到检测器；且其中该波长选择装置是25 下述中的至少一个滤光器；光栅；棱镜；激光器；特定频率二极管； 干涉仪；和 声光滤光器。
16. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述检测器包 括感光检测器。
17. 根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述容器包括 10 下述中的至少一个允许从源到容器的光辐射传输的辐射-传输窗；以及允许从容器到检测器的光辐射传输的辐射-传输窗。
18. —种用传感器来监测通过气体传输装置进行的气体传输 的方法，该方法包括 在包括气体吸收频率的光谱范围内产生光辐射；通过容器传输该光辐射，由气体传输装置传输的气体已容纳 在该容器中；在光辐射通过容器中的气体进行传输之后确定光辐射的强度； 通过所检测的强度确定由容器中气体吸收的光辐射吸收量， 从而确定通过气体传输装置传输的气体的量。
19. 根据权利要求18所述的方法，其特征在于，还包括将被 气体传输装置传输的气体的量适当调节至预定量的步骤。
20. 根据权利要求19所述的方法，其特征在于，测量由气体传输装置传输的气体的量的所述步骤还包括以下步骤测量通过脉冲气体传输装置产生的每个独立脉冲传输的气体的量；以及测量包括多个脉冲的脉冲循环周期内由脉冲气体传输装置传 输的气体的总量。
21. 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，还包括以下步骤在多个脉冲传输之前使传感器初步回零；以及在多个脉冲的 每个之间使传感器回零。
22. 根据权利要求20所述的方法，其特征在于，还包括以下 步骤监测脉冲气体传输装置的漂移；监测脉冲气体传输装置的上升时间和下落时间中的至少一个。
23. 根据权利要求18所述的方法，其特征在于，产生光辐射 的所述步骤包括调制该光辐射以充分估算传感器的传感器漂移。
24.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述光学传感器包括IR(红外线)传感器，所述源包括IR源，所述光辐射包括 IR辐射，所述吸收频率包括IR吸收频率，所述检测器包括IR检 测器。
25.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述光学传感器包括下述中的至少一种包括UV (紫外线)辐射源的UV传感 器、以及UV检测器；以及包括可见光源的可见光传感器、以及被构造为检测可见光的 检测器。
26.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述控制器还被构造为确定气体传输装置是否需要维护。
27. 根据权利要求26所述的设备，其特征在于，所述气体传输装置包括一个或多个阀，每个阀被构造为在处 io于开状态时允许从传输装置到处理室的气体流动，每个阀还被构 造为在处于关闭状态时阻止从传输装置到处理室的气体流动；以 及其中所述控制器还被构造为确定所述一个或多个阀是否发生 故障。15
28. 根据权利要求27所述的设备，其特征在于，所述气体传输装置被构造为传输气体至一室中，其中所述设备还包括被构造为测量该室中压力的压力转换器，以及其中维护包括维护下述装 置中的至少一个20 所述压力转换器；所述一个或多个阀；以及 控制器中的软件。
29. 根据权利要求27所述的设备，其特征在于，所述控制器 25 还被构造为监测当至少一个阀处于关闭状态时通过气体传输装置的气体排出。
30. 根据权利要求6所述的设备，其特征在于，所述控制器还 被构造为在每个脉冲之间重置传感器以记录零值。
31. 根据权利要求l所述的设备，其特征在于，所述传感器包 5 括下述至少一种-声学传感器；光声传感器；质谱仪；荧光分光计；和 10 电解传感器。
32. —种监测通过脉冲传输装置进行的气体传输的方法，该方 法包括将一传感器与脉冲气体传输装置相连，该传感器被构造为响 15应通过气体传输装置进行的气体传输的存在或缺乏；以及由传感器的响应来确定通过脉冲气体传输装置传输的气体的
33. 根据权利要求16所述的设备，其特征在于，所述感光检 20 测器包括下述至少一种LiTa03检测器；PbS检测器；PbSe检测器； DTGS检测器；和 25 MCT检测器。
全文摘要
用传感器监测通过脉冲气体传输装置进行的气体传输。传感器可以包括在包括待传输气体的吸收频率的光谱范围内产生辐射的源。光辐射通过容纳有被传输气体的容器来传输。通过容器中气体的光辐射传输之后检测器确定由源到达检测器的辐射的强度。控制器通过所检测的强度来确定容器中气体的光辐射吸收量，从而测量由气体传输装置传输的气体的精确的量。控制器还通过将被传输的气体的量适当地调节至预定量而实时地监控制台气体的传输。传感器和控制器还可以监测气体传输装置的故障或超出故障行为。
文档编号C23C16/52GK101253283SQ200680031477
公开日2008年8月27日 申请日期2006年6月28日 优先权日2005年7月8日
发明者M·斯帕策 申请人:Mks仪器公司