无背衬研磨制品的制作方法

专利名称：：无背衬研磨制品的制作方法
技术领域：
：本发明一般涉及无背衬元件的研磨制品。
背景技术：
：在各种工业中使用研磨制品，例如涂敷的研磨制品和粘结的研磨制品对工件进行机加工，例如通过精研、研磨或抛光进行。使用研磨制品进行机加工涉及从一般精整和材料去除的工业应用到光学工业和汽车油漆修复工业直至金属制造工业的广泛工业领域。在这些例子中，制造设备使用磨粒去除大块材料或者影响产品的表面特性。表面特性包括光泽度、纹理和均匀性。具体地说，表面特性(例如粗糙度和光泽度)会影响光学介质的性能。光学介质越来越多地被用于数据存储，特别是对于包括游戏、图片、电影和音乐的数字娱乐而言。表面划痕或较差的表面品质会在接近光学介质时引入误差，并且在许多情况下会使光学介质变得无法读取或无法播放。特别是在频繁再使用或再出售光学介质的情况下，需要进行表面修复。表面特性还可能影响汽车油漆修复的品质。例如，对表面涂漆时，通常将漆喷射在表面上并固化。形成的涂漆的表面呈现麻点状橙皮纹理或者表面上具有包封的粉尘的缺陷。通常首先用粗粒研磨剂对涂漆的表面进行砂磨，然后用细粒设计的研磨剂进行砂磨并且用羊毛或泡沫垫进行磨光。除了表面特性以外，光学介质出租和再出售工业或汽车涂漆工业之类的工业对成本很敏感。影响营运成本的因素包括可以达到的表面制备速度和用于制备表面的材料成本。工业上一般追求具有高材料去除速率的成本有效材料。但是，表现出高去除速率的研磨剂经常在实现所需表面特性方面表现出较差的性能。相反，能产生所需表面特性的研磨剂经常具有低的材料去除速率。因此，表面制备经常是使用各种级别的研磨片的多步骤过程。通常，由一个步骤引起的表面瑕疵通过在随后步骤中使用较细晶粒的研磨剂修复。因此，引起细划痕和表面瑕疵的研磨剂导致随后步骤中的工作量增加。通常，任意一个步骤中工作量的任何增加都会导致成本增加。例如，工作量增加包括用于提高表面品质的时间延长以及该步骤期间使用的研磨产品数量增加。步骤中的时间延长和使用的研磨产品数量增加都会导致成本增加，在导致在市场上的不利条件。在CD、DVD、游戏再出售店铺和出租提供商中，优选在随后出租或出售之前能对光学介质进行单步骤表面修复。因此，希望通过使用单独一种研磨产品就能获得高去除速率和高品质的表面特性。表面特性的品质较差会降低修复表面的成功率，从而导致来自CD或DVD的收益受损并且因为再购买CD或DVD而产生的相关费用。另一方面，低去除速率导致低生产量和无效率。因此，需要一种在使用时能提供改进的表面特性的成本有效设计的研磨制叩o发明概述在一个具体实施方式中，研磨制品包括具有突起体阵列的研磨层。研磨层的厚度不大于约100密耳。该研磨制品没有背衬层。在另一个示范性实施方式中，研磨制品包括具有第一主表面和第二主表面的研磨层。第一主表面限定一组从研磨制品的第一表面延伸的突起。研磨制品包括在与第二主表面直接接触的粘合层。粘合层限定研磨制品的第二表面。在一个进一步的示范性实施方式中，研磨制品包括具有第一主表面和第二主表面的研磨层。第一主表面限定一组突起体。研磨制品还包括与第二主表面直接接触的粘合层，并包括与该粘合层直接接触的紧固层(fastenerlayer)。在一个具体的实施方式中，研磨制品由固化的制剂形成。该制剂包含液体硅橡胶、二氧化硅增强颗粒和磨料粒。在另一个示范性实施方式中，一种方法包括掺混液体硅橡胶、二氧化硅增强颗粒和磨料粒从而形成制剂。该方法进一步包括形成制剂的表面特征层并对制剂固化。在一个进一步的示范性实施方式中，研磨制品包括含有有机硅粘结剂和磨料粒的层。该层的伸长率至少约为50%。在另一个示范性实施方式中，研磨制品包括构造成表面面积随着磨损增加的表面特征层。表面特征层包含有机硅粘结剂和磨料粒。表面特征层的厚度不大于约500密耳。研磨制品没有背衬层。在一个进一步的示范性实施方式中，研磨制品包括具有表面突起的层。该层包含硅酮粘结剂和磨料粒。研磨制品的光泽性能至少约为20。在另一个实施方式中，对涂漆表面进行精整的方法包括用由固化的制剂形成的研磨制品研磨涂漆的表面。制剂包含液体硅橡胶、二氧化硅增强颗粒和磨料粒。该方法进一步包括对经过研磨的涂漆表面进行抛光。在另一个示范性实施方式中，对涂漆表面进行精整的方法包括用研磨制品研磨涂漆的表面，研磨制品包括构造成表面面积随着磨损增加的表面特征层。特征层包含有机硅粘结剂和磨料粒。研磨制品没有背衬层。该方法进一步包括对经过研磨的涂漆表面进行抛光。附图简要说明通过参考以下附图，本领域技术人员能更好地理解本发明、其各特征和优点。图1是示范性结构的研磨制品的截面图。图2和图3是示范性结构的研磨制品中表面突起的图案形式的示范性表面特征层的示意图。图4和图5是示范性结构的研磨制品的表面特征的截面的示意图。图6是说明形成示范性结构的研磨制品的示范性方法的流程图。图7是示范性结构的研磨制品的截面图。本发明优选实施方式在一个具体实施方式中，研磨制品由形成表面特征层的研磨制剂形成。在一个实施方式中，研磨制品没有背衬(即没有结构化的背衬层)，所以该研磨制品是自支持的。具体地说，形成表面特征层的制剂是自支持的，所以特征层在研磨性质耗尽之前能经得起使用而不会发生结构性分解。在一个例子中，制剂包含有机硅树脂、细小增强微粒和磨料粒。在一个具体例子中，有机硅树脂由液体硅橡胶形成，液体硅橡胶一般包含细小的增强微粒如二氧化硅。表面特征层包括表面突起的集合。表面突起的集合可以是随机的，在一个实施方式中形成图案。另外，截面的表面积在研磨制品的磨损过程期间可以变化(一般是增加)，例如在倾斜侧壁的表面突起(四棱锥形、圆锥形、棱柱形等的表面突起)的情况下，或者在研磨制品磨损过程期间具有一般恒定的截面表面积，例如在垂直壁突起(矩形、正方形、棒形等的突起)的情况下。在一个示范性实施方式中，研磨制品还可以包括粘合层。在另一个示范性实施方式中，形成研磨制品的方法包括混合液体硅橡胶和磨料粒，以形成制剂。液体硅橡胶通常包含二氧化硅增强微粒。使用制剂形成表面特征层，例如包括上述表面突起集合的表面特征层。另外，该方法包括对制剂固化、形成表面特征层。或者，可以使用热塑性或其他热固性聚合物形成研磨制品。在一个示范性实施方式中，研磨制品包括由聚合物制剂和磨料粒形成的表面特征层。聚合物制剂可以是热塑性制剂。或者，聚合物制剂可以是可固化制剂。在一个进一步的例子中，聚合物制剂可以是可固化和热塑性制剂的组合，例如热塑性硫化橡胶(vulcanate)。在一个具体例子中，热塑性制剂是热塑性弹性体。在一个进一步的例子中，聚合物制剂可以包含玻璃化转变温度不超过约25。C的组分。例如，聚合物制剂可以是聚合物的掺混物，其中一种聚合物的玻璃化转变温度不超过约25'C，或者聚合物制剂可以是嵌段共聚物，其中一种嵌段组分的特征在于，一种聚合物单元独立具有不超过约25'C的玻璃化转变温度。具体地说，聚合物制剂中低玻璃化转变温度的组分含量不大于约10重量％，例如不大于约5重量％，或者甚至不大于约3重量％。一种示范性聚合物制剂包括聚酰胺-聚醚共聚物；聚酯-聚醚共聚物；丙烯酸、丙烯酸共聚物、或改性的丙烯酸共聚物，例如乙烯-甲基丙烯酸酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸酯-马来酸酐共聚物、聚甲基丙烯酸丁酯、或甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸丁酯共聚物；乙烯-乙酸乙烯酯共聚物；乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物；二烯弹性体；热塑性聚氨酯；聚乳酸和聚己内酯-聚硅氧烷共聚物的掺混物；有机硅树脂；或它们的任何掺混物或任意组合。一种示范性的聚酰胺-聚醚可以商品名Pebax从Arkema获得，例如Pebax2533。示范性的丙烯酸聚合物(包括共聚物和改性的共聚物)可以商品名0revac、Lotryl和Lotader从Arkema获得，或者以Elvacite从Lucite获得。一种示范性的聚酯-聚醚共聚物可以商品名Riteflex从Ticona获得。一种示范性的热塑性聚氨酯可以商品名Elastollan从BASF获得。一种示范性的二烯弹性体包括乙烯、丙烯和二烯单体的共聚物(EPDM)。一种示范性的二烯单体包括共轭二烯，例如丁二烯、异戊二烯、氯丁二烯等；包含约5-25个碳原子的非共轭二烯，例如1,4-戊二烯、1，4-己二烯、1,5-己二烯、2，5-二甲基-1，5-己二烯、1,4-辛二烯等；环二烯，例如环戊二烯、环己二烯、环辛二烯、二环戊二烯等；乙烯基环烯，例如1-乙烯基-l-环戊烯、l-乙烯基-l-环己烯等；垸基二环壬二烯，例如3-甲基二环-(4,2，1)-壬-3，7-二烯等；茚，例如甲基四氢茚等；链烯基降冰片烯，例如5-亚乙基-2-降冰片烯、5-亚丁基-2-降冰片烯、2-甲代烯丙基-5-降冰片烯、2-异丙烯基-5-降冰片烯、5-(1，5-己二烯基)-2-降冰片烯、5-(3，7-辛二烯基)-2-降冰片烯等；三环二烯，例如3-甲基三环(5，2，1，02，6)-癸-3，8-二烯等；或它们的任意组合。在一个具体的实施方式中，二烯包括非共轭二烯。在另一个实施方式中，二烯弹性体包括链烯基降冰片烯。以二烯弹性体的总重量为基准计，二烯弹性体可以包含例如占聚合物约63-95重量％的乙烯、约5-37重量％的丙烯、和约0.2-15重量％的二烯单体。在一个具体的实施方式中，乙烯含量约为二烯弹性体的70-90重量％，丙烯约为17-31重量％，二烯单体约为2-10重量％。示范性二烯弹性体可以商品名Nordel从Dow获得，例如NordelIP4725P或Nordel4820。在一个具体的实施方式中，聚合物制剂包含有机硅树脂。例如，有机硅树脂可以由高稠度硅橡胶(HCR)或液体硅橡胶(LSR)形成，有机硅树脂可以包含增强热解法二氧化硅填料。在一个具体的例子中，有机硅树脂由LSR形成。一般来说，硅橡胶(LSR或HCR)交联形成有机硅橡胶，硅橡胶形成其中可以分布或分散有磨料粒的基质。这种交联的有机硅树脂用作为磨料粒的粘结剂，与之相比，未交联的有机硅的结构会使磨料粒迁移至研磨制品的表面。有机硅树脂也可以由硅油形成，获得的硅油一般不含热解法二氧化硅。在这种情况下，将硅油(部分A和B)与催化剂、增强微粒(例如热解法二氧化硅)和磨料粒掺混在一起，然后固化形成有机硅树脂。一种示范性的硅油或硅橡胶包含硅氧垸聚合物主链，主链上可以连接官能团。在一个例子中，官能团可以包括非反应性官能团，例如卤素基团、苯基、烷基或它们的任意组合。例如，氟硅氧垸可以包含与主链相连的氟官能团。在另一个示范性实施方式中，硅氧烷主链可以连接甲基、乙基、丙基或它们的任意组合。另外，硅氧烷主链可以包含功能是促进交联的反应性官能团。一种示范性的反应性官能团包括氢负离子(hydride)基团、羟基、乙烯基或它们的任意组合。例如，硅氧烷聚合物可以包括聚氟代硅氧烷、聚苯基硅氧烷、聚烷基硅氧烷或它们的任意组合，这些硅氧烷聚合物具有反应性官能团，例如乙烯基端基。在一个具体例子中，有机硅树脂由基础聚硅氧垸和交联剂形成。在一个例子中，交联剂可以是有机交联剂。在一个具体例子中，交联剂是基于有机硅的包含反应性氢负离子官能团的交联剂。表面特征层可以由包含液体硅橡胶(LSR)的未固化制剂形成。例如，使用DIN53019测试方法在10秒—'的剪切速率下测量，未固化的液体硅橡胶的粘度可以不大于600000厘泊。例如，粘度可以不大于450000厘泊，例如不大于400000厘泊。通常粘度至少约为50000厘泊，例如至少约为100000厘泊。在进一步的一个例子中，不含增强微粒的硅油的粘度可以约为5-165000厘泊。对于已固化制剂的情况，可以在固化之前将聚合物制剂与磨料粒和任选的增强微粒掺混。另外，可以添加各种固化剂、催化剂和热引发剂或光引发剂以及敏化剂。在一个示范性实施方式中，硅橡胶与磨料粒掺混从而形成随后固化的制剂。在一个例子中，该制剂可以使用过氧化物催化剂固化。在另一个例子中，该制剂可以使用铂催化剂固化。在一个具体的实施方式中，有机硅包括铂催化的两份式液体硅橡胶(LSR)。第一份包括乙烯基封端或接枝的聚垸基硅氧烷，第二份包括交联剂。在一个具体例子中，第一部分包括催化剂和抑制剂。在另一个例子中，交联剂可以包括基于硅氧烷的交联剂，其具有连接反应性官能团(例如氢负离子或羟基基团)的硅氧烷主链。一般来说，在形成研磨制品之前将聚合物制剂与磨料粒或增强微粒掺混在一起。使用热塑性聚合物制剂时，可以将磨料粒或增强微粒与在熔融状态下的聚合物制剂掺混在一起。聚合物制剂是已固化的制剂时，可以将磨料粒或增强微粒与聚合物制剂的未固化组分掺混在一起。因此，冷却或固化时，聚合物制剂、磨料粒和任选的增强微粒可以形成复合材料，其中，磨料粒和任选的增强微粒分布或分散在整个聚合物基质中。在一个示范性实施方式中，将硅油和增强二氧化硅填料以及磨料粒掺混在一起形成随后固化的制剂。在一个例子中，硅油包括两个部分以及铂或过氧化物催化剂。第一部分包括乙烯基末端或接枝的聚烷基硅氧烷，第二部分包括交联剂，例如聚氢化垸基硅氧垸。由聚合物制剂形成的聚合物基质可以表现出需要的机械性质，例如，由这种聚合物制剂形成的研磨层是自支持的，能够形成无背衬制品。具体地说，可以使用该聚合物制剂形成在研磨性质耗尽之前能经得起使用不会发生结构性分解的研磨层。例如，不含磨料粒的聚合物基质可以表现出需要的断裂伸长、抗张强度或抗张模量。例如，用DIN53504Sl测量，不含磨料粒时，聚合物基质可以表现出至少约50%的断裂伸长，例如至少约100%、至少约200%、至少约300%、至少约350%、至少约450%、或者甚至至少约500%。具体地说，用DIN53504Sl测量，不含磨料粒时，含有增强二氧化硅填料的有机硅树脂的断裂伸长至少约为350%，例如至少约为450%、或者甚至至少约为500%。在另一个例子中，不含磨料粒的已固化有机硅树脂的抗张强度至少约为IO兆帕。在一个示范性实施方式中，形成研磨制品的表面特征层的制剂可以包含增强微粒。例如，增强微粒可以结合在硅橡胶中。或者，例如可以在即将添加磨料粒之前，将增强微粒添加在硅油中一起制备制剂。示范性的增强微粒包括二氧化硅微粒、氧化铝微粒或它们的任意组合。在一个具体例子中，增强微粒包括二氧化硅，例如热解法二氧化硅。示范性二氧化硅微粒可以商品名Aerosil从Degussa获得，例如AerosilR812S，或者可从卡博特公司(Cabot)获得，例如CabosilM5热解法二氧化硅。在另一个示范性实施方式中，增强二氧化硅可以加入液体硅橡胶制剂中，例如可从瓦克硅材料(WackerSilicones)获得的Elastosi13003。一般来说，增强微粒分散在聚合物基质中，具体是单分散的，基本上没有团聚物。在另一个示范性实施方式中，经由基于溶液的方法形成的增强微粒(例如溶胶形成和溶胶-凝胶形成的陶瓷)特别适合用于制剂中。合适的溶胶可以购得。例如，水溶液中的胶体二氧化硅可以商品名LUD0X(特拉华州威明顿的杜邦公司(E.I.DuPontdeNemoursandCo.，Inc.Wilmington,Del."、NYACOL(马萨诸塞州爱斯兰德的纳卡公司(NyacolCo.，Ashland,Ma.))或NALC0(伊利诺斯州橡木布鲁克的纳卡化学公司(NalcoChemicalCo.，OakBrook,111,))获得。许多市售溶胶是碱性的，用碱(例如氢氧化钠、氣氧化钾或氢氧化铵)稳定。美国专利5126394中描述了合适的胶体二氧化硅的其他例子，该专利通过参考结合于此。特别合适的是溶胶形成的二氧化硅和溶胶形成的氧化铝。通过使一种或多种适当的表面处理剂与溶胶中的无机氧化物基质颗粒反应，可以使溶胶官能化。在一个具体的实施方式中，增强微粒是亚微米尺寸的。增强微粒的表面积可以约为50-500平方米/克，例如约为100-400平方米/克。增强微粒可以是纳米尺寸的微粒，例如微粒的平均粒度约为3-500纳米。在一个示范性实施方式中，增强微粒的平均粒度约为3-200纳米，例如约为3-100纳米、约为3-50纳米、约为8-30纳米、或者约为10-25纳米。在一个具体的实施方式中，平均粒度不大于约500纳米，例如不大于约200纳米、或者不大于约150纳米。对于增强微粒，平均粒度可以定义为对应于小角度中子散射(SANS)分布曲线的峰值体积分数的粒度或者定义为对应于SANS分布曲线的0.5累积体积分数的粒度。增强微粒还可以通过半宽度不大于平均粒度的约2.0倍的窄分布曲线来表征。例如，半宽度可以不大于约1.5倍或不大于约l.O倍。分布的半宽度是分布曲线最大高度一半处的宽度，例如分布曲线峰处颗粒分数的一半。在一个具体的实施方式中，粒度分布曲线是单峰式。在另一个实施方式中，粒度分布是双峰的，或者说在粒度分布中具有超过一个的峰。在一个例子中，制剂中包含的增强微粒的量是基于硅酮、增强微粒和磨料粒的重量之和的量。例如，以制剂的总重量(包括增强微粒、有机硅树脂和磨料粒)为基准计，制剂中增强微粒的含量至少约为3重量％。具体地说，制剂可以包含至少约5重量％的增强微粒，例如至少约10重量％、或者甚至至少约13重量％的增强微粒。另外，制剂可以包含不大于约60重量％的增强微粒，例如不大于约50重量％。制剂可以进一步包含磨料粒。磨料粒可以由任何一种或多种磨料粒的组合形成，磨料粒包括二氧化硅、氧化铝(热解法或烧结的)、氧化锆、氧化锆/氧化铝氧化物(zirconia/aluminaoxide)、碳化硅、石榴石、金刚石、立方氮化硼、氮化硅、氧化铈、二氧化钛、二硼化钛、碳化硼、氧化锡、碳化钩、碳化钛、氧化铁、氧化铬、燧石、金刚砂或它们的任意组合。例如，磨料粒可以选自下组二氧化硅、氧化铝、氧化锆、碳化硅、氮化硅、氮化硼、石榴石、金刚石、共煅制的氧化铝氧化锆、氧化铈、二硼化钛、碳化硼、燧石、金刚砂、氮化铝或它们的掺混物。具体地说，磨料粒可以选自下组氮化物、氧化物、碳化物或它们的任意组合。在一个例子中，氮化物可以选自立方氮化硼、氮化硅或它们的任意组合。在另一个例子中，氧化物可以选自氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化锆/氧化铝氧化物、氧化铈、二氧化钛、氧化锡、氧化铁、氧化铬或它们的任意组合。在进一步的例子中，碳化物可以选自碳化硅、碳化硼、碳化钨、碳化钛或它们的任意组合，特别可以包括碳化硅。具体的实施方式使用主要由d-氧化铝构成的致密磨料粒。在另一个具体例子中，磨料粒包括碳化硅。磨料粒还也可以具有特别的形状。这种形状的一个例子包括棒形、三角形体、棱锥、圆锥、实心球、中空球等。或者，磨料粒可以是随意的形状的。磨料粒的平均粒度一般不大于2000微米，例如不大于约1500微米。在另一个例子中，磨料粒尺寸不大于约750微米，例如不大于约350微米。例如，磨料粒尺寸至少为0.1微米，例如约为0.1-1500微米，更典型的约为0.1-200微米、或者约为1-100微米。磨料粒的粒度一般由磨料粒最长的尺寸限定。一般来说，粒度存在范围分布。在一些情况下，严格控制粒度分布。在一种示范性制剂中，磨料粒占制剂重量的约10-90%，例如约30-80%。在一个示范性的实施方式中，以制剂的总重量为基准计，制剂包含至少约30重量％的磨料粒。例如，制剂可以包含至少约45重量％的磨料粒，例如至少约为55重量％。一般来说，制剂包含不大于90重量％的磨料粒，例如不大于85重量％。一般来说，制剂(包括聚合物制剂、磨料粒和任选的增强微粒)形成表面特征层。一旦形成层之后，制剂表现出能有益地提高由制剂所形成的研磨制品的性能的机械性质。具体地说，制剂可以表现出所需的机械性质，例如断裂伸长、硬度、抗张模量或抗张强度。另外，可以对研磨制品在产生研磨后产品所需的表面特性的性能进行评价。在一个示范性的实施方式中，例如用ASTMD412测试方法测量或者用DIN53504Sl测试方法测量，制剂表现出至少约为50%的断裂伸长。具体地说，断裂伸长可以至少约为100%，例如至少约为125%、或者甚至至少约为135%。已固化制剂还可以具有需要的硬度，例如根据DIN53505测试方法，硬度约为50肖氏A-75肖氏D。例如，硬度可以不大于约75肖氏D，例如不大于60肖氏D、或者不大于50肖氏D。在另一个示范性实施方式中，制剂表现出所需的抗张模量，即根据ASTMD412，在100%应变下的抗张模量不大于约8.0兆帕。例如，抗张模量可以不大于约7.6兆帕，例如不大于约7.5兆帕。另外，已固化制剂具有所需的抗张强度，根据ASTMD412，至少约为7.0兆帕。例如，已固化制剂的抗张强度至少约为7.5兆帕，例如至少约为8.0兆帕。或者，制剂可以表现出至少约为8兆帕的抗张模量，例如至少约为14兆帕、或者甚至至少约为30兆帕。特定制剂可以表现出大于100兆帕的抗张模量。制剂的机械性质可以对研磨制品的性能起作用，例如有益地作用于由这种制剂形成的研磨制品可以实现的表面特性。例如，已固化制剂的机械性质可以作用于表面性能特性，例如下文定义的光泽性能或粗糙度性能。另外，研磨制品可以表现出由下文定义的去除指数表征的所需的材料去除速率。在一个示范性的实施方式中，制剂可以形成研磨制品的表面特征层。图1是示范性结构化的研磨制品IOO的示意图。或者，可以使用制剂形成其他非结构化的涂布的研磨制品或粘结的研磨制品。通常，结构化的涂布的研磨制品包括具有突起表面结构集合的涂布的研磨制品，这些突起表面结构一般排列成图案。结构化的研磨制品也称为设计的研磨制品，其包含分散在粘结剂中且以图案或随机阵列形式在研磨制品上或其整体上形成离散的三维单元的大量磨料粒。结构化的研磨制品一般具有较高的材料去除速率以及精细的表面精整和长的寿命。这些研磨制品设计成被磨去、连续地在研磨界面上露出新鲜的研磨剂。但是，大多数结构化的研磨制品被设计成用于髙作用力的应用。因此，用于低作用力应用时，树脂质粘结剂不会碎裂或磨去从而露出新的磨料粒。图1中所示的示范性结构化的研磨制品100包括研磨层102。研磨层102包括突起结构体108，突起结构可以排列成图案。在所示实施方式中，将突起结构体108构造成能依据磨损提供增加的接触面积的结构，如具有倾斜侧表面的突起的情况。例如，结构体108的截面可以随距研磨层102底部的距离的增加而縮小。一般来说，研磨层102由包含聚合物制剂、增强微粒和磨料粒的制剂形成。例如，可以将制剂形成图案化的层，并且固化或定型，产生具有结构体108的研磨层102。在一个示范性的实施方式中，形成的研磨层102可以具有背衬层或支持层。背衬层通常直接与研磨层102粘结并直接接触。例如，可以将研磨层102挤压或压延在背衬层上。背衬层或支持层可以包括聚合物膜、聚合物泡沬或纤维织物。在一个具体例子中，背衬层或支持层可以包括布、纸或它们的任意组合。一般来说，背衬层或支持层是不含磨料粒的非研磨层。背衬层或支持层一般为研磨制品提供结构支持或赋予机械性质，如果没有背衬层或支持层，研磨层102的性能会变差。或者，研磨制品100可以没有背衬层。用于形成研磨层102的特定制剂提供所需的机械性质并且可以是自支持的。即，研磨层102可以构造成在使用或制造期间不依赖于背衬层。例如，自支持的研磨层102可以在研磨性质将被耗尽之前经得起使用而不会发生结构性的分解。具体地说，制剂中聚合物的性质使得可以形成研磨制品IOO而没有背衬层，与一般在涂布过程中要求使用背衬层来承载研磨层并在使用期间提供机械完整性或挠性的现有技术相比，不使用背衬层的情况具有特别的优势。具体地说，研磨层102可以是自支持的，而不需要存在下面的支持层或背衬层。这种下面的支持层或背衬层传统上具有抗张性质，这样的强度和挠性的组合性质使得优于传统研磨层的抗张性质。在这种具体实施方式中，研磨制品100中不存在抗张性质优于研磨层102的抗张性质的层。除了研磨层102以外，研磨制品IOO可以包括粘合层104。例如，粘合层104可以包含压敏粘合剂或固化的粘合剂。使用粘合剂将研磨制品粘结至研磨工具上时，可以在研磨层上覆盖剥离膜隔离从而防止过早粘合。这些隔离膜一般在将把研磨制品IOO贴附于研磨工具之前即刻去除。在图7中所示的具体实施方式中，粘合层704可以形成下侧表面，例如压敏粘合剂表面，具有表面特征708的研磨层702可以形成研磨上表面。具体地说，粘合层704与研磨层702直接接触，例如没有插入的结构层。在另一个示范性的实施方式中，粘合层102可以粘结至紧固片106。具体地说，紧固片106可以起到将研磨产品与研磨机器连接的作用。在一个例子中，紧固片106没有构造成为研磨制品提供结构支持。例如，紧固片106的抗张强度可以小于研磨层102的抗张强度。在一个例子中，紧固片106可以是勾和环的紧固系统中的一个部件。可以使用这种紧固系统将研磨制品IOO连接至研磨工具。研磨制品100的结构体108可以排列成图案。例如，图2和图3是研磨结构示范性图案的示意图。在一个示范性的实施方式中，图2说明结合在研磨层202中的研磨结构体204的图案200。例如，研磨结构体204排列成格栅图案。在另一个示范性的实施方式中，图3图示说明图案300，其中，三棱柱形的研磨结构体304结合在研磨层302中。如图所示，三棱柱形结构304排列成平行线。或者，结构体可以任意排列成无限定的图案，或者交互行列中的图案要素可以彼此偏移。在另一个例子中，结构体108可以是具有倾斜侧壁的离散突起。在另一个例子中，结构体108可以是具有基本垂直侧壁的离散突起。结构体108可以排列成具有图案的阵列或者可以排列成随机阵列。在一个实施方式中，从研磨层突出的研磨结构体被构造成能够依据磨损增加接触面积。例如，图4和图5包括对示例研磨结构的截面的示意图。图4示出具有三角形截面的研磨结构体400。磨损至第一程度时，由宽度402表示的接触面积小于由进一步磨损产生的接触面积(例如接触面积404)。一般情况下，随着406指示的垂直高度减小，在由408指示的水平面上形成的接触面积增大。在另一个示范性实施方式中，研磨结构可以具有半圆形截面500，其中的接触表面504大于由较少磨损产生的接触表面(例如表面502)。虽然图4和图5中所示的垂直截面为规则形状，但是结构体或突起可以是不规则形状或者是规则形状的。如果是规则形状的，则突起可以具有水平截面，例如圆形或多边形。回到图1，已经发现上述制剂特别适用于形成特定的结构化研磨制品，特别是那些没有支持层或背衬层并且包含薄形结构的研磨制品。在一个示范性的实施方式中，研磨层102由字母b表示的总高度不大于约500密耳，例如不大于约350密耳、不大于约200密耳、不大于约100密耳、不大于约50密耳、或者甚至不大于约35密耳。研磨结构体108可以不大于约20密耳，例如不大于约15密耳。另外，由字母c表示的研磨层102不包括研磨结构108的宽度可以不大于约15密耳，例如不大于约10密耳。在一个示范性的实施方式中，可以使用图6中所示的方法形成研磨制品。例如，可以如602所示将有机硅与磨料粒混合。在一个具体的实施方式中，将包含二氧化硅增强微粒的液体硅橡胶与磨料粒混合从而形成未固化的制剂。另外，混合可以包括将液体硅橡胶的A部分A和B部分混合。或者，混合可以包括以多种顺序中的一种混合硅油、增强微粒和磨料粒从而形成制剂。可以如604所示使用制剂形成图案化的层。例如，图案化的层可以包括表面结构体的图案，所述结构体构造成能够依据磨损提供增加的接触面积。例如，可以将已固化制剂挤出或压延成片。可以对片进行压印、雕刻、或一般进行图案化、或者这些操作的任意组合，从而提供图案化的表面结构。在另一个示范性实施方式中，可以将制剂挤出或压延在带有负片图案的负片表面上，从而形成图案化层的图案。一旦由未固化的制剂形成图案化的层之后，可以如606所式对制剂固化。对于铂催化的有机硅的情况，可以对制剂以及由其形成的图案化层进行加热，然后进行热固化。在备选的实施方式中，可以使用由光化辐射反应的催化剂体系。典型的固化条件是在35(TF保持5分钟。使用热塑性聚合物制剂可以实施类似的方法。例如，可以将热塑性聚合物制剂与磨料粒和任选的增强微粒掺混。可以在挤出机或加热的掺混机中进行这种惨混操作。可以将包含聚合物制剂、磨料粒和增强微粒的掺混的制剂挤出并进行图案化。例如，可以使用压模、辊或其他图案化技术在掺混的制剂的挤出层的表面中形成表面图案。在具体例子中，可以将掺混的制剂挤出在带负片图案的模具上。可以使经过掺混的制剂冷却从而形成研磨层。可以添加粘合层或紧固层，形成研磨产品。或者，可以对该方法进行改进从而用于热塑性硫化橡胶。虽然研磨制品的实施方式可用于各种工业应用，但是研磨制品的具体实施方式在表面处理工业(例如光学介质修复工业)中具有有益的应用。例如，可以通过预砂磨处理对经过处理的表面(例如光学介质或涂漆的表面)进行研磨。一般使用粗粒研磨制品进行预砂磨，一般能去除较大的表面缺陷，留下无光泽面层(mattfinish)。在一个示范性的实施方式中，使用粒度小于粗粒研磨剂的研磨制品对经过预砂磨的表面进行进一步的研磨。例如，可以使用由上述制剂形成的研磨制品对经过预砂磨的表面进行进一步的研磨。制剂可以包含聚合物制剂、二氧化硅增强微粒和磨料粒。在另一个例子中，可以使用包括具有表面图案的层的研磨制品对经过预砂磨的表面进行进一步的研磨，所述表面图案构造成能够随着磨损增加表面面积。该层可以包含聚合物制剂和磨料粒。该研磨制品可以没有背衬层。研磨之后，可以对经过研磨的表面进行磨光或抛光。例如，可以使用羊毛垫或泡沫垫对经过研磨的表面进行磨光或抛光。经过磨光或抛光的表面一般具有所需的粗糙度和光泽度。在一个具体的实施方式中，可以使用研磨制品修复光学介质，例如CD或DVD。例如，CD或DVD出租机构或再销售商可以接受使用过的光学介质。在一个例子中，出租机构可以通过店铺柜台接受光学介质。在另一个例子中，机构可以经由邮政接受光学介质。可以用如上文所述形成的研磨制品对CD或DVD进行研磨。在一个具体例子中，研磨制品不包括背衬层。在另一个例子中，研磨制品可以包括压敏粘合剂表面。可以对CD或DVD进行清洁并进行抛光。然后可以提供CD或DVD用于后续使用，例如再次出租或出售。具体地说，这些研磨制品可以用于随后不进行涂布过程并且用研磨制品进行研磨可以使经过抛光的表面具备防污或防尘能力的方法中。研磨制品的具体实施方式在使用时有益地提供改进的表面特性。例如，使用研磨制品的具体实施方式可以对经过研磨的表面改进粗糙度和光泽度。例如，光泽性能可以定义为使用研磨制品制备的表面的平均光泽度。可以首先使用来自3M的3M260LP1500对新鲜涂漆的金属表面的2英尺乘4英尺的面积进行砂磨或预砂磨。这种预砂磨一般产生用Mahr-FederalPerthometerM2测量的平均粗糙度(Ra)为7.8-9微英寸的表面。使用待测试的研磨制品对经过预砂磨的涂漆表面进行1分钟砂磨。测量平均粗糙度和60度光泽度(MicroTri-光泽计，来自Tricor-systems)。光泽性能是上述过程之后经过砂磨的物体的平均光泽度。按60°光泽度或反射比测量，研磨制品的具体实施方式可以产生至少约25的平均光泽性能，例如至少约为26、或者至少约为28.5。光泽性能强烈取决于晶粒的磨粒尺寸。例如，较粗的磨粒(例如J400或更高粒度)能产生小于20的光泽度，而非常细小的磨粒(例如J3000)能产生60的光泽度。如果两种样品的磨粒尺寸一致，则粘结剂制剂和增强微粒会影响光泽性能。另外，粗糙度性能定义为以上述方式制备的表面的平均粗糙度(Ra)。研磨制品的具体实施方式可以表现出不大于约3.5的粗糙度性能，例如不大于约3.1，或者甚至不大于约2.6，测量单位是微英寸。在进一步的例子中，可以根据研磨制品在丙烯酸片上的性能定义粗糙度指数和去除指数。将研磨产品附在压力从动的Hutchin任意轨道砂磨机上。将产品在经过3M260L1500预砂磨的6个丙烯酸面板上进行砂磨。总砂磨时间为3分钟，每个面板砂磨30秒。30秒之后，测量丙烯酸面板的重量损失和表面粗糙度Ra(测量单位是微英寸)。去除指数定义为6个丙烯酸面板的累积重量损失，粗糙度指数定义为第一个丙烯酸面板的平均粗糙度Ra。具体地说，研磨产品的粗糙度指数可以不大于6.0，例如不大于5.0、不大于4.0、或者甚至不大于3.0，测量单位为微英寸。在进一步的例子中，去除指数可以至少约为O.1，例如至少约为0.2、至少约为0.3、或者甚至至少约为0.5，测量单位为克。实施例实施例1测量由基于有机硅的制剂形成的层的机械性质。以制剂的总重量为基准计，混合Elastosil3003LR50液体有机硅A部分A和B部分(来自于瓦克硅材料)以及约60重量％的J800碳化硅磨料粒(来自于Nanko)，形成制剂。Elastosil3003LR50是两部分液体有机硅，其包含估计含量约为33重量％的预混合的二氧化硅增强剂。这相应于整个制剂中约13重量％的二氧化硅。不含磨料粒的Elastosil3003LR50在10秒—1的剪切速率下的粘度(DIN53019)约为360000厘泊，在不含磨料粒的条件下固化后的抗张强度约为10.6兆帕，伸长率为520%(DIN53504Sl)。在加压下，在175°C的加热的模具中使制剂固化5分钟。固化后制剂具有约7.76兆帕(1126psi)的抗张强度和约137%的断裂伸长(ASTMD412)。另外，固化后制剂的100%模量为约7.22兆帕(画psi)，肖氏A硬度为83。实施例2将两个无背衬的研磨样品与来自3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品1由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50和65重量％的WA800氧化铝磨料粒的制剂形成，该样品包括边长500微米的正方形底面且表面上高度约250微米的结构化四棱锥图案。样品1在加热至约350°F的模具中固化并且冷却至约100°F，周期时间约为45分钟。样品2由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂按照上述方式制备。为测试样品性能，用3M260LP1500对新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约为7.8-9.0微英寸。用样品1或样品2或比较例样品对该部分进行1分钟砂磨。表1说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表l.粗糙g<table>tableseeoriginaldocumentpage22</column></row><table>在样品1、样品2或比较例样品的表面上没有观察到缺陷。样品1和样品2都表现出与3MTrizactP3000类似的粗糙度性能。但是，样品1和2表现出改进的光泽性能，比比较例样品提高约100%。实施例3使用不同负载量的增强二氧化硅制备两个无背衬的研磨样品。样品3由包含Wacker⑧SiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂按上述方式制备。样品3包含约13%的热解法二氧化硅。样品4是通过混合DMS-V31乙烯基封端的聚二甲基硅氧烷、HMS-301氢化物交联剂、SIP6829.2铂催化剂(以上都来自于宾夕法尼亚州莫瑞斯菲勒的杰勒斯特公司(Gelest，Inc，Morrisville，PA))以及相对每100份的10份(10phr)CabosilM5热解法二氧化硅(来自于卡博特公司)形成混合物而制备。随后将混合物与60重量％的J800碳化硅混合。样品4包含约4%的热解法二氧化硅。在用Spies-Hecker透明涂层涂布并用3M260LP1500预砂磨至6.3-7.3微英寸粗糙度的部分表面上测试样品，并且与Trizact443SAP3000(来自于3M)进行比较。各样品在护罩上的相同面积上的砂磨时间为1分钟。表2说明样品达到的粗糙度和光泽性能。表2.粗糙^<table>tableseeoriginaldocumentpage23</column></row><table>在经过研磨的表面上没有观察到缺陷。样品3和样品4都表现出优于比较例样品的改进的光泽性能。但是，样品3(其二氧化硅增强剂负载量较大)在光泽性能方面显示出更大的改进，在粗糙度性能方面显示出改进。实施例4将无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品5由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成，并且包括每英寸直线具有45个四棱锥的结构化四棱锥图案。样品5在加热至约350°F的模具中固化，并且冷却至约100°F，周期时间约为45分钟。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后用样品5或比较例样品将该部分砂磨1分钟。表3说明样品的粗糙度性能和光泽性表3<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>样品5表现出高于比较例产品的光泽性能。实施例5将两个无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品6禾Q7由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50禾卩60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成，并且包括每英寸直线具有45个四棱锥的结构化四棱锥图案。样品6由压縮模塑形成，样品7由挤出和压纹形成。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后使用样品6或样品7或比较例样品之一将该部分砂磨1分钟。表4说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage24</column></row><table>相对于比较例样品，样品6和样品7都表现出改进的光泽性能。实施例6将两个无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品8和9由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成。样品8具有包括每英寸直线有90个四棱锥的表面，样品9包括每英寸直线有45个四棱锥的图案。两个样品都通过压縮模塑形成。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后使用样品8或样品9或比较例样品之一将该部分砂磨1分钟。表5说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表5<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>相对于样品9和比较例样品，样品8表现出改进的光泽性能。实施例7将三个无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品10、11和12由包含Wacker②SiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成。样品10具有包括每英寸直线有90个四棱锥的图案，样品11包括每英寸直线有45个四棱锥的图案，样品12包括每英寸具有35根线条的随机三螺旋图案。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后使用样品10、11、12或比较例样品之一将该部分砂磨1分钟。表6说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage25</column></row><table>相对于样品IO、ll和比较例样品，样品12表现出改进的光泽性能。实施例8将两个无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品13和14由包含WackerSiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成。样品13具有包括每英寸直线有45个四棱锥的表面，样品14具有每英寸直线有125个四边形的图案。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后使用样品13或样品14或比较例样品之一将该部分砂磨l分钟。表7说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表7<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>样品13和14表现出相当的光泽性能，相对于比较例样品都有改进。实施例9将两个无背衬的研磨样品与来自于3M的Trizact443SAP3000进行比较。样品15由包含Wacker⑧SiliconeElastosil3003LR50和60重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成，并且每英寸直线具有90个四棱锥。样品16由包含Lotryl29-Ma-03和75重量％的J800碳化硅磨料粒的制剂形成，并且每英寸直线具有45个四棱锥。测试样品性能时，用3M260LP1500对涂布有Spies-Hecker透明涂层的新鲜涂漆的护罩部分预砂磨至平均粗糙度(Ra)约7.8-9.0微英寸。然后使用样品15或样品16或比较例样品之一将该部分砂磨l分钟。表8说明样品的粗糙度性能和光泽性能。表8<table>tableseeoriginaldocumentpage26</column></row><table>相对于样品16和比较例样品，样品15表现出改进的光泽性能。实施例10如上所述制备无背衬的样品并且进行测试以确定去除指数和粗糙指数。表示为LSR2的那些样品由硅油制备，即100克DMS-V31乙烯基封端的硅酮和3.5克HMS-301氢化物交联剂以及合适的铂催化剂。将液体与各种量的热解法二氧化硅和J800磨料粒混合并且固化，从而形成无背衬的研磨制品。表9说明样品的去除指数和粗糙指数。表9<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>表9一般说明填料微粒负载量增加会降低粗糙指数而对去除指数几乎没有影响。实施例11如上所述制备无背衬的研磨样品并且进行测试以确定去除指数和粗糙指数。样品由各种热塑性和热固性材料以及不同量和类型的磨料粒制备。表10说明由各种制剂形成的研磨产品的去除指数和粗糙指数。表10<table>tableseeoriginaldocumentpage27</column></row><table>27<table>tableseeoriginaldocumentpage28</column></row><table>应认为上述主题是说明性的而非限制性的，所附权利要求意图覆盖所有这些改进、改善和落在本发明真实范围内的其他实施方式。因此，就法律所允许的最大程度，本发明的范围由以下权利要求及其等同项的最宽泛、可允许的解读确定，不应受到上述详细说明的限制或限定。权利要求1.一种无背衬的研磨制品，其包括具有第一主表面和第二主表面的研磨层；与第二主表面直接接触的粘合层；和与粘合层直接接触的紧固层。2.如权利要求l所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层包含聚合物制剂和磨料粒。3.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂包括热塑性聚合物。4.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂包括二烯弹性体。5.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂包含有机硅树脂。6.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂具有至少约50%的断裂伸长。7.如权利要求5所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，所述有机硅树脂由液体有机硅树脂形成。8.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层进一步包含增强微粒。9.如权利要求8所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，增强微粒的含量至少约为3重量％。10.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，磨料粒包括碳化桂o11.如权利要求2所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层包含至少约30重量％的磨料粒。12.如权利要求1所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层具有至少约为100%的断裂伸长。13.如权利要求1所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层的厚度不大于约500密耳。14.如权利要求13所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，所述厚度不大于约350密耳。15.如权利要求1所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，第一主表面限定一组突起。16.如权利要求15所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，该组突起排列成图案。17.如权利要求15所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，该组突起是倾斜侧壁的表面突起。18.如权利要求1所述的无背衬的研磨制品，其特征在于，研磨层是自支持的。19.一种研磨制品，其包括具有第一主侧面和第二主侧面的研磨层，第一主侧面限定一组从研磨制品的第一表面延伸的突起；和与第二主侧面直接接触的粘合层，该粘合层限定研磨制品的第二表面。20.如权利要求19所述的研磨制品，其特征在于，研磨层包含聚合物制剂和磨料粒。21.如权利要求20所述的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂具有至少约50%的断裂伸长。22.如权利要求20所述的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂包括热塑性聚合物。23.如权利要求20所述的研磨制品，其特征在于，聚合物制剂包括有机硅树脂。24.如权利要求23所述的研磨制品，其特征在于，所述有机硅树脂由液体有机硅树脂形成。25.如权利要求19所述的研磨制品，其特征在于，研磨层具有至少约100%的断裂伸长。26.如权利要求19所述的研磨制品，其特征在于，研磨层的厚度不大于约500密耳。27.如权利要求19所述的研磨制品，其特征在于，该组突起排列成图案。28.如权利要求19所述的研磨制品，其特征在于，该组突起是倾斜侧壁的表面突起。29.—种研磨制品，其包括具有突起阵列的研磨层，该研磨层的厚度不大于约500密耳；和其中，该研磨制品没有背衬层。30.如权利要求29所述的研磨制品，其特征在于，所述厚度不大于约350密耳。31.如权利要求29所述的研磨制品，其特征在于，所述研磨制品进一步包括与研磨层直接接触的粘合层。32.如权利要求31所述的研磨制品，其特征在于，所述粘合层形成压敏表面，该表面的结构能将研磨制品附着与研磨工具。33.如权利要求31所述的研磨制品，其特征在于，所述研磨制品进一步包括与粘合层直接接触的紧固层。34.—种修复光学介质的方法，所述方法包括接受使用过的光学介质；用研磨制品对使用过的光学介质进行研磨，无背衬的研磨制品包括具有第一主表面和第二主表面的研磨层，第一主表面限定一组突起；提供光学介质以供后用。35.如权利要求34所述的方法，其特征在于，无背衬的研磨制品包括与研磨层的第二主表面直接接触的粘合层。36.如权利要求35所述的方法，其特征在于，无背衬的研磨制品包括与粘合层直接接触的紧固层。37.—种由固化后制剂形成的研磨制品，所述制剂包含液体硅橡胶、二氧化硅增强微粒和磨料粒。38.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，二氧化硅增强微粒包括热解法二氧化硅。39.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，所述制剂包含至少约3重量%的二氧化硅增强微粒。40.如权利要求39所述的研磨制品，其特征在于，所述制剂包含至少约10重量%的二氧化硅增强微粒。41.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，磨料粒选自氮化物、碳化物、氧化物、或它们的掺混物。42.如权利要求41所述的研磨制品，其特征在于，磨料粒包括碳化物。43.如权利要求42所述的研磨制品，其特征在于，所述碳化物选自碳化硅、碳化硼、碳化钨或碳化钛。44.如权利要求43所述的研磨制品，其特征在于，所述碳化物包括碳化硅。45.如权利要求41所述的研磨制品，其特征在于，磨料粒包括氮化物。46.如权利要求45所述的研磨制品，其特征在于，所述氮化物选自立方氮化硼或氮化硅。47.如权利要求41所述的研磨制品，其特征在于，磨料粒包括氧化物。48.如权利要求47所述的研磨制品，其特征在于，所述氧化物选自二氧化硅、氧化铝、氧化锆、氧化锆/氧化铝氧化物、氧化钸、二氧化钛、氧化锡、氧化铁或氧化铬。49.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，磨料粒选自下组二氧化硅、热解法或烧结的氧化铝、氧化锆、氧化锆/氧化铝氧化物、碳化硅、石榴石、金刚石、立方氮化硼、氮化硅、氧化铈、二氧化钛、二硼化钛、碳化硼、氧化锡、碳化钨、碳化钛、氧化铁、氧化铬、燧石、金刚砂、和它们的任意组合。50.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，所述制剂包含至少约30重量%的磨料粒。51.如权利要求50所述的研磨制品，其特征在于，所述制剂包含至少约45重量%的磨料粒。52.如权利要求51所述的研磨制品，其特征在于，所述制剂包含至少约55重量％的磨料粒。53.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，液体硅橡胶由两部分的硅橡胶形成，其中一个部分包括交联剂。54.如权利要求53所述的研磨制品，其特征在于，所述交联剂具有硅氧垸主链。55.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，固化后的制剂具有至少约为100%的断裂伸长。56.如权利要求55所述的研磨制品，其特征在于，断裂伸长至少约为120%。57.如权利要求56所述的研磨制品，其特征在于，断裂伸长至少约为135%。58.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，固化后的制剂具有不大于75的肖氏D硬度。59.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，固化后的制剂具有不大于约8.0兆帕的抗张模量。60.如权利要求59所述的研磨制品，其特征在于，抗张模量不大于约7.6兆帕。61.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，固化后的制剂具有至少约为7.0兆帕的抗张强度。62.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，抗张强度至少约为7.5兆帕。63.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，研磨制品为研磨片的形式，其中，该研磨制品没有背衬层。64.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，研磨制品为具有主表面的片形式，其中，主表面具有表面突起的集合。65.如权利要求64所述的研磨制品，其特征在于，表面突起的集合以图案排列。66.如权利要求65所述的研磨制品，其特征在于，表面突起是倾斜侧壁的表面突起。67.如权利要求65所述的研磨制品，其特征在于，表面突起是垂直壁的表面突起。68.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，所述研磨制品进一步包括粘合层。69.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，所述研磨制品进一步包括适合于以勾环系统连接的层。70.如权利要求37所述的研磨制品，其特征在于，固化后的制剂形成厚度不大于约500密耳的层。71.如权利要求70所述的研磨制品，其特征在于，所述厚度不大于约350密耳。72.—种方法，其包括以下步骤混合液体硅橡胶、二氧化硅增强微粒和磨料粒以形成制剂；形成制剂的表面特征层；和固化制剂。73.如权利要求72所述的方法，其特征在于，固化制剂的步骤包括对制剂热固化。74.如权利要求72所述的方法，其特征在于，固化制剂的步骤包括使用光化辐射固化制剂。75.如权利要求72所述的方法，其特征在于，形成表面特征层的步骤包括在表面特征层中形成一组表面结构体，对表面结构化，将其构造成随磨损而增大表面积的形式。76.如权利要求72所述的方法，其特征在于，形成表面层的步骤包括形成厚度不大于约500密耳的层。77.—种研磨制品，其包括包含有机硅粘结剂和磨料粒的层，该层具有至少约为100%的伸长率。78.—种研磨制品，其包括构造成能随磨损而增大表面积的表面特征层，该表面特征层包含有机硅粘结剂和磨料粒，该表面特征层的厚度不大于约100密耳；和其中，该研磨制品没有背衬层。79.—种研磨制品，其包括具有表面突起的层，该层包含有机硅粘结剂和磨料粒；其中，该研磨制品具有至少约为20的光泽性能。全文摘要一种包括研磨层的研磨制品，所述研磨层具有突起阵列。所述研磨层的厚度不大于约500密耳。所述研磨制品没有背衬层。文档编号B24D3/00GK101541479SQ200780032479公开日2009年9月23日申请日期2007年7月13日优先权日2006年7月14日发明者R·杉卡拉那拉亚南申请人:圣戈本磨料股份有限公司;圣戈本磨料公司