专利名称：偏移量的生成方法和装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种偏移量的生成方法和装置。
背景技术：
目前，常用的晶硅太阳能电池制造设备为PECVD设备。PECVD设备多为线型 (In-line)的硬件结构形式，该线型PECVD设备通过采用在线型镀膜Qn-Iine PECVD)技术以达到高效率、高产量的目的。图1为一种线型PECVD设备的结构示意图，如图1所示， 该线型PECVD设备包括预热腔1、工艺腔2、冷却腔3、装片台7和卸片台8和载板传输装置9。其中，各腔室之间通过门阀G1、门阀G2、门阀G3和门阀G4连接。工艺腔2通过阀门 6与连接有真空泵(pump)。线型PECVD设备的工作流程是将晶片4放置于载板5上；将载板5搬运到预热腔1中，具体地，可以通过轮子或机械手等自动装置(图中未示出)将载板 5搬运到预热腔1中；预热腔1对载板5进行预热处理，以加热载板5和晶片4 ；将载板5搬运到工艺腔2中，对载板5上的晶片4进行镀膜处理。镀膜处理完成后将载板5搬运到冷却腔3中进行冷却处理，然后将载板5搬运到卸片台8上，将工艺处理完成的晶片4从载板 5上取走。载板5通过载板传输装置9返回装片台7。在载板5到达装片台7或者卸片台 8上后，会有自动装卸载装置对载板5上的晶片4进行装卸动作，将完成镀膜的晶片4从载板5上卸下，并将未镀膜的晶片4摆放到载板5上。图1中的Xl至x9为载板运行过程。由于载板传输装置的误差、载板本身的不一致性以及载板经过加热后可能导致的变形，载板每次到达装片台或者卸片台的位置可能会有所偏移。载板的偏移量可包括整体偏移量和横向偏移量，其中整体偏移量包括顶点偏移量和整体旋转角度。顶点偏移量为载板顶点(一般取载板的左上角)的实际传输位置与预定传输位置的偏移量。横向偏移量是由于载板热变形导致的同一行相邻两个晶片摆放位置的距离偏移量。获得载板的偏移量后，可根据该偏移量得出每一个晶片的摆放位置。具体地，可通过在载板上设定的特征点得出载板的偏移量。在装片台的预定位置或者卸片台的预定位置，预先设定特征点的标准位置。在对晶片的工艺处理流程中，若载板未发生偏移，则当载板到达装片台的预定位置或者卸片台的预定位置时，特征点的实际位置和特征点的标准位置是重合的。但是在对晶片的工艺处理流程中，由于载板传输装置的误差、载板本身的不一致性和载板经过加热后导致的变形，使载板会发生偏移。图2为一种载板上设定特征点的示意图，如图2所示，在载板 5的特定位置设定第一特征点和第二特征点，第一特征点和第二特征点为平行的特征点，其中第一特征点与晶片摆放位置A的相对位置固定，第二特征点与晶片摆放位置B的相对位置固定。当载板5到达装片位置或者卸片位置后，通过摄像头获取载板5的第一特征点的实际位置和第二特征点的实际位置，根据第一特征点的实际位置、第二特征点的实际位置、 第一特征点的标准位置和第二特征点的标准位置，得出载板的偏移量。根据偏移量得出每一个晶片的摆放位置。上述方法能够得到的偏移量包括顶点偏移量、整体旋转角度和行距离偏移量。上述方法可通过顶点偏移量和整体旋转角度得出载板位置的整体偏移情况，并通过行距离偏移量得出载板由于热变形导致的横向偏移情况。载板热变形不仅会导致晶片的摆放位置产生横向偏移，而且也会导致晶片的摆放位置产生纵向偏移量，该纵向偏移量为相邻两行晶片的摆放位置的距离偏移量。载板上相邻两行晶片的摆放位置间的距离是固定不变的，随着载板上摆放晶片行数的增加，纵向偏移量的累加会导致晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置偏移过大。但是，由于背景技术中的方法无法得出纵向偏移量，因此在载板上摆放晶片时仅能根据顶点偏移量、整体旋转角度和行距离偏移量在载板上摆放晶片，没有考虑到纵向偏移量对晶片摆放位置的影响，这会导致晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置偏移过大，从而导致晶片在载板上的实际摆放位置不正确。当装载有晶片的载板进入工艺腔并由工艺腔对晶片进行镀膜处理时，由于晶片在载板上的实际摆放位置不正确，而工艺腔是按照晶片的标准摆放位置对晶片进行镀膜的，这会导致晶片的镀膜效果降低。
发明内容
本发明提供一种偏移量的生成方法和装置，用以使晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置的偏移减小，从而提高晶片的镀膜效果。为实现上述目的，本发明提供了一种偏移量的生成方法，包括根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置；根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，所述第二实际位置为第二特征点的实际位置，所述第二标准位置为第二特征点的标准位置；根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，所述第三实际位置为第三特征点的实际位置，所述第三标准位置为第三特征点的标准位置。进一步地，所述第一标准位置包括第一标准横向坐标值和第一标准纵向坐标值， 所述第二标准位置包括第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，所述第一标准横向坐标值为0，所述第一标准纵向坐标值为0，所述第二标准纵向坐标值为0。进一步地，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值， 所述顶点偏移量包括顶点横向偏移量和顶点纵向偏移量；所述根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量包括将所述第一实际横向坐标值和所述第一标准横向坐标值相减，生成所述顶点横向偏移量；将所述第一实际纵向坐标值和所述第一标准纵向坐标值相减，生成所述顶点纵向
偏移量。进一步地，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值， 所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度包括将所述第二实际横向坐标值和所述第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值；将所述第二实际纵向坐标值和所述第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值；根据所述横向坐标差值和所述纵向坐标差值，生成所述整体偏转角度。进一步地，所述摆放列数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量包括根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第二标准横向坐标值和所述第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，所述第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度；根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第二实际横向坐标值和所述第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，所述第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度；将所述第一标准位置连线长度和所述第一实际位置连线长度相减，生成横向长度
差值；将所述横向长度差值与所述摆放列数和1的差值相除，生成所述横向偏移量。进一步地，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值， 所述第三标准横向坐标值为0。进一步地，所述摆放行数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第三实际位置包括第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值；根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量包括根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第三标准横向坐标值和所述第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，所述第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度；根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第三实际横向坐标值和所述第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，所述第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度；将所述第二标准位置连线长度和所述第二实际位置连线长度相减，生成纵向长度
差值；将所述纵向长度差值与所述摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。为实现上述目的，本发明提供了一种偏移量的生成装置，包括第一生成模块，用于根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置；
第二生成模块，用于根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，所述第二实际位置为第二特征点的实际位置，所述第二标准位置为第二特征点的标准位置；第二生成模块，用于根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；第四生成模块，用于根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，所述第三实际位置为第三特征点的实际位置， 所述第三标准位置为第三特征点的标准位置。进一步地，所述第一标准位置包括第一标准横向坐标值和第一标准纵向坐标值， 所述第二标准位置包括第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，所述第一标准横向坐标值为0，所述第一标准纵向坐标值为0，所述第二标准纵向坐标值为0。进一步地，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值， 所述顶点偏移量包括顶点横向偏移量和顶点纵向偏移量；所述第一生成模块包括顶点横向偏移量生成模块，用于将所述第一实际横向坐标值和所述第一标准横向坐标值相减，生成所述顶点横向偏移量；顶点纵向偏移量生成模块，用于将所述第一实际纵向坐标值和所述第一标准纵向坐标值相减，生成所述顶点纵向偏移量。进一步地，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值， 所述第三标准横向坐标值为0。进一步地，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值， 所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述第二生成模块包括横向坐标差值生成模块，用于将所述第二实际横向坐标值和所述第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值；纵向坐标差值生成模块，用于将所述第二实际纵向坐标值和所述第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值；整体偏转角度生成模块，用于根据所述横向坐标差值和所述纵向坐标差值，生成所述整体偏转角度。进一步地，所述摆放列数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值； 所述第三生成模块包括第一连线长度生成模块，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第二标准横向坐标值和所述第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，所述第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度；第二连线长度生成模块，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第二实际横向坐标值和所述第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，所述第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度；
横向长度差值生成模块，用于将所述第一标准位置连线长度和所述第一实际位置连线长度相减，生成横向长度差值；横向偏移量生成模块，用于将所述横向长度差值与所述摆放列数和1的差值相除，生成所述横向偏移量。进一步地，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值， 所述第三标准横向坐标值为0。进一步地，所述摆放行数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第三实际位置包括第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值；所述第四生成模块包括第三连线长度生成模块，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第三标准横向坐标值和所述第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，所述第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度；第四连线长度生成模块，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第三实际横向坐标值和所述第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，所述第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度；纵向长度差值生成模块，用于将所述第二标准位置连线长度和所述第二实际位置连线长度相减，生成纵向长度差值；纵向偏移量生成模块，用于将所述纵向长度差值与所述摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。本发明具有以下有益效果本发明提供的一种偏移量的生成方法和装置，可生成顶点偏移量、整体偏转角度和横向偏移量，并根据摆放行数、第一实际位置、第三实际位置、第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，其中第三实际位置为第三特征点的实际位置，第三标准位置为第三特征点的标准位置。在载板上摆放晶片时可根据本实施例生成的顶点偏移量、整体偏转角度、横向偏移量和纵向偏移量摆放晶片，本发明中生成的纵向偏移量使晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置的偏移减小，从而提高了晶片的镀膜效果。
图1为一种线型PECVD设备的结构示意图；图2为一种载板上设定特征点的示意图；图3为本发明实施例一提供的一种偏移量的生成方法的流程图；图4为本发明中载板上设定特征点的示意图；图5为本发明中偏移量的生成方法的示意图；图6为本发明实施例二提供的一种偏移量的生成装置的结构示意图。
具体实施例方式为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的偏移量的生成方法和装置进行详细描述。
图3为本发明实施例一提供的一种偏移量的生成方法的流程图，如图3所示，该方法包括步骤101、根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置。本实施例中，在载板上设定第一特征点、第二特征点和第三特征点。图4为本发明中载板上设定特征点的示意图，如图4所示，载板5上晶片的摆放位置的数量为m行*n列个，m大于或等于2，η大于或等于2。换言之，摆放行数为m，摆放列数为η。图4中所示的摆放位置的数量仅为一种示例。本实施例中，需要在载板5上标注中第一特征点、第二特征点和第三特征点，具体地在实际操作中可以在载板5上第一特征点的位置、第二特征点的位置和第三特征点的位置分别标注三个圆点，以表示第一特征点、第二特征点和第三特征点ο在装片台的预定位置或者卸片台的预定位置，预先设定第一特征点的标准位置、 第二特征点的标准位置和第三特征点的标准位置。在对晶片的工艺处理流程中，若载板未发生偏移，则当载板到达装片台的预定位置或者卸片台的预定位置时，第一特征点的实际位置(即第一实际位置)和第一特征点的标准位置是重合的，第二特征点的实际位置(即第二实际位置)和第二特征点的标准位置是重合的，以及第三特征点的实际位置(即第三实际位置)和第三特征点的标准位置是重合的。但是在对晶片的工艺处理流程中，由于载板传输装置的误差、载板本身的不一致性和载板经过加热后导致的变形，使载板会发生偏移，因此可通过载板位置获取装置获取载板的第一实际位置、第二实际位置和第三实际位置，例如该载板位置获取装置可以采用摄像头、传感器或者其它能够获取到载板上特征点位置的装置，优选地该载板位置获取装置采用摄像头。图5为本发明中偏移量的生成方法的示意图，如图5所示，第一标准位置Pl为第一特征点的标准位置，第一标准位置可包括第一标准横向坐标值)(Ρ1和第一标准纵向坐标值、，换言之图5中Pl的坐标值为0(Ρ1，ΥΡ1)；第二标准位置Ρ2为第二特征点的标准位置， 第二标准位置可包括第二标准横向坐标值Xp2和第二标准纵向坐标值ΥΡ2，换言之图5中Ρ2 的坐标值为(ΧΡ2，ΥΡ2)；第三标准位置Ρ3为第三特征点的标准位置，第三标准位置可包括第三标准横向坐标值Xp3和第三标准纵向坐标值I，换言之图5中Ρ3的坐标值为(ΧΡ3，ΥΡ3)； 第一实际位置ΡΓ为第一特征点的实际位置，第一实际位置可包括第一实际横向坐标值)(Ρ1， 和第一实际纵向坐标值ΥΡ1,，换言之图5中ΡΓ的坐标值为(ΧΡ1,，Ypi,)；第二实际位置Ρ2， 为第二特征点的实际位置，第二实际位置可包括第二实际横向坐标值Xp2，和第二实际纵向坐标值h,，换言之图5中P2’的坐标值为0(P2,，Yp2O ；第三实际位置P3’为第三特征点的实际位置，第三实际位置可包括第三实际横向坐标值XP3,和第三实际纵向坐标值YP3,，换言之图5中P3’的坐标值为0(P3,，Yp3,)。优选地，将Pl设定为原点，P2位于X轴上，P3位于Y轴上。则第一标准横向坐标值&为0，第一标准纵向坐标值t为0，第二标准纵向坐标值I为0，第三标准横向坐标值Xp3为0。如图4所示，也就是说，本实施例中，若载板5上晶片的摆放位置中行与X轴平行，列与Y轴平行，则第一特征点和第二特征点的连线与晶片摆放位置中的行平行，第一特征点和第三特征点的连线与晶片摆放位置中的列平行。第一特征点和第三特征点的连线垂直于第一特征点和第二特征点的连线。且优选地，第一特征点和第二特征点位于摆放位置
11中的第一行所在的位置，且第一特征点和第一行第一列个晶片摆放位置的相对位置固定， 第二特征点和第一行第η列个晶片摆放位置的相对位置固定。第三特征点可以和第一列第 m行个晶片摆放位置的相对位置固定。本实施例中，顶点偏移量包括顶点横向偏移量和顶点纵向偏移量，则本步骤具体包括步骤1011、将第一实际横向坐标值和第一标准横向坐标值相减，生成顶点横向偏移量。如图5所示，顶点横向偏移量dx = Xpr -Xpi,由于)(P1为0，因此顶点横向偏移量dx
-Xpi，O步骤1012、将第一实际纵向坐标值和第一标准纵向坐标值相减，生成顶点纵向偏移量。如图5所示，顶点纵向偏移量dy = Ypr -Ypi,由于Ypi为0，因此顶点纵向偏移量dy —Ypi，。步骤102、根据第一实际位置、第二实际位置、第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，第二实际位置为第二特征点的实际位置，第二标准位置为第二特征点的标准位置。本步骤具体包括步骤1021、将第二实际横向坐标值和第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值。横向坐标差值dl = XP2’ -Xpro步骤1022、将第二实际纵向坐标值和第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值。纵向坐标差值d2 = YP2, -Ypro步骤1023、根据横向坐标差值和纵向坐标差值，生成整体偏转角度。如图5所示，为得出整体偏转角度，构建以P1，和P2，连线PI，P2，为斜边的直角三角形，则该直角三角形的两个直角边分别为上述dl和d2。例如本步骤中可通过tan β = d2/dl得出整体偏转角度β。贝Ij β = arctan d2/dl。步骤103、根据摆放列数、第一实际位置、第二实际位置、第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；本步骤具体包括步骤1031、根据第一标准横向坐标值、第一标准纵向坐标值、第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度。如图5所示，本实施例中，第一标准位置连线长度P1P2为第一标准位置Pl和第二标准位置P2间连线的长度。由于第一标准横向坐标值)(P1为0，第一标准纵向坐标值h为 0，第二标准纵向坐标值I为0，因此P1P2 = )(P2。步骤1032、根据第一实际横向坐标值、第一实际纵向坐标值、第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度。如图5所示，本实施例中，第一实际位置连线长度ΡΓ P2，为第一实际位置P1，和第二实际位置P2’间连线的长度。具体地，dl= XP2, -Xpr，d2 = ΥΡ2, -Ypr，贝丨JjPI' P2' = ^d\2+d22。步骤1033、将第一标准位置连线长度和第一实际位置连线长度相减，生成横向长
度差值。具体地，横向长度差值Δχ = Ρ1Ρ2-ΡΓ P2，。步骤1034、将横向长度差值与摆放列数和1的差值相除，生成横向偏移量。具体地，Dx = Δχ/(η-1)。其中，η为第一特征点和第二特征点之间的摆放列数。步骤104、根据摆放行数、第一实际位置、第三实际位置、第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，第三实际位置为第三特征点的实际位置，第三标准位置为第三特征点的标准位置。本步骤具体包括步骤1041、根据第一标准横向坐标值、第一标准纵向坐标值、第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度。如图5所示，本实施例中，第二标准位置连线长度Ρ1Ρ3为第一标准位置Pl和第三标准位置Ρ3间连线的长度。由于第一标准横向坐标值)(Ρ1为0，第一标准纵向坐标值h为 0，第三标准横向坐标值、3为0，因此P1P3 = Yp3O步骤1042、根据第一实际横向坐标值、第一实际纵向坐标值、第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度。如图5所示，构建以P1，和P3，连线PI，P3，为斜边的直角三角形，则该直角三角形的两个直角边分别为d3和d4。本实施例中，第二实际位置连线长度ΡΓ P3’为第一实际位置ΡΓ和第三实际位置 P3’间连线的长度。具体地，d3= Xp3. -Xpr，d4 = Yp3. -Ypr，则尸1’ P3' = Jd32+d42。步骤1043、将第二标准位置连线长度和第二实际位置连线长度相减，生成纵向长
度差值。具体地，纵向长度差值Ay = P1P3-P1' P3，。步骤1044、将纵向长度差值与摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。具体地，Dy = Ay/(m-l)。其中，m为第一特征点和第三特征点之间的摆放行数。本实施例提供的方法中，各步骤的执行顺序仅为一种示例，在实际应用中可根据需要变更各步骤的执行顺序。本实施例提供的偏移量的生成方法中，可生成顶点偏移量、整体偏转角度和横向偏移量，并根据摆放行数、第一实际位置、第三实际位置、第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，其中第三实际位置为第三特征点的实际位置，第三标准位置为第三特征点的标准位置。在载板上摆放晶片时可根据本实施例生成的顶点偏移量、整体偏转角度、横向偏移量和纵向偏移量摆放晶片，本实施例中生成的纵向偏移量使晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置的偏移减小，从而提高了晶片的镀膜效果。图6为本发明实施例二提供的一种偏移量的生成装置的结构示意图，如图6所示， 该装置包括第一生成模块11、第二生成模块12、第三生成模块13和第四生成模块14。第一生成模块11，用于根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置；第二生成模块12，用于根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，所述第二实际位置为第二特征点的实际位置，所述第二标准位置为第二特征点的标准位置；第三生成模块13，用于根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；第四生成模块14，用于根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，所述第三实际位置为第三特征点的实际位置，所述第三标准位置为第三特征点的标准位置。进一步地，所述第一标准位置包括第一标准横向坐标值和第一标准纵向坐标值， 所述第二标准位置包括第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，所述第一标准横向坐标值为0，所述第一标准纵向坐标值为0，所述第二标准纵向坐标值为0。进一步地，第一生成模块11包括顶点横向偏移量生成模块111和顶点纵向偏移量生成模块112。顶点横向偏移量生成模块111，用于将所述第一实际横向坐标值和所述第一标准横向坐标值相减，生成所述顶点横向偏移量；顶点纵向偏移量生成模块112，用于将所述第一实际纵向坐标值和所述第一标准纵向坐标值相减，生成所述顶点纵向偏移量。进一步地，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值， 所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值。则第二生成模块12 包括横向坐标差值生成模块121、纵向坐标差值生成模块122和整体偏转角度生成模块 123。横向坐标差值生成模块121，用于将所述第二实际横向坐标值和所述第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值；纵向坐标差值生成模块122，用于将所述第二实际纵向坐标值和所述第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值；整体偏转角度生成模块123，用于根据所述横向坐标差值和所述纵向坐标差值，生成所述整体偏转角度。进一步地，所述摆放列数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值。则第三生成模块13包括第一连线长度生成模块131、第二连线长度生成模块132、 横向长度差值生成模块133和横向偏移量生成模块134。第一连线长度生成模块131，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第二标准横向坐标值和所述第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，所述第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度；
第二连线长度生成模块132，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第二实际横向坐标值和所述第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，所述第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度；横向长度差值生成模块133，用于将所述第一标准位置连线长度和所述第一实际位置连线长度相减，生成横向长度差值；横向偏移量生成模块134，用于将所述横向长度差值与所述摆放列数和1的差值相除，生成所述横向偏移量。进一步地，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值， 所述第三标准横向坐标值为0。进一步地，所述摆放行数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第三实际位置包括第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值。则第四生成模块14包括第三连线长度生成模块141、第四连线长度生成模块142、 纵向长度差值生成模块143和纵向偏移量生成模块144。第三连线长度生成模块141，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第三标准横向坐标值和所述第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，所述第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度；第四连线长度生成模块142，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第三实际横向坐标值和所述第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，所述第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度；纵向长度差值生成模块143，用于将所述第二标准位置连线长度和所述第二实际位置连线长度相减，生成纵向长度差值；纵向偏移量生成模块144，用于将所述纵向长度差值与所述摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。本实施例提供的偏移量的生成装置可用于实现上述实施例一中的偏移量的生成方法。本实施例提供的偏移量的生成装置，可生成顶点偏移量、整体偏转角度和横向偏移量，并根据摆放行数、第一实际位置、第三实际位置、第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，其中第三实际位置为第三特征点的实际位置，第三标准位置为第三特征点的标准位置。在载板上摆放晶片时可根据本实施例生成的顶点偏移量、整体偏转角度、横向偏移量和纵向偏移量摆放晶片，本实施例中生成的纵向偏移量使晶片在载板上实际摆放位置与预定摆放位置的偏移减小，从而提高了晶片的镀膜效果。可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种偏移量的生成方法，其特征在于，包括根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置；根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，所述第二实际位置为第二特征点的实际位置，所述第二标准位置为第二特征点的标准位置；根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，所述第三实际位置为第三特征点的实际位置，所述第三标准位置为第三特征点的标准位置。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一标准位置包括第一标准横向坐标值和第一标准纵向坐标值，所述第二标准位置包括第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，所述第一标准横向坐标值为0，所述第一标准纵向坐标值为0，所述第二标准纵向坐标值为0。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述顶点偏移量包括顶点横向偏移量和顶点纵向偏移量；所述根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量包括 将所述第一实际横向坐标值和所述第一标准横向坐标值相减，生成所述顶点横向偏移量；将所述第一实际纵向坐标值和所述第一标准纵向坐标值相减，生成所述顶点纵向偏移量。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度包括将所述第二实际横向坐标值和所述第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值； 将所述第二实际纵向坐标值和所述第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值； 根据所述横向坐标差值和所述纵向坐标差值，生成所述整体偏转角度。
5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述摆放列数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量包括根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第二标准横向坐标值和所述第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，所述第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度；根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第二实际横向坐标值和所述第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，所述第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度；将所述第一标准位置连线长度和所述第一实际位置连线长度相减，生成横向长度差值；将所述横向长度差值与所述摆放列数和1的差值相除，生成所述横向偏移量。
6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值，所述第三标准横向坐标值为0。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述摆放行数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第三实际位置包括第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值；根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量包括根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第三标准横向坐标值和所述第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，所述第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度；根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第三实际横向坐标值和所述第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，所述第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度；将所述第二标准位置连线长度和所述第二实际位置连线长度相减，生成纵向长度差值；将所述纵向长度差值与所述摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。
8.一种偏移量的生成装置，其特征在于，包括第一生成模块，用于根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，所述第一实际位置为第一特征点的实际位置，所述第一标准位置为第一特征点的标准位置；第二生成模块，用于根据所述第一实际位置、第二实际位置、所述第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，所述第二实际位置为第二特征点的实际位置，所述第二标准位置为第二特征点的标准位置；第三生成模块，用于根据摆放列数、所述第一实际位置、所述第二实际位置、所述第一标准位置和所述第二标准位置，生成横向偏移量；第四生成模块，用于根据摆放行数、所述第一实际位置、第三实际位置、所述第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，所述第三实际位置为第三特征点的实际位置，所述第三标准位置为第三特征点的标准位置。
9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述第一标准位置包括第一标准横向坐标值和第一标准纵向坐标值，所述第二标准位置包括第二标准横向坐标值和第二标准纵向坐标值，所述第一标准横向坐标值为0，所述第一标准纵向坐标值为0，所述第二标准纵向坐标值为0。
10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述顶点偏移量包括顶点横向偏移量和顶点纵向偏移量；所述第一生成模块包括顶点横向偏移量生成模块，用于将所述第一实际横向坐标值和所述第一标准横向坐标值相减，生成所述顶点横向偏移量；顶点纵向偏移量生成模块，用于将所述第一实际纵向坐标值和所述第一标准纵向坐标值相减，生成所述顶点纵向偏移量。
11.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值，所述第三标准横向坐标值为0。
12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述第二生成模块包括横向坐标差值生成模块，用于将所述第二实际横向坐标值和所述第一实际横向坐标值相减，生成横向坐标差值；纵向坐标差值生成模块，用于将所述第二实际纵向坐标值和所述第一实际纵向坐标值相减，生成纵向坐标差值；整体偏转角度生成模块，用于根据所述横向坐标差值和所述纵向坐标差值，生成所述整体偏转角度。
13.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述摆放列数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第二实际位置包括第二实际横向坐标值和第二实际纵向坐标值；所述第三生成模块包括第一连线长度生成模块，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第二标准横向坐标值和所述第二标准纵向坐标值，生成第一标准位置连线长度，所述第一标准位置连线长度为第一标准位置和第二标准位置间连线的长度；第二连线长度生成模块，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第二实际横向坐标值和所述第二实际纵向坐标值，生成第一实际位置连线长度，所述第一实际位置连线长度为第一实际位置和第二实际位置间连线的长度；横向长度差值生成模块，用于将所述第一标准位置连线长度和所述第一实际位置连线长度相减，生成横向长度差值；横向偏移量生成模块，用于将所述横向长度差值与所述摆放列数和1的差值相除，生成所述横向偏移量。
14.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述第三标准位置包括第三标准横向坐标值和第三标准纵向坐标值，所述第三标准横向坐标值为0。
15.根据权利要求14所述的装置，其特征在于，所述摆放行数大于或者等于2，所述第一实际位置包括第一实际横向坐标值和第一实际纵向坐标值，所述第三实际位置包括第三实际横向坐标值和第三实际纵向坐标值；所述第四生成模块包括第三连线长度生成模块，用于根据所述第一标准横向坐标值、所述第一标准纵向坐标值、所述第三标准横向坐标值和所述第三标准纵向坐标值，生成第二标准位置连线长度，所述第二标准位置连线长度为第一标准位置和第三标准位置间连线的长度；第四连线长度生成模块，用于根据所述第一实际横向坐标值、所述第一实际纵向坐标值、所述第三实际横向坐标值和所述第三实际纵向坐标值，生成第二实际位置连线长度，所述第二实际位置连线长度为第一实际位置和第三实际位置间连线的长度；纵向长度差值生成模块，用于将所述第二标准位置连线长度和所述第二实际位置连线长度相减，生成纵向长度差值；纵向偏移量生成模块，用于将所述纵向长度差值与所述摆放行数和1的差值相除，生成所述纵向偏移量。
全文摘要
本发明公开了一种偏移量的生成方法和装置。该方法包括根据第一实际位置和第一标准位置，生成顶点偏移量，第一实际位置为第一特征点的实际位置，第一标准位置为第一特征点的标准位置；根据第一实际位置、第二实际位置、第一标准位置和第二标准位置，生成整体偏转角度，第二实际位置为第二特征点的实际位置，第二标准位置为第二特征点的标准位置；根据摆放列数、第一实际位置、第二实际位置、第一标准位置和第二标准位置，生成横向偏移量；根据摆放行数、第一实际位置、第三实际位置、第一标准位置和第三标准位置，生成纵向偏移量，第三实际位置为第三特征点的实际位置，第三标准位置为第三特征点的标准位置。本发明提高了晶片的镀膜效果。
文档编号C23C16/52GK102560442SQ20101061091
公开日2012年7月11日 申请日期2010年12月17日 优先权日2010年12月17日
发明者易璨 申请人:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司