抛丸处理装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种设置在旋转体（14）的顶棚部（14U）上的自转轴构件（46），该自转轴构件（46）将处理目标（W）悬吊并支撑在处理室（R1）中。旋转体（14）通过旋转驱动机构（60）绕处理装置的竖向方向的轴线周向公转，并能够在投射区域（40B）中自转。旋转体（14）通过使用旋转驱动机构（60）在投射区域（40B）中作为处理目标（W）的公转停止位置的三个位置处一次停止。处理室（R1）具有沿旋转体（14）的周向方向的三室并列结构。当旋转体（14）在投射执行在处理目标（W）上的公转停止位置处一次停止时，处理室（R1）中的一个处理室设置在运入区域（40A）中，同时处理室（R1）的另一个处理室设置在运出区域（40C）中。
【专利说明】抛丸处理装置【技术领域】
[0001]本实用新型的一种模式涉及抛丸处理装置，该抛丸处理装置通过旋转体将工件旋转地移置并将投射材料投射至工件。
【背景技术】
[0002]在抛丸处理装置中，一种具有下述构型的装置是已知的，在该装置中，投射材料通过投射机投射到由吊架悬挂的工件上，并且吊架在公转的同时在投射区域内自转。
[0003]引用列表
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特许申请公报:N0.He1-9-76157
实用新型内容
[0006]技术问题
[0007]然而，使用这样的装置对工件的整个表面进行精确的抛丸处理需要一定的时间，并且在减少总的处理时间方面存在提升的空间。
[0008]在该【技术领域】，需要一种能够减少总的处理时间的抛丸处理装置。问题的解决方 案
[0009]根据本实用新型的一方面的抛丸处理装置具有:旋转体，该旋转体绕处理装置的竖向方向的轴线可旋转地设置，在该处理装置中，多个处理室通过将绕轴线的空间由间隔部间隔开而沿周向方向并置，并且在处理室中，形成有用于工件的运入、用于工件的运出以及用于使投射材料通过的朝向外周侧敞开的开口部；投射机，该投射机构造为通过处理室中的开口部将投射材料投射到处理室的内部；悬吊支撑部，该悬吊支撑部设置在旋转体的顶棚部上，并构造为将工件悬吊和支撑在处理室中并且能够在投射材料受到通过投射机投射的投射区域中自转；以及旋转驱动机构，该旋转驱动机构构造为通过使旋转体绕轴线旋转而使悬吊支撑部公转，并使用投射区域中作为工件的公转停止位置的多个位置执行旋转体的一次停止。
[0010]根据本实用新型的一方面的抛丸处理装置，旋转体绕抛丸处理装置的竖向方向的轴线可旋转地设置，在该处理装置中，多个处理室通过将绕轴线的空间由间隔部间隔开而沿周向方向并置，形成有用于工件的运入、用于工件的运出以及用于使投射材料通过的朝向外周侧敞开的开口部。另一方面，投射机将投射材料通过处理室中的开口部投射到处理室中。此外，悬吊支撑部设置在旋转体的顶棚部上并将工件悬吊和支撑在处理室中，并能够在工件受到投射机投射的投射区域中自转。因此，工件受到整体周向上的投射。此外，旋转驱动机构通过使旋转体绕处理装置的竖向方向的轴线旋转而使悬吊支撑部公转，并使用在投射区域中的作为工件的公转停止位置的多个位置执行旋转体的一次停止。因此，由于投射材料如何撞击工件能够通过所述多个公转停止位置而相对地改变，因此可使投射更均匀及更准确。[0011]在实施方式中，工件的在投射区域中的公转停止位置可被设定为第二位置、第一位置和第三位置，该第二位置为在处理装置的平面图上投射机中投射材料的投射方向的中心线上设置悬吊支撑部的自转轴心的位置，该第一位置为相对于第二位置在旋转体的旋转方向上游侧的位置，以及第三位置为相对于第二位置在旋转体的旋转方向下游侧的位置。
[0012]根据实施方式所提供的抛丸处理装置，已进入投射区域的工件可使其公转以第一位置、第二位置和第三位置的顺序停止并且可在旋转的同时在相应的位置处被投射。这里，第二位置为在处理装置的平面图上投射机中投射材料的投射方向的中心线上设置悬吊支撑部的自转轴心的位置，该第一位置为相对于第二位置在旋转体的旋转方向上游侧的位置，以及第三位置为相对于第二位置在旋转体的旋转方向下游侧的位置。因此，工件在投射材料有效地撞击的第二位置处以及在其之前的第一位置处和在其之后的第三位置处受到有效地以及均匀地投射。
[0013]在实施方式中，抛丸处理装置具有用于使工件由悬吊支撑部悬吊和支撑的运入区域和用于将工件从悬吊支撑部降下的运出区域，处理室中的三个或更多个处理室可沿旋转体的周向方向并置，并且可设置为使得当旋转体在工件的公转停止位置处进行一次停止时，处理室中的至少一个处理室设置在运入区域中，同时处理室中的至少另一个处理室设置在运出区域中。
[0014]根据实施方式所提供的抛丸处理装置，运入区域可以为用于使工件由悬吊支撑部悬吊和支撑的区域，并且运出区域可以为用于将工件从悬吊支撑部降下的区域。处理室中的三个或更多个处理室可沿旋转体的周向方向并置并且当旋转体在工件的公转停止位置处进行一次停止时，处理室中的至少一个处理室可设置在运入区域中，同时处理室中的至少另一个处理室可设置在运出区域中。因此，当在投射区域中对工件进行投射时，工件能够由悬吊支撑部悬吊并支撑在运入区域中，并且同时工件可在运出区域中从悬吊支撑部被降下。如上所述，由于运出和运入能够在投射期间在相同的时间点在分开的区域中执行，因而与例如运出和运入在一个区域中执行相比较而言，能够减少用于运入/运出所需的时间。
[0015]在实施方式中，投射机可设置有第一投射机和第二投射机，该第一投射机设置在旋转体的上部侧上并设定为使得投射材料的投射方向的中心线朝着处理室的内部侧向处理装置的下方侧倾斜，该第二投射机设置在旋转体的下部侧上并设定为使得投射材料的投射方向的中心线朝着处理室的内部侧向处理装置的上方侧倾斜，并且投射材料的每单位时间的投射量设定为大于第一投射机的投射材料的每单位时间的投射量。
[0016]根据实施方式所提供的抛丸处理装置，第一投射机可设置在旋转体的上部侧上并设定为使得投射材料的投射方向的中心线朝着处理室的内部侧向处理装置的下方侧倾斜。另一方面，第二投射机可设置在旋转体的下部侧上并设定为使得投射材料的投射方向的中心线朝着处理室的内部侧向处理装置的上方侧倾斜。由于投射材料如上所述从斜上方侧和斜下方侧投射至工件，所以使得对于工件的整体表面进行更有效地投射。此外，由于第二投射机具有的投射材料的每单位时间的投射量大于第一投射机的投射材料的每单位时间的投射量，因而即使投射材料因斜对地向上投射被减速，也能够实现以与由第一投射机的斜向地向下投射的抛丸处理相同程度的抛丸处理。
[0017]在实施方式中，第一投射机中的投射材料的投射方向的中心线和第二投射机中的投射材料的投射方向的中心线设定为具有至少在悬吊支撑部的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间中彼此不交叉的关系。
[0018]根据实施方式所提供的抛丸处理装置，由于第一投射机中的投射材料的投射方向的中心线和第二投射机中的投射材料的投射方向的中心线设定为具有至少在悬吊支撑部的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间中彼此不交叉的关系，因而能够抑制从第一投射机投射出的投射材料与从第二投射机投射出的投射材料在抵达工件之前彼此干扰的故障。因此，提高了投射效率。
[0019]实用新型的有益效果
[0020]如上所述，根据本实用新型的各个方面和各个实施方式，能够提供总处理时间被减小的优良效果。
【专利附图】
【附图说明】
[0021]图1为示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置的整体构型的前视图。
[0022]图2为示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置的整体构型的左侧视图。
[0023]图3为示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置的整体构型的平面图。
[0024]图4为示出工件在投射区域中公转停止位置的示意性平面图。图4 (A)示出第一位置，图4 (B)示出第二位置，并且图4 (C)示出第三位置。
[0025]图5为基于用于说明根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置的控制等的该装置的平面图的轮廓构型图。
[0026]图6为示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置的旋转体及其外周部分的轮廓构型的示意性立体图。
[0027]图7为示出根据本实用新型的第二实施方式的喷丸装置的整体构型的前视图。
[0028]图8为示出根据本实用新型的第二实施方式的喷丸装置的整体构型的右侧视图。
[0029]图9为示出根据本实用新型的第二实施方式的喷丸装置的整体构型的平面图。
[0030]图10为基于示出本实用新型的第二实施方式中的处理室的构型的平面图的截面图。
[0031]图11为示出本实用新型的第二实施方式的变型的构型的平面图。相应地，图11(A)为第一变型，图11 (B)为第二变型，图11 (C)为第三变型，图11 (D)为第四变型，图11 (E)为第五变型，以及图11 (F)为第六变型。
[0032]图12为示出根据本实用新型的第三实施方式的喷丸装置的整体构型的前视图。
[0033]图13为示出根据本实用新型的第三实施方式的喷丸装置的整体构型的右侧视图。
[0034]图14为示出根据本实用新型的第三实施方式的喷丸装置的整体构型的平面图。
[0035]图15为示出根据本实用新型的第四实施方式的喷丸装置的整体构型的前视图。
[0036]图16为示出根据本实用新型的第四实施方式的喷丸装置的整体构型的右侧视图。
[0037]图17为示出根据本实用新型的第四实施方式的喷丸装置的整体构型的平面图。
【具体实施方式】
[0038]【第一实施方式】[0039]将通过使用图1至图6描述作为根据本实用新型的第一实施方式的抛丸处理装置的一种旋转体吊架式喷丸装置10。如在这些图中适当地示出的箭头FR指示基于图1中的装置的前视图的前侧，箭头UP指示装置的上侧，以及箭头LH指示基于图1中的装置的前视图的左侧。此外，箭头X指示工件W的运送方向。
[0040]图1以前视图示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置10的整体构型，图2以左侧视图示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置10的整体构型，以及图3以平面图示出根据本实用新型的第一实施方式的喷丸装置10的整体构型。
[0041]根据该实施方式的喷丸装置10为一种应用于例如对锻件等进行除垢的装置。工件W包括锻造结构、压制结构、焊接结构，热处理产品(例如齿轮等)等或更具体地例如汽车相关的部件。
[0042]如图1至图3所示，喷丸装置10设置有柜体12。柜体12形成为呈中空的大致七边形的柱状形状。此外，如图3中示出的，柜体12具有构造为将工件W运入(参见箭头A方向)的运入端口 12A和构造为将形成的工件W运出(参见箭头B方向)的运出端口 12B。
[0043]在柜体12中的中央部分处设置有大致圆筒形的旋转体14。旋转体14连接至旋转驱动机构60以便如随后将详细描述地绕处理装置的竖向方向的轴线被旋转地驱动。
[0044]在图6中，旋转体14的轮廓构型及其外周部分以示意性的立体图示出。如在图6中示出的，在旋转体14中，顶板构件15A和底板构件15B通过多个柱构件15C、1?和15E沿处理装置的竖向方向连接。此外，所述多个柱构件15C、1?和15E围绕旋转体14的旋转中心设置。柱构件15C为弯曲成基于处理装置的平面图的大致U形的板状构件。这里，三个向外周侧敞开的弯曲板状柱构件15C沿周向方向以一定间距设置。相邻柱构件15C的内周侧上的角部由用于连接的柱构件15D连接。此外，相邻柱构件15C的外周侧上的端部部分由用于外壁的柱构件15E连接。
[0045]柱构件15E设置有外周壁14W，使公转轴部62的轴中心作为其基于处理装置的平面图的弧中心。外周壁14W设置在绕作为旋转体14的旋转中心的处理装置的竖向方向的轴线的空间周围的位置处。此外，在外周壁14W的内部的空间中，多个处理室Rl (在本实施方式中为三个室)通过由间隔部16 (由上述弯曲板状柱构件15C (间隔构件)组成的部分)将空间隔开而沿周向方向并置。处理室Rl为用于将工件W运入/运出以及用于投射投射材料的室。在这些处理室Rl中，朝向外周侧开口的开口部14A由上述弯曲板状柱构件15C、顶板构件15A、和底板构件15B形成。开口部14A用于工件W的运入、用于工件W的运出以及用于使投射材料通过。如从上述说明和图6中明显看出的，间隔部16设置在旋转体14中顶棚部14U的下侧，但在图3中，为便于理解图，间隔部16未用虚线指示，而是由实线指
/Jn ο
[0046]这里，将给出对于处理室Rl的补充说明。图6中示出的处理室Rl为设置在柜体12的内部空间中并且通过旋转体14的旋转移置可以是运入室18、投射室20和运出室22中的任何一者的室。这里，运入室18为设置在喷丸装置10的运入区域40A中并且用于工件W的运入的室，投射室20为设置在喷丸装置10的投射区域40B中并通过将投射材料投射到工件W上而用于进行工件W的表面处理的室，以及运出室22为设置在喷丸装置10的运出区域40C中并用于工件W的运出的室。换句话说，处理室Rl起初为例如运入室18，通过旋转体14的绕其轴线仅预定角度的旋转移置而变成投射室20、并且此外，通过旋转体14的绕其轴线仅预定角度的旋转移置而变成运出室22。
[0047]运入区域40A为工件W由作为随后将描述的悬吊支撑部的自转轴构件46悬吊及支撑的区域。此外，运出区域40C为工件W被从自转轴构件46降下的区域。
[0048]第一投射机30A设置在旋转体14的上部的一侧上，并且该第一投射机30A安装在柜体12的侧壁的上部侧上。另一方面，第二投射机30B设置在旋转体14的下部的一侧上，并且该第二投射机30B安装在柜体12的侧壁的下部侧上。即，第一投射机30A和第二投射机30B分别安装在柜体12的作为安装表面的侧壁上。此外，在本实施方式中，其上安装有第一投射机30A的安装表面和其上安装有第二投射机30B的安装表面被设为相邻的不同的表面。图1中示出的其上安装有第一投射机30A的安装部12D以及其上安装有第二投射机30B的安装部12E也用作在检查中能够打开和关闭的检查门。
[0049]第一投射机30A和第二投射机30B为能够通过叶轮的旋转将离心力传送至投射材料(丸状物或在本实施方式中例如为钢球)的离心投射机。此外，如图6中示出的，第一投射机30A和第二投射机30B构造为将由离心力加速过的投射材料通过处理室Rl中的开口部14A投射到处理室Rl内。
[0050]第一投射机30A设定为使得投射材料的投射方向的中心线LI朝着处理室Rl的内部侧向处理装置下侧倾斜。另一方面，第二投射机30B设定为使得投射材料的投射方向的中心线L2朝着处理室Rl的内部侧向处理装置上侧倾斜。此外，在第一投射机30A中的投射材料的投射方向的中心线LI以及在第二投射机30B中的投射材料的投射方向的中心线L2设置为具有彼此在位于自转轴构件46的自转轴的下侧的延长线的各投射位置侧的空间中不交叉的关系。在图中，从第一投射机30A和第二投射机30B的投射轨迹的范围由夹在中心线LI与L2中间的两点划线指示。
[0051]此外,第二投射机30B设定为使得投射材料的每单位时间的投射量大于第一投射机30A的投射材料的每单位时间的投射量。在本实施方式中，例如，上侧的第一投射机30A中的投射材料的每单位时间的投射量被设定为300Kg/min，并且下侧上的第二投射机30B中的投射材料的每单位时间的投射量被设定为400Kg/min。随后将描述投射材料的每单位时间的投射量的调整。
[0052]为使投射到处理室Rl中的投射材料下落至处理装置的下侧，处理室Rl的底板部14Z中形成有多个孔部14Z1。尽管图6中省略了图示，通过图3中示出的外周壁14W的外侧上的安装板安装有密封构件42。该密封件42由橡胶制成，并设置在外周壁14W的竖向方向的整个长度上，并且同时沿在处理装置的平面图上的周向方向设置为多个以密封外周壁14W与柜体12的内周表面之间的空间。此外，在柜体12的与旋转体14的外周侧相对的内周侧上安装有柱状圆棒(未示出)，该柱状圆棒以处理装置的竖向方向作为其轴向方向安装。圆棒沿柜体12的内周的周向方向设置为多个并且构造为阻止沿柜体12的内周流动的投射材料的进入并防止其落下。
[0053]如图1中示出的，第一投射机30A通过导入筒28A与构造为供给投射材料的导入管26A的下端连接，并且导入管26A的上端部上设置有构造为调整投射材料的流量的流量调节器24A。同样，第二投射机30B通过导入筒28B与构造为供给投射材料的导入管26B的下端连接，并且导入管26B的上端部上设置有构造为调节投射材料的流量的流量调节器24B。[0054]流量调节器24A与24B各自设置有开启/关闭门，并且该开启/关闭门的开度制作为可调节。在本实施方式中，当流量调节器24A和24B的开启/关闭门需被开启时，流量调节器24B的开启/关闭门的门开度设定为大于流量调节器24A的开启/关闭门的开度。因此，第二投射机30B的投射材料的每单位时间的投射量设定为比第一投射机30A的投射材料的每单位时间的投射量更大的量。如在图5中示出的，流量调节器24A和24B连接至控制部38，开启/关闭门(开启/关闭以及开启/关闭量的调节)的操作由控制部38来控制。
[0055]此外，如图1中示出的，第一投射机30A通过导入筒28A、导入管26A和流量调节器24A连接至循环装置34，同时第二投射机30B通过导入筒28B、导入管26B和流量调节器24B连接至循环装置34。循环装置34为构造成输送由第一投射机30A和第二投射机30B投射的投射材料并将其循环至第一投射机30A和第二投射机30B的装置。
[0056]循环装置34设置有位于柜体12的下部上的螺旋输送器34A。螺旋输送器34A水平地设置，并将处理装置的左右方向作为其纵向方向，并且构造为回收从投射室20(参见图6)落下的投射材料并将所述投射材料沿螺旋输送器34A的纵向方向的预定方向(在本实施方式中为处理装置的右侧)输送。在螺旋输送器34A的输送方向的下游侧(图1中的处理装置的右侧)设置有沿处理装置的竖向方向延伸的斗式提升机34B的下端部侧。
[0057]如图2中示出的，由于斗式提升机34B具有已知结构，因而将省略对其的详细描述，并且围绕设置在喷丸装置10的上部和下部上的滑轮34B1缠绕有环形带34B2，并且环形带34B2上安装有众多数目的斗34B3。此外，滑轮34B1连接至驱动马达34C(参见图1)，并且使得能够被旋转地驱动。因此，斗式提升机34B构造为将由螺旋输送器34A回收的投射材料铲起至斗34B3上，并通过由驱动马达34C (参见图1)使滑轮34B1旋转而将斗34B3中的投射材料朝向柜体12的上侧输送。
[0058]斗式提升机34B的上部通过滑槽34D连接至螺旋输送器34E。图1中示出的处理装置的右侧上的架台36为用于当斗式提升机34B的上部及螺旋输送器34E被检查时用作作业者的脚手架的架台。如图1中示出的，螺旋输送器34E水平地设置，将处理装置的左右方向作为其纵向方向，并且构造为以便将从斗式提升机34B的上部通过滑槽34D输入的投射材料以螺旋输送器34E的纵向方向(在本实施方式中为处理装置的左侧)为预定方向输送。
[0059]在螺旋输送器34E的纵向方向的中间部的下侧上，在投射材料可从螺旋输送器34E流出的位置处设置有投射材料箱34F和34G。投射材料箱34F和34G为构造成将由螺旋输送器34E输送的投射材料供给至流量调节器24A和24B的箱，并且投射材料箱34F设置在流量调节器24A的上侧上，而投射材料箱34G设置在流量调节器24B的上侧上。
[0060]另一方面，在螺旋输送器34E的输送方向的下游侧的端部上，设置有溢流管34H的上端部。此外，在溢流管34H的下端部上，安装有风选式分离器341。分离器341将包含流入的投射材料的颗粒状物质通过施加气流而分类为可乘着气流的轻质量的物件和落下的重质量的物件，并将异物从投射材料中分出。
[0061]在分离器341的侧表面部上，安装有与分离器341连通的沉淀室34J。该沉淀室34J通过导管34K连接至未示出的集尘器，并设置有从沉淀室34J (在分离器341侧与导管34K侧之间)内部的通道中的室上壁侧悬吊的导引板34J1。因此，沉淀室34J在因集尘器的吸入工具(鼓风机)的吸入力而吸入的空气中通过导引板34J1产生旁通流并将抽吸空气中的颗粒(异物)通过该旁通流分离出。
[0062]导管34K允许包含细粉的空气流动，并且连接至导管34K的集尘器将包含细粉的空气过滤并将仅空气排放入大气中，且同时将细粉积聚在集尘器的下方侧上的细粉收集盒(未示出)中。
[0063]沉淀室34J的下部连通倾斜筛34L，并且从沉淀室34J中的异物中分离出的粗粉通过倾斜筛34L筛分(分级)。此外，倾斜筛34L与柜体12的内部(在螺旋输送器34A的上游侧的附近)通过投射材料返回滑槽34M连通。由倾斜筛34L分筛出的可使用投射材料通过投射材料返回滑槽34M返回入柜体12中，并被循环和使用。
[0064]此外，沉淀室34J的下部与细粉排出滑槽34N连通，并且在细粉排出滑槽34N的下方侧上设置有细粉接收盒34P。因此，在沉淀室34J中分离出的细粉通过细粉排出滑槽34N排出至细粉接收盒34P中。
[0065]随后，将描述图2中示出的构造为使工件W公转和自转的机构。如在图2中示出的，自转轴构件46设置在旋转体14的顶棚部14U上。自转轴构件46将其下部设置在处理室Rl中，并在处理室Rl中通过笼状件44悬吊和支撑工件W。工件W在笼状件44中的设置防止了工件W的掉落及损坏。用于笼状件44的自转的自转轴构件46的自转轴线与在平面图上的笼状件44的旋转中心被设定为在处理装置(未示出)的平面图上为同中心。图2中的左侧上的笼状件44示出从自转轴构件46移除的状态。
[0066]此外，柜体12上设置有旋转驱动机构60。旋转驱动机构60包括公转轴部62、公转轮64、公转驱动马达66并通过使旋转体14的绕处理装置的竖向方向的轴线旋转而使自转轴构件46公转。
[0067]公转轴部62安装在旋转体14的顶棚部14U的中央部处，并且以处理装置的竖向方向作为其轴向方向而设置在旋转体14的上侧上，并且该竖向方向的中间部通过轴承部68贯通框架部70。公转轮64同轴地连接至公转轴部62的上端部并构造为通过公转驱动马达66旋转地驱动。换言之，公转轴部62构造为通过公转驱动马达66的操作绕处理装置的竖向方向的轴旋转。如图5中示出的，公转驱动马达66 (在图5中以框图示出)连接至控制部38，并且由控制部38控制其操作。
[0068]此外，旋转驱动机构60设置有形成在旋转体14的外周表面上的预定位置处的凹部14X和与旋转体14的外周表面相对地设置的用于锁定公转的锁定缸72A(在图中示意性地示出)。在本实施方式中，三个凹部14X沿旋转体14的周向方向连续地设置在接近的位置处以形成凹部组，并且该凹部组在沿旋转体14的周向方向的等间距的三点处形成。此外，锁定缸72A为已知的气缸并构造为能够在杆72A1配装入凹部14X中的位置与远离旋转体14的外周表面的隔开的位置之间伸展及收缩。
[0069]锁定缸72A通过空气方向控制装置(电磁阀等)72B连接至空气供给源72C，所有这些以框图示出，并且空气方向控制装置72B连接至控制部38。控制部38通过根据随后将描述的预定条件控制空气方向控制装置72B来在方向上控制锁定缸72A的杆72A1的伸展
/收缩。
[0070]此外，旋转驱动机构60具有以120°间距安装在旋转体14的外周表面上的金属件74Z,并设置有接近开关74A、74B和74C，即，三个开关设置为略微离开旋转体14的外周表面且彼此相邻。接近开关74A、74B、74C构造为使得包括所述接近开关74A、74B和74C的电路(控制电路部)当金属件74Z靠近至预定范围时进入导通状态。即，在旋转体14抵达预定的旋转角度位置时的状态下，当金属件74Z靠近至接近开关74A、74B和74C的预定范围内时，接近开关74A、74B和74C能够检出金属件74Z的接近，换言之，能够检出旋转体14处于预定的旋转角度位置处。
[0071]接近开关74A、74B和74C连接至控制部38。当接近开关74A、74B和74C检出金属件74Z的接近时，控制部38通过基于检出结果对空气方向控制装置72B进行控制从而执行使锁定缸72A的杆72A1延伸至配合在旋转体14的外周表面上的凹部14X中的位置的方向上的控制。此外，当接近开关74A、74B和74C未检出金属件74Z的接近时，控制部38通过控制空气方向控制装置72B而执行使锁定缸72A的杆72A1收缩至远离旋转体14的外周表面的位置的方向上的控制。
[0072]因此，旋转驱动机构60在投射区域40B中的作为工件W的公转停止位置的多个位置处进行旋转体14的一次停止，以防止或有效地抑制不均匀的清理过程(不均匀的研磨)。这里，如在图4中示出的，工件W的在投射区域40B中的公转停止位置被设定为第二位置(见图4 (B))、第一位置(参见图4 (A))和第三位置(参见图4 (C))，该第二位置为自转轴构件46的自转轴心设置在处理装置的平面图上的第一投射机30A和第二投射机30B中的投射材料的投射方向的中心线LI和L2上的位置，该第一位置为相对于示出在图4 (B)中的第二位置在转子14的旋转方向(所谓的偏心位置)的上游侧的位置，以及该第三位置为相对于示出在图4 (B)中的第二位置在旋转体14的旋转方向(所谓的偏心位置)的下游侧的位置。
[0073]当旋转体14受到如图6中示出的在工件W的公转停止位置处的一次停止时，旋转体14被设置为使得处理室Rl中的一个设置在运入区域40A (换言之，该室变成运入室18)中，并且处理室Rl中的另一个设置在运出区域40C (换言之，该室变成运出室22)中。
[0074]如图2中所示，自转轴构件46的上部在旋转体14的上方侧上与自转轮48同轴地连接。自转轮48由橡胶滚轮组成，并且当安装在自转轴构件46上的笼状件44抵达在投射区域40B中的预定位置(参见图6，在其中工件W受到第一投射机30A与第二投射机30B的投射的区域)或更具体地，工件W的公转停止位置时，笼状件构造为使得与自转驱动轮50接触。此外，自转驱动轮50由橡胶滚轮组成，并连接至能够被驱动的自转驱动马达52，并且当自转驱动轮50以由自转驱动马达52驱动的状态与自转轮48接触时，自转轴构件46构造为绕其轴自转。
[0075]如图5中示出，自转驱动马达52 (在图5中以框图示出)连接至控制部38。控制部38执行使得自转驱动马达52当投射材料被投射至工件W时被操作的控制。
[0076]自转驱动轮50通过轴承安装在摇臂54A上。摇臂54A在能够绕处理装置的竖向方向的轴54X摇动(旋转运动)的同时连接至驱动部54B (在图5中以框图示出)以通过驱动部54B的操作摇动。驱动部54B包括气缸。驱动部54B连接至控制部38。当工件W抵达公转停止位置时，控制部38通过控制驱动部54B而执行控制，使得摇臂54A摇动，并且使得自转驱动轮50与自转轮48接触。
[0077]此外，在与自转轮48同轴地固定的锁定环49的外周表面上形成有用于自转轴构件46的自转锁定的凹部49A，并且，锁定环49的外周侧上设置有锁定滚轮56A。锁定滚轮56A连接至驱动部56B (在图中以框图示出)，并被构造为通过驱动部56B的操作能够在设置在凹部49A中的位置与远离凹部49A的位置之间移置。驱动部56B连接至控制部38。
[0078]当自转驱动马达52被操作时，控制部38通过控制驱动部56B而将锁定滚轮56A设置在与凹部49A隔开的位置处，并且当自转驱动马达52被停止时，控制部38通过控制驱动部56B而将锁定滚轮56A设置在凹部49A中。此外，在将锁定滚轮56A设置在凹部49A中后，控制部38通过控制驱动部54B，执行控制以使得摇臂54A摇动，并且自转驱动轮50与自转轮48隔开。
[0079]在图5中，仅示出了用于三个自转轴构件46中的一个的自转及自转锁定的机构。但也设置有用于其它两个自转轴构件46的同样的机构(图5中未示出)。
[0080](作用/效果)
[0081 ] 随后，将描述上述实施方式的作用及效果。
[0082]在根据本实施方式的喷丸装置10中，在图6中示出的自转轴构件46设置在旋转体14的顶棚部14U上，以将工件W悬吊和支撑在处理室Rl中，并构造为能够在其中工件W受到由第一投射机30A和第二投射机30B的投射的投射区域40B中自转。如此，工件W的整个周向部受到投射。
[0083]此外，在根据本实施方式的喷丸装置10中，运入区域40A为其中工件W通过自转轴构件46被悬吊及支撑的区域，并且运出区域40C为其中工件W被从自转轴构件46降下的区域。三个处理室Rl绕旋转体14的周向方向并置，并且当旋转体14受到在工件W的公转停止位置处的一次停止时，处理室Rl中的一个设置在运入区域40A,而处理室Rl中的另一个设置在运出区域40C中。
[0084]因此，当工件W在投射区域40B中受到投射期间，通过将一个或更多个工件W插入至运入区域40A中的笼状件44中，将工件W由自转轴构件46悬吊和支撑，同时，能够将已经进行过抛丸处理的工件W从运出区域40C中的自转轴构件46降下。如上所述，由于运出和运入能够在投射期间在分开区域中同时进行，因而与例如在一个区域中进行运出和运入的构型相比可减少用于运入/运出所需的时间。
[0085]当进行运入区域40A中的运入与在运出区域40C中的运出时，旋转体14和间隔部16通过公转驱动马达66 (参见图2)的驱动力以略小于120°的角度绕作为中心轴的公转轴部62旋转，并且处于插入到笼状件44中的状态下的工件W从运入区域40A移动至投射区域40B。
[0086]随后，如在图5中所示，在投射区域40B中，自转驱动轮50通过自转驱动马达52的操作旋转，并且自转驱动轮50与自转轮48接触由此自转轴构件46被旋转。因此，投射区域40B的笼状件44以自转轴构件46为中心自转。于是，流量调节器24A和24B的开启/关闭门被打开，并且投射材料被通过第一投射机30A和第二投射机30B (参见图6)的操作投射到围绕自转轴构件46的笼状件44中的工件W上。
[0087]这里，图6中示出的第一投射机30A设置在旋转体14的上部侧上并且被设定为使得投射材料的投射方向的中心线LI朝着处理室Rl的内部侧向处理装置下方侧倾斜。另一方面，第二投射机30B设置在旋转体14的下部侧上，并且设置为使得投射材料的投射方向的中心线L2朝着处理室Rl的内部侧向处理装置上方侧倾斜。如上所述，由于投射材料从斜上方侧和斜下方侧两个方向投射到工件W，因而使得工件W的整个表面上的投射更有效率。
[0088]此外,对于第二投射机30B,投射材料的每单位时间的投射量被设定为比第一投射机30A的投射材料的每单位时间的投射量较大。因此,即使投射材料因斜向地向上投射而减速，但仍进行了与第一投射机30A的斜向地向下投射的抛丸处理相同程度的抛丸处理。此外，在本实施方式中，工件W在投射期间在笼状件44中略微地浮动，并且投射在笼状件44的放置部分的上表面与工件W的下表面之间产生空隙的状态下进行。因此，能够消除工件W的底表面上(与笼状件44接触的表面)未处理部分(非地上部分)难以进行喷丸处理(研磨)的问题，并且整个工件W能够受到确实的喷丸处理。
[0089]此外，由于被设定为使得第一投射机30A中投射材料的投射方向的中心线LI与第二投射机30B中投射材料的投射方向的中心线L2至少在自转轴构件46的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间中不彼此交叉的关系，因而能够抑制来自第一投射机30A的材料与来自第二投射机30B的材料在抵达工件W之前的相互干涉。如此，提高了投射效率。
[0090]在根据本实施方式的喷丸装置10中，图5中示出的旋转驱动机构60通过使旋转体14绕处理装置的竖向方向的轴线旋转而使自转轴构件46公转，并同时，进行旋转体14在投射区域40B中作为工件W的公转停止位置的多个位置处的一次停止。如此，由于投射材料如何击中工 件W能够通过多个公转停止位置而相对地改变，因而可以使投射更均匀和准确。
[0091]更具体地，如在图4中示出的，已进入投射区域40B的工件W使公转依次在第一位置(参见图4 (A))、第二位置(参见图4 (B))与第三位置(参见图4 (C))停止，并在各个位置处自转的同时受到投射。这里，图4 (B)中示出的第二位置为在处理装置的平面图中自转轴构件46的自转轴心设置在第一投射机30A和第二投射机30B中的投射材料的投射方向的中心线LI和L2上的位置，图4 (A)中示出的第一位置为相对于图4 (B)中示出的第二位置在旋转体14的旋转方向上游侧的位置，并且图4 (C)中示出的第三位置为相对于图4 (B)中示出的第二位置在旋转体14的旋转方向下游侧的位置。如此，工件W通过在投射区域40B中三个点处停止而受到投射，并且在投射材料有效地撞击的第二位置处(参见图4(B))及其之前与之后的第一位置和第三位置(参见图4 (A)与图4 (C))处受到高效的均匀地投射。
[0092]如上所述，根据本实施方式的喷丸装置10，可减小总的处理时间。
[0093]【第二实施方式】
[0094]随后，将通过使用图7至图10描述根据本实用新型的第二实施方式的作为抛丸处理装置的喷丸装置80。图7以前视图示出根据本实施方式的喷丸装置80的整体构型，图8以右侧视图示出喷丸装置80的整体构型，并且图9以平面图示出喷丸装置80的整体构型。此外，图10以基于平面图的截面图示出本实施方式中处理室R2的构型。相同的附图标记用于指代与第一实施方式中的构型大致相同的构型，并将省略对其的说明。
[0095]如在图7至图9中示出的，喷丸装置80设置有中空的柱状柜体82。如在图9中示出的，在柜体82的中央部处设置有大致圆筒状的旋转体84。如随后将详细描述的，旋转体84以绕处理装置的竖向方向的轴线旋转地驱动的方式连接至旋转驱动机构94。
[0096]在旋转体84中，通过将围绕作为旋转中心的处理装置的竖向方向的轴线的空间由间隔部86 (间隔构件)间隔开，多个(在本实施方式中总共六个室)处理室R2沿周向方向并置。间隔部86设置在旋转体84中顶棚部84U的下方侧，但出于图纸的易于理解，大多数的间隔部86不是由虚线而是由实线指示。处理室R2为构造为进行工件W的运入/运出以及投射材料的投射的室。在这些处理室R2中，形成有朝向外周侧开口的开口部84A。开口部84A用于工件W的运入，用于工件W的运出，以及用于使投射材料通过。
[0097]处理室R2为设置在柜体82的内部空间中的室，并且通过旋转体84的旋转移置可以是运入室18、投射室20以及运出室22中的任何一者。在本实施方式中，设置有两个室的投射室20。
[0098]此外，在本实施方式中，投射室20与运出室22之间的空间为吹落室21。旋转体84的外周侧上吹落室21的相反部上设置有未示出的喷吹装置(鼓风部)。喷吹装置用于吹落留在工件W上的投射材料，并且能够将气体(在本实施方式中为压缩空气)通过开口部84A吹至旋转体84的内部。
[0099]在本实施方式中，运入区域40A为其中工件W由作为随后将描述的悬吊支撑部的吊架钩92悬吊和支撑的区域，并且运出区域40C为工件W从吊架钩92降下的区域。
[0100]如图10中所示，在间隔部86中，在朝向处理室R2的室内侧的间隔表面上安装有衬套87A和87B。衬套87A在平面图上沿旋转体84的径向方向延伸，并且设置在旋转体84的外周表面侧的端部87A1向内弯曲。衬套87A的端部87A1的内侧表面由橡胶来衬套。在这种构型中，即使投射的投射材料沿衬套87A流动，其在衬套87A的端部87A1处失去了速度，并落至旋转体84的底板部84Z，通过底板部84Z的孔部84Z1，且由随后将描述的料斗90A(见图8)来回收。在旋转体84上，底板部84Z和未示出的顶棚部上同样安装有衬套87C。
[0101]如图7和图8中所示，在旋转体84的上部侧上设置有第一投射机88A，并且该第一投射机88A安装在柜体82的侧壁的上部侧上。另一方面，第二投射机88B设置在旋转体84的下部侧上，并且该第二投射机88B安装在柜体82的侧壁的下部侧上。第一投射机88A和第二投射机88B设置有与第一实施方式(参见图1和图2)中的第一投射机30A和第二投射机30B的基本构型相同的基本构型，并构造为使得投射材料通过图9中示出的处理室R2中的开口部84A投射到处理室R2中。
[0102]此外，图7中示出的第一投射机88A和第二投射机88B的投射方向等被设定为与第一实施方式中的相同。即，第一投射机88A设定为使得投射材料的投射方向的中心线(未示出)朝着处理室R2 (参见图9)的内部侧向处理装置下方侧倾斜，并且第二投射机88B设定为使得投射材料的投射方向的中心线(未示出)朝着处理室R2 (参见图9)的内部侧向处理装置上方侧倾斜。此外，第一投射机88A中的投射材料的投射方向的中心线和第二投射机88B中投射材料的投射方向的中心线被设定为具有在吊架钩92的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间中不彼此交叉的关系。此外，与第一实施方式相同，第二投射机88B被设定为具有比第一投射机88A的投射材料的每单位时间的投射量大的投射材料的每单位时间的投射量。
[0103]如图7和图8所示，第一投射机88A和第二投射机88B通过导入筒28A和28B和导入管26A和26B连接至流量调节器24A和24B。设置有两个流量调节器24A和两个流量调节器24B，并且相应地，两个导入管26A与流量调节器24A以一对一的关系连接，并且两个导入管26B与流量调节器24B以一对一的关系连接。流量调节器24A和24B连接至与第一实施方式的相同的控制部(未示出)，并且开启/关闭门(开启/关闭和开启/关闭量的调节)的操作由与第一实施方式的相同的控制部控制。
[0104]第一投射机88A和第二投射机88B通过导入筒28A和28B、导入管26A和26B和流量调节器24A和24B连接至循环装置90。循环装置90为构造为输送由第一投射机88A与第二投射机88B投射的投射材料,并将其循环至第一投射机88A和第二投射机88B,并具有与第一实施方式中的循环装置34 (参见图1)的构型大致局部地相同的构型。因此，对于与第一实施方式中的循环装置34 (参见图1)的构型部分大致相同的构型部分，将省略对其的说明。
[0105]循环装置90设置有旋转体84的下方侧上的料斗90A。料斗90A允许从形成在旋转体84的底板部84Z中形成的孔部84Z1 (参见图10)落下的投射材料流动至螺旋输送器34A。另一方面，在处理装置的上部上，上侧的螺旋输送器34E的输送方向的下游侧上安装有风选式分离器90B。
[0106]分离器90B将含有流入的投射材料的颗粒物质通过使用气流分类成可乘着气流流动的轻质量物件和落下的重质量物件，并将异物从投射材料中分类出，并且仅允许可使用的投射材料流入投射材料箱90C中。投射材料箱90C为构造成将投射材料供给至流量调节器24A和24B、并设置在流量调节器24A和24B的上方侧的罐。
[0107]随后将描述图9中示出的构造为使工件W公转及自转的机构。如图9中所示，吊架钩92设置在旋转体84的顶棚部84U上。在吊架钩92的轴上部同轴地连接有轮部92A，并且吊架钩92的轴下部设置在处理室R2中，并且吊架钩92将工件W悬吊和支撑在处理室R2中。
[0108]此外,在柜体82中，设置有旋转驱动机构94。旋转驱动机构94包括公转轴部96、公转轮胎98和公转驱动马达100，并且通过使旋转体84绕处理装置的竖向方向的轴线旋转而使吊架钩92公转。
[0109]如图7中所示，旋转轴部96设置为将处理装置的竖向方向作为轴心方向，使上端部和下端部通过轴承部由框架部支撑,并且固定至旋转体84的顶棚部84U的中央部处。如图9中所示，旋转体84的外周侧表面与设置为将处理装置的竖向方向作为轴心方向的公转轮胎98接触。
[0110]可旋转地支撑公转轮胎98的轴承部安装在能够绕处理装置的竖向方向的轴99X摇动(旋转运动)的摇臂99上。摇臂99的远端部(图中的右端部)通过未示出的弹簧偏压至旋转体84侧。因此，公转轮胎98被压在旋转体84侧上。
[0111]此外，公转轮胎98同轴地连接至公转驱动马达100的马达轴，并构造为由公转驱动马达100可旋转地驱动。换言之，旋转体84构造为通过公转驱动马达100的操作绕公转轴部96旋转。公转驱动马达100连接至与第一实施方式相似的控制部(未示出)，并且由该控制部控制公转驱动马达100的操作。此外，旋转驱动机构94设置有与第一实施方式的旋转驱动机构60 (参见图5)相似的用于锁定公转的功能。
[0112]因此，旋转驱动机构94在作为工件W的公转停止位置的投射区域40B中的多个位置处进行旋转体84的一次停止以防止或有效地抑制不均匀的喷丸处理(不均匀的研磨)。这里，在投射区域40B中的工件W的公转停止位置与第一实施方式的相同(参见图4)，设定为第二位置，第一位置和第三位置，该第二位置为在处理装置的平面图上吊架钩92的自转轴心设置在第一投射机88A与第二投射机88B中投射材料的投射方向的中心线上的位置,第一位置为相对于第二位置在旋转体84的旋转方向上游侧的位置，并且第三位置为相对于第二位置在旋转体84的旋转方向下游侧的位置。
[0113]其通过与第一实施方式相同的控制部(未示出)来控制。此外，在本实施方式中，吊架钩92被控制为以便当进入投射区域40B时以低速公转和移动，并且以便在作为第一位置处的前停止、在第二位置处的中央停止、以及在第三位置处的后停止的三点处停止公转，并当从投射区域40B移动至随后的投射区域40B时进一步以高速公转和移动。
[0114]当旋转体84受到工件W的公转停止位置处的一次停止时，设定为使得处理室R2中的一个设置在运入区域40A中(换言之，该室变成运入室18)，并且处理室R2中的另一个设置在运出区域40C中(换言之，该室变成运出室22)。
[0115]在柜体82的顶棚82U上，对应于投射室20设置有两个带链轮的驱动马达102。带链轮的驱动马达102的链轮102A可通过缸体104被压在吊架钩92的轮部92A侧上。具体地，当工件W抵达投射区域40B (工件W受到第一投射机88A和第二投射机88B的投射的区域)中的公转停止位置时，链轮102A构造为压在吊架钩92的轮部92A上。此外，在带链轮的驱动马达102操作的状态下，当使得链轮102A与吊架钩92的轮部92A接触时，吊架钩92构造为绕其轴自转。
[0116]缸体104为设置有能够扩展和收缩的杆的已知的气缸，并通过未示出的空气方向控制装置(电磁阀等)连接至未示出的空气供应源，并且该空气方向控制装置连接至未示出的控制部。控制部通过方向上控制缸体104的杆的扩展和收缩而使带链轮的驱动马达102的链轮102A靠近吊架钩92的轮部92A或使带链轮的驱动马达102的链轮102A远离吊架钩92的轮部92A，使得吊架钩92以与第一实施方式相似的定时以预定时间自转。 [0117]图9中示出的工件W的公转、公转停止、自转和自转停止的条件与第一实施方式的相似，并且操作等由未示出的控制部控制。
[0118]通过上述的本实施方式的构型也可获得与上述第一实施方式的相同的作用和效
果O
[0119]【第二实施方式的变型】
[0120]作为第二实施方式的变型，旋转体84的内部的间隔构型可被构造为如图11中所示。与上述实施方式大致相似的构型部被赋予相同的附图标记，并省略对其的说明。此外，尽管省略了详细说明，在间隔部86上，在朝向处理室R2的室内侧导向的间隔表面上安装有(相似于第二实施方式中衬套87A和87B衬套(参见图10)的衬套)，并且在旋转体84的底板部与顶棚部上安装有适宜的衬套。
[0121]图11 (A)示出了其中设置有两个处理室R2、各一个的运入/运出室19和投射室20的构型。图11 (B)为其中设置有三个处理室R2、各一个的运入室18、投射室20和运出室22的构型。图11 (C)为其中设置有五个处理室R2、各一个的运入室18、投射室20和运出室22的构型。图11 (D)为其中设置有六个处理室R2、两个投射室20和各一个的运入室18和运出室22的构型。图11 (E)为其中设置有四个处理室R2、各一个的运入室18、投射室20和运出室22的构型。图11 (F)为其中设置有六个处理室R2、两个投射室20和各一个的运入室18和运出室22的构型。
[0122]【第三实施方式】[0123]随后，将利用图12至图14描述作为根据本实用新型的第三实施方式的抛丸处理装置的喷丸装置110。图12以前视图示出了根据本实用新型的第三实施方式的喷丸装置110的整体构型，图13以右侧视图示出了喷丸装置110的整体构型，以及图14以平面图示出了喷丸装置110的整体构型。与第一实施方式和第二实施方式大致相同的构型部分被赋予相同的附图标记，并且将省略对其的说明。此外，对于根据本实施方式的喷丸装置110的工件W，应用作为示例的，例如，锻造结构、压制结构、焊接结构等，或例如更具体地汽车相关的部件。
[0124]如图12至图14所示，喷丸装置110设置有箱状柜体112。如图14中所示，柜体112内设置有大致圆筒形旋转体114 (也称作“公转鼓”)。旋转体114连接至旋转驱动机构126以便如随后将详细描述的绕沿处理装置的竖向方向的轴线旋转地驱动。
[0125]在旋转体114中，通过将绕作为旋转中心的处理装置的竖向方向的轴线的空间由间隔部116间隔开，多个处理室(在本实施方式中总计两个室)沿周向方向并置。间隔部116由间隔构件构造。在处理室R3中，形成有朝向外周侧开口的开口部114A。开口部114A用于工件W的运入，用于工件W的运出，以及用于使投射材料通过。
[0126]处理室R3为设置在柜体12的内部空间中的室，并且通过旋转体114的旋转移置可以是运入/运出室19和运出室22中的任何一者。这里,运入/运出室19为设置在喷丸装置110的运入/运出区域40D中的室，并用于工件W的运入和运出二者。换言之，例如，原为运入/运出室19的处理室R3通过旋转体114绕其轴线仅预定角度的旋转移置起初变成投射室20，进一步地通过旋转体114绕其轴线仅预定角度的旋转移置变成运入/运出室19。
[0127]运入/运出区域40D为用于将工件W从用作随后将描述的悬吊支撑部的自转轴构件122降下的区域，并且也为用于将工件W通过自转轴构件122悬吊和支撑的区域。
[0128]如图13所示，旋转体114的上部侧上设置有第一投射机118A，并且该第一投射机118A安装在柜体112的侧壁的上部侧上。另一方面，在旋转体114的下部侧上设置有第二投射机118B,并且该第二投射机118B安装在柜体112的侧壁的下部侧上。第一投射机118A和第二投射机118B设置有与第一实施方式中的第一投射机30A和第二投射机30B(参见图1和图2)的同样的基本构型，并被构造成使得投射材料通过图14中示出的处理室R3中的开口部114A被投射到处理室R3内部。
[0129]此外，图13中示出的第一投射机118A和第二投射机118B的投射方向被设定为与第一实施方式中的相似。即，第一投射机118A被设定为使得投射材料的投射方向的中心线L3朝着处理室R3的内部侧向处理装置的下方侧倾斜，并且第二投射机118B被设定为使得投射材料的投射方向的中心线L4朝着处理室R3的内部侧向处理装置的上方侧倾斜。此外，如图12中所示，第一投射机118A和第二投射机118B被设置为使得各个叶轮的旋转轴线CL3和CL4彼此平行，并且沿叶轮的旋转轴线方向相对于彼此偏移。通过这种偏移，第一投射机118A中的投射材料的投射方向的中心线L3 (参见图13)和第二投射机118B中的投射材料的投射方向的中心线L4 (参见图13)被设定为具有彼此不交叉的关系(包括自转轴构件122的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间)。在图13中，第一投射机118A中的投射材料的投射方向的中心线L3与第二投射机118B中的投射材料的投射方向的中心线L4当以两维的方式观察时似乎是彼此交叉的，但中心线L3和中心线L4沿垂直于图纸的方向位移并且当以三维的方式观察时彼此并不交叉。
[0130]此外，与第一实施方式相同，第二投射机118B被设定为使得投射材料的每单位时间的投射量大于第一投射机118A的投射量。在本实施方式中，例如，上侧的第一投射机118A中投射材料的每单位时间的投射量被设定为300kg/min，并且下侧的第二投射机118B中投射材料的每单位时间的投射量被设定为400kg/min。
[0131]第一投射机118A和第二投射机118B通过导入管26A和26B连接至流量调节器24A和24B。流量调节器24A和24B连接至与第一实施方式相似的控制部(未示出)，并且开启/关闭门的操作(开启/关闭和开启/关闭量的调整)由与第一实施方式相似的控制部来控制。
[0132]第一投射机118A和第二投射机118B通过导入管26A和26B以及流量调节器24A和24B连接至循环装置120。循环装置120为构造为输送由第一投射机118A和第二投射机118B投射的投射材料、并将其循环至第一投射机118A和第二投射机118B、并具有与第一实施方式中的循环装置34 (参见图1)的构型大致地局部地相似的构型。因此，对于与第一实施方式中循环装置34 (参见图1)中的构型部大致相似的构型部，将省略对其的说明。
[0133]如图12中所示，处理装置的上部上安装有箱体120A。在箱体120A的内部的上部侧上，配置有旋转式筛网(旋转筛)120B，并且，该旋转式筛网120B中插入有螺旋输送器34E。旋转式筛网120B设置有未示出的筛本体，并且筛本体圆筒状地形成有网状本体，并且形成有多个均具有比投射材料的直径大的直径的孔部(网眼)，并构造为绕其自身轴线旋转地驱动。旋转式筛网120B构造为使得包含回收的投射材料和颗粒状异物的混合物从螺旋输送器34E流入筛本体中，并且同时，筛本体将混合物在绕轴线旋转的同时旋转地移动，并且将具有比孔部的直径大的直径的异物除去。
[0134]此外，在箱体120A的内部的下部侧上，设置有风选式分离器120C。分离器120C将包含已通过旋转式筛网120B的孔部流入的投射材料的颗粒物件通过应用气流分级为能够乘着气流的轻质量物件以及下落的重质量物件，并将异物(例如诸如细粉、沙等杂质)从投射材料中分级出。分离器120C通过斗120F与集尘器120G(参见图13)连接。集尘器120G通过吸入工具(鼓风机)吸入分离器120C中的空气，并且通过这种吸入力在分离器120C中产生气流。
[0135]在箱体120A的下部上，投射材料箱120D和异物排出滑槽120E能够连通地连接。投射材料箱120D构造为使得其中已通过分离器120C将杂质分离出后的投射材料被允许流入并循环使用。投射材料箱120D为构造为将投射材料供给至图13中示出的流量调节器24A和24B并设置在流量调节器24A和24B的上方侧上的罐。在另一方面，异物排出滑槽120E用于将从旋转式筛网120B的远端部侧中排出的较大的异物(例如，铸件毛刺)排出至处理装置的外部。
[0136]随后将描述图13和图14中示出的构造为使工件W公转和旋转的机构。如图13中所示，在旋转体114的顶棚部114U上设置有自转轴构件122。自转轴构件122使其下部设置在处理室R3中，并且通过笼状件124将工件W悬吊和支撑在处理室R3中。
[0137]在本实施方式中，示出在图13中的笼状件124通过将上端部自转轴构件122锁定而设置有将处理装置的竖向方向作为其纵向方向的支柱部124A，并设置有从支撑柱部124A沿水平方向延伸的用于将工件W插入和布置的臂部124B。将工件W插入到笼状件124中防止了工件W的掉落和损坏。此外，在处理装置的平面图上，臂部124B中工件W的配置中心设定为与自转轴构件122的自转轴线(自转中心)同中心。在图纸中，设置有一个臂部124B，但多个(例如，3个)臂部124B可沿处理装置的竖向方向以间距设置。此外，代替笼状件124，可使用篮状的笼状件125。
[0138]此外，在柜体112中，设置有旋转驱动机构126。旋转驱动机构126包括公转轴部128，公转轮130 (参见图14)和公转驱动马达132并且通过使图14中示出的旋转体114绕处理装置的竖向方向的轴线旋转而使自转轴构件122公转。在图14中，将附图标记128赋予公转轴部128的轴心。
[0139]如图13中示出的，公转轴部128设置为将处理装置的竖向方向作为其轴心方向并且通过轴承部由框架部支撑并固定在旋转体114的顶棚部114U的中央部处。如图14中所示，旋转体114的外周侧表面与设置为将处理装置的竖向方向作为轴中心方向的公转轮130接触。
[0140]此外，公转轮130与公转驱动马达132的马达轴同轴地连接并构造为由公转驱动马达132旋转地驱动。换言之，旋转体114构造为通过公转驱动马达132的操作绕公转轴部128旋转。公转驱动马达132连接至与第一实施方式相似的控制部(未示出)，并且由该控制部控制其操作。此外，旋转驱动机构126设置有与第一实施方式的旋转驱动机构60 (参见图5)相似的用于将公转锁定的功能。
[0141]因此，旋转驱动机构126构造为在投射区域40B中的作为工件W的公转停止位置的多个位置处进行旋转体114的一次停止，以防止或有效地抑制不均匀的喷丸处理(不均匀研磨)。这里，工件W在投射区域40B中的公转停止位置被设定为第二位置、第一位置和第三位置，该第二位置为在处理装置的平面图上自转轴构件122的自转轴心设置在第一投射机118A (参见图13)中投射材料的投射方向的中心线L3 (参见图13)上的位置，该第一位置为相对于第二位置在旋转体114的旋转方向上游侧的位置，该第三位置为相对于第二位置在旋转体114的旋转方向下游侧的位置。如根据变型所设定的，工件W的在投射区域40B中的公转停止位置可被设定为第二位置、第一位置和第三位置，该第二位置为在处理装置的平面图上自转轴构件122的自转轴心设置在第二投射机118B (参见图13)中投射材料的投射方向的中心线L4(参见图13)上的位置，该第一位置为相对于第二位置在旋转体114的旋转方向上游侧的位置，该第三位置为相对于第二位置在旋转体114的旋转方向下游侧的位置。这些位置通过与第一实施方式相似的控制部(未示出)控制。
[0142]当旋转体114受到工件W的在公转停止位置处的一次停止时，其被设定为使得处理室R3中的一个设置在投射区域40B中(换言之，处理室R3变成投射室20)，并且处理室R3中的另一个设置在运入/运出区域40D (换言之，处理室R3变成运入/运出室19)中。
[0143]如图13中所示，在柜体112中处理装置的上方侧上，自转轮134同轴地固定至自转轴构件122的上端部。另一方面，在投射室20的上方侧上，设置有自转驱动马达136，并且同样设置有通过自转驱动马达136的操作而驱动的驱动滚轮138。如图14中所示，驱动滚轮138安装在与第一实施方式的摇臂54A (参见图5)相似的摇臂140上，并且与第一实施方式相似，当工件W抵达投射区域40B 件W受到第一投射机118A和第二投射机118B投射的区域(参见图13))中的公转停止位置时，驱动滚轮138构造为按压在自转轮134上。此外，当使驱动滚轮138在自转驱动马达136 (参见图13)操作的状态下与自转轮134接触时，自转轴构件122构造为绕其轴线自转。
[0144]图14中示出的工件W的公转、公转停止、自转和自转停止的条件与第一实施方式中的条件相似，并且操作等由未示出的控制部控制。
[0145]根据上述实施方式的构型，尽管工件W的运入和运出不能在当工件W在投射区域40B中被执行投射时同时执行，但在投射期间将工件W运出和运入是可能的，并且关于其他点，能够获得与上述的第一实施方式I的作用和效果大致相似的作用和效果。当操作公转驱动马达132 (参见图13)时，通过旋转体114和间隔部116绕公转轴部128旋转略小于180°，插入到笼状件124中的状态下的工件W在投射区域40B与运入/运出区域40D之间移动。
[0146]【第四实施方式】
[0147]随后，将利用图15至图17描述根据本实用新型的第四实施方式的作为抛丸处理装置的喷丸装置150。图15以前视图示出喷丸装置150的整体构型，图16以右侧视图示出喷丸装置150的整体构型，图17以平面图示出喷丸装置150的整体构型。
[0148]在这些图中示出的喷丸装置150基本为通过将根据第三实施方式的喷丸装置110(参见图12至图14)的尺寸减小而获得的装置。相同的附图标记赋予与根据第一实施方式至第三实施方式的喷丸装置110的构型部大致相似的构型部，并且省略对其的说明。
[0149]如图16中所示，构造为输送由第一投射机118A与第二投射机118B投射的投射材料并将投射材料循环至第一投射机118A和第二投射机118B的循环装置152将斗式提升机34B的上部通过滑槽34D连接至分离器120C。即，循环装置152未设置有与图12中所示的第三实施方式中循环装置120中的螺旋输送器34E和旋转式筛网120B等相对应的构型。
[0150]通过本实施方式的构型，也能够获得与上述第三实施方式大致相同的作用和效果O
[0151]【各实施方式的补充说明】
[0152]在上述的实施方式中，抛丸处理装置指的是喷丸装置10、80和110，但该抛丸处理
装置可被应用于例如抛丸硬化装置。
[0153]此外，在上述的实施方式中，投射材料由离心力加速并投射出的离心式投射机(第一投射机30A、88A和118A和第二投射机30B、88B和118B)用作弹丸喷丸装置10、80和110的投射机，但投射机可以是诸如将投射材料与压缩空气一起压缩地进给并通过喷嘴将其喷出的空气喷嘴型投射机之类的其它投射机。
[0154]此外，关于旋转轴部62、96和128的驱动，取代上述实施方式的构型，其也可构造为例如将驱动马达的轴部直接地连接至公转轴部(旋转轴)而被驱动或者公转轴部(旋转轴)通过直接地连接至驱动马达的张力橡胶滚轮来驱动。
[0155]此外，在上述的实施方式中，工件W的公转停止位置设定在第一位置、第二位置和第三位置处，并且这种设定优选地从更有效和更均匀的投射的观点出发，但工件W的公转停止位置可例如被设定在第一位置、第二位置和第三位置中的任意两个位置处。
[0156]此外，在上述的实施方式中，第一投射机30A、88A和118A设置在旋转体14、84和114的上部侧上，并且设置成使得投射的投射材料的投射方向的中心线LI和L3向处理室R1、R2和R3的内部侧、处理装置的下方侧倾斜，并且第二投射机30B、88B和118B设置在旋转体14、84和114的下部侧上，并且设置成使得投射的投射材料的投射方向的中心线L2和L4向处理室Rl、R2和R3的内部侧、处理装置的上方侧倾斜，但基于工件的形状，也可应用例如其中投射机仅设置在旋转体的竖向方向的中央部的一侧的构型。
[0157]此外，在上述的实施方式中，第一投射机30A、88A和118A中的投射材料的投射方向的中心线LI和L3以及第二投射机30B、88B和118B中的投射材料的投射方向的中心线L2和L4设定为具有至少在悬吊支撑部(自转轴构件46、吊架钩92和自转轴构件122)的自转轴的下方侧延长线上的各投射位置侧的空间中彼此不交叉的关系，并且这种构型优选地从对工件W进行更有效和更均匀的投射的观点出发，但也可以应用以上设定之外的模式。
[0158]此外，在上述实施方式中，悬吊支撑部(自转轴构件46、吊架钩92和自转轴构件122)使其旋转在预定时间处停止，但也可以使用其中悬吊支撑部在公转期间始终旋转的构型。
[0159]此外，作为上述实施方式的变型，抛丸处理装置可设定为使得六个处理室沿旋转体的周向方向并置，并且当旋转体受到工件的公转停止位置处的一次停止时，例如，处理室中的两个室设置在投射区域，处理室中的两个室设置在运入区域，并且处理室中的两个室设置在运出区域。
[0160]上述实施方式及多种变型可适当地组合并实施。
[0161]作为非本实用新型的参照性示例，可以应用与以上实施方式相似的其中旋转体受到位于投射区域中作为工件的公转停止位置的单一位置处的一次停止(一种其中设置有例如由CKD制造的INDEXMAN (注册商标)的凸轮型指示装置的构型的模型)的模型，并且也可以使用用于驱动公转轴部(旋转轴)的扭矩限制器。
[0162]附图标记列表:
[0163]10喷丸装置(抛丸处理装置)，14旋转体，14A开口部，14U顶棚部，16间隔部，30A第一投射机，30B第二投射机，40A运入区域，40B投射区域，40C运出区域，46自转轴构件(悬吊支撑部)，60旋转驱动机构，80喷丸装置(抛丸处理装置)，84旋转体，84A开口部，84U顶棚部，88A第一投射机，88B第二投射机，86间隔部，92吊架钩(悬吊支撑部)，94旋转驱动机构，110喷丸装置(抛丸处理装置)，114旋转体，114A开口部，114U顶棚部，116间隔部，118A第一投射机，118B第二投射机，122自转轴构件(悬吊支撑部)，126旋转驱动机构，LI第一投射机中投射材料的投射方向的中心线，L2第二投射机中投射材料的投射方向的中心线，L3第一投射机中投射材料的投射方向的中心线，L4第二投射机中投射材料的投射方向的中心线，Rl处理室，R2处理室，R3处理室，W工件。
【权利要求】
1.一种抛丸处理装置，包括: 旋转体，所述旋转体绕沿所述处理装置的竖向方向的轴线可旋转地设置，在所述处理装置中，通过将绕所述轴线的空间由间隔部间隔开，多个处理室沿周向方向并置，并且在所述处理室中，形成有朝向外周侧敞开的开口部，所述开口部用于工件的运入、所述工件的运出以及用于使投射材料通过； 投射机，所述投射机构造为将投射材料通过所述处理室中的所述开口部投射到所述处理室中； 悬吊支撑部，所述悬吊支撑部设置在所述旋转体的顶棚部上，并构造为将所述工件悬吊和支撑在所述处理室中，并能够在所述工件受到所述投射机投射的投射区域中自转；以及 旋转驱动机构，所述旋转驱动机构构造为通过使所述旋转体绕所述轴线旋转而使所述悬吊支撑部公转并且使用所述投射区域中作为所述工件的公转停止位置的多个位置执行所述旋转体的一次停止， 其中在所述投射区域中的所述工件的所述公转停止位置设定为: 第二位置，所述第二位置为在所述处理装置的平面图上所述悬吊支撑部的自转轴心设置在所述投射机中的投射材料的投射方向的中心线上的位置； 第一位置，所述第一位置为相对于所述第二位置在所述旋转体的旋转方向上游侧的位置；以及 第三位置，所述第三位置为相对于所述第二位置在所述旋转体的旋转方向下游侧的位置。
2.根据权利要求1所述的抛丸处理装置，包括: 运入区域，所述运入区域用于使所述工件由所述悬吊支撑部悬吊和支撑，以及运出区域，所述运出区域用于使所述工件从所述悬吊支撑部降下；其中所述处理室中的三个或更多个处理室沿所述旋转体的周向方向并置，并且设定为使得当所述旋转体在所述工件的所述公转停止位置处进行一次停止时，所述处理室中的至少一个处理室设置在所述运入区域中，同时所述处理室中的至少另一个处理室设置在所述运出区域中。
3.根据权利要求1或2所述的抛丸处理装置，其中， 所述投射机设置有: 第一投射机，所述第一投射机设置在所述旋转体的上部侧上，并且设置成使得投射材料的投射方向的中心线朝着所述处理室的内部侧向所述处理装置的下方侧倾斜；以及第二投射机，所述第二投射机设置在所述旋转体的下部侧上，并且设置成使得:投射材料的投射方向的中心线朝着所述处理室的内部侧向所述处理装置的上方侧倾斜，并且所述投射材料的每单位时间的投射量设置为大于所述第一投射机的投射材料的每单位时间的投射量。
4.根据权利要求3所述的抛丸处理装置，其中， 所述第一投射机中的投射材料的投射方向的所述中心线和所述第二投射机中的投射材料的投射方向的所述中心线设定为具有至少在所述悬吊支撑部的自转轴的下方侧延长线的各投射位置侧的空间中彼此不交叉的关系。
【文档编号】B24C9/00GK203792183SQ201290000437
【公开日】2014年8月27日 申请日期:2012年5月18日 优先权日:2011年7月19日
【发明者】山本万俊 申请人:新东工业株式会社