反应釜用抛丸机风管的制作方法
【专利摘要】本发明提供反应釜用抛丸机风管，包括风管本体，所述风管本体下部均匀设置有抛丸收集装置，所述抛丸收集装置向风管本体内部设有开口，另一端垂直向下设有开口，所述风管本体底部环绕设置有抛丸收集托盘，所述抛丸收集托盘的底部为倾斜设置，且最底端设有抛丸出口，所述风管本体周围设有防尘罩，防尘罩向下包裹至托盘上开口之下，所述抛丸收集装置的垂直向下开口处设有抽风装置。本发明的有益效果是反应釜等产品的抛光、打磨中，不会在风管下方产生抛丸堆积，没有抛光、打磨死角，同时，抛丸机风管的开口外设置有防尘罩，不会产生尘土外泄，不会影响抽风效果，射向风管的抛丸可方便收集、重复利用。
【专利说明】反应釜用抛丸机风管
【技术领域】
[0001]本发明属于反应釜抛丸设备【技术领域】，尤其是涉及反应釜用抛丸机风管。
【背景技术】
[0002]抛丸机对反应釜的抛光或者打磨过程中，抛丸堆积是对抛光、打磨效果影响较大的不利因素，抛丸堆积主要集中在待抛光设备的顶部，特别是底部抽风机的下方，抛光效果和打磨效果都比较差，因此，现有技术存在缺陷，需要进一步改进和完善。
【发明内容】
[0003]本发明要解决的问题是提供反应釜用抛丸机风管，尤其适合抛光、打磨大型反应
釜等产品。
[0004]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是:反应釜用抛丸机风管，包括风管本体，其中，所述风管本体下部均匀设置有抛丸收集装置，所述抛丸收集装置向风管本体内部设有开口，另一端垂直向下设有开口，所述风管本体底部环绕设置有抛丸收集托盘。
[0005]进一步，所述抛丸收集托盘的底部为倾斜设置，且最底端设有抛丸出口。
[0006]进一步，所述风管本体周围设有防尘罩，防尘罩向下包裹至托盘上开口之下。
[0007]进一步，所述抛丸收集装置的垂直向下开口处设有抽风装置。
[0008]本发明具有的优点和积极效果是:由于采用上述技术方案，反应釜等产品的抛光、打磨中，不会在风管下方产生抛丸堆积，没有抛光、打磨死角，同时，抛丸机风管的开口外设置有防尘罩，不会产生尘土外泄，不会影响抽风效果，射向风管的抛丸可方便收集、重复利用。
【专利附图】
【附图说明】
[0009]图1是本发明的结构示意图
[0010]图2是本发明的收集托盘的底部的倾斜设置示意图
[0011]图3是本发明的防尘罩示意图
[0012]图4是本发明的带抽风装置的示意图
[0013]图中:
[0014]1、风管本体 2、抛丸收集装置 3、抛丸收集托盘
[0015]4、防尘罩5、抽风装置
【具体实施方式】
[0016]如图1所示，本发明为反应釜用抛丸机风管，包括风管本体I，所述风管本体I下部均匀设置有抛丸收集装置2，所述抛丸收集装置2向风管本体I内部设有开口，另一端垂直向下设有开口，所述风管本 体I底部环绕设置有抛丸收集托盘3。
[0017]所述抛丸收集托盘3的底部为倾斜设置，且最底端设有抛丸出口。[0018]所述风管本体I周围设有防尘罩4，防尘罩4向下包裹至抛丸收集托盘3上开口之下。
[0019]所述抛丸收集装置2的垂直向下开口处设有抽风装置5。
[0020]以上对本发明的一个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
【权利要求】
1.反应釜用抛丸机风管，包括风管本体，其特征在于:所述风管本体下部均匀设置有抛丸收集装置，所述抛丸收集装置向风管本体内部设有开口，另一端垂直向下设有开口，所述风管本体底部环绕设置有抛丸收集托盘。
2.根据权利要求1所述的反应釜用抛丸机风管，其特征在于:所述抛丸收集托盘的底部为倾斜设置，且最底端设有抛丸出口。
3.根据权利要求1所述的反应釜用抛丸机风管，其特征在于:所述风管本体周围设有防尘罩，防尘罩向下包裹至托盘上开口之下。
4.根据权利要求1所述的反应釜用抛丸机风管，其特征在于:所述抛丸收集装置的垂直向下开口处设有抽风装置。
【文档编号】B24C9/00GK103707201SQ201310664199
【公开日】2014年4月9日 申请日期:2013年12月6日 优先权日:2013年12月6日
【发明者】楚贤成 申请人:天津市工业搪瓷厂