专利名称：真空退火炉的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种真空退火炉。
背景技术：
目前市售的真空退火炉大都使用石墨电极或金属带作为加热器，由于石墨电极存在挥发物，容易对工件造成二次污染；而金属带的成本教高，使用寿命短。
发明内容本实用新型目的在于提供一种避免二次污染，降低使用成本，同时延长使用寿命的真空退火炉。为实现上述目的，本实用新型可采取下述技术方案:本实用新型所述的真空退火炉，包括炉体，和设置在所述炉体内的退火腔；在所述退火腔内设置有二硅化钥加热器。所述二硅化钥加热器为设置在所述退火腔内两侧分别对称间隔设置的多个U形二硅化钥加热元件。本实用新型优点在于将真空炉加热元件改进为二硅化钥加热器，很好的解决了二次污染的问题，同时降低了使用成本，延长了使用寿命。
图1是本实用新型 的结构示意图。图2是图1的立体图。
具体实施方式
如图1、2所示，本实用新型所述的真空退火炉，包括炉体1，和设置在所述炉体I内的退火腔；在所述退火腔内设置有二硅化钥加热器了 ；所述二硅化钥加热器为设置在所述退火腔内两侧分别对称间隔设置的多个U形二硅化钥加热元件2。
权利要求1.一种真空退火炉，包括炉体(1)，和设置在所述炉体(I)内的退火腔；其特征在于:在所述退火腔内设置有二硅化钥加热器。
2.根据权利要求1所述的真空退火炉，其特征在于:所述二硅化钥加热器为设置在所述退火腔内两侧分别 对称间隔设置的多个U形二硅化钥加热元件(2)。
专利摘要本实用新型公开了一种真空退火炉，包括炉体，和设置在所述炉体内的退火腔；在所述退火腔内设置有二硅化钼加热器。所述二硅化钼加热器为设置在所述退火腔内两侧分别对称间隔设置的多个U形二硅化钼加热元件。本实用新型优点在于将真空炉加热元件改进为二硅化钼加热器，很好的解决了二次污染的问题，同时降低了使用成本，延长了使用寿命。
文档编号C21D1/26GK203112872SQ20132004680
公开日2013年8月7日 申请日期2013年1月29日 优先权日2013年1月29日
发明者陈玉库, 王瑞亭 申请人:郑州世博有色金属制品有限公司