一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构的制作方法
【专利摘要】一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构，该结构能够满足多种气体同时、独立及均匀沉积的需求。它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板7，上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间，主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了A区及B区两个平面分区，主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽，上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔，沟槽内均匀布置半通孔，上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口，上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。本实用新型较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。并可在其上安装加热或冷却构件，以满足更严苛的工艺条件要求。
【专利说明】—种四分区式多气体独立通道的喷淋结构
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种新型的喷淋结构，通过立体分区方式，来实现三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，属于半导体薄膜沉积应用及制造【技术领域】。
【背景技术】
[0002]半导体镀膜设备在进行沉积反应时，一般需要一种或两种气体，有时需要三种(或三种以上)气体同时进入腔室进行薄膜沉积，要求几种气体路径相互独立，在进入腔体前不能相遇，进入腔室后需均匀扩散到基底表面。而现有的喷淋方法大都是针对单独的气体路径设计，或是最多有两种气体路径，并且大多结构都只是在气体进口处进行分离，在进入腔室之前已进行接触、使沉积反应提前进行，即不易于控制沉积的时间及反应条件也浪费了宝贵的不可再生的特气资源。当需要三种及三种以上气体时，之前的喷淋结构已不能满足要求。针对要求多种(三种及三种以上)气体同时、独立、均匀的苛刻要求，本实用新型应运而生。
【发明内容】
[0003]本实用新型以解决上述问题为目的，提供一种能够满足多种(三种及三种以上)气体同时、独立、均匀沉积的喷淋新结构。
[0004]为实现上述目的，本实用新型采用下述技术方案:一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构，采用立体分区方式，隔离不同的气体路径。气体分别从各自独立的气体进口进入，通过各自独立的通道，到达各自分区，并从各自的分区到达腔室。彼此独立结构使不同气体不会提前相遇或反应。通过规划不同的分区结构及分区形式，能满足多种气体的分布，使气体能均匀、快速的扩散在腔室内，并在基板上进行沉积反应。具体结构:它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板7。上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间，主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了 A区及B区两个平面分区。主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽。上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔，沟槽内均匀布置半通孔。上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口。上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。
[0005]本实用新型的有益效果及特点:
[0006]本实用新型通过规划不同的分区结构及分区形式，隔离不同的气体路径，来实现三种及三种以上气体独立、均匀的到达基底表面进行沉积反应，较好地解决了气体在进入腔室之前已进行接触，不易于控制沉积的时间及特气资源浪费的技术问题。并可在其上安装加热或冷却构件，以满足更严苛的工艺条件要求。具有结构合理及易于推广的特点。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构示意图。[0008]图2是图1中A-A向剖视图。
[0009]图中零件标号分别代表:
[0010]1、气体A进口 ；2、气体B进口 ；3、气体C进口 ；4、配气块；5、挡板；6、盖板；7、隔板；
8、主体；9、气体A出口 ；10、气体B出口 ； 11、气体C出口 ；12、A区；13、B区；14、C区；15、D区；16、横向沟槽；17、纵向沟槽；18、凸台；19、半通孔。
[0011]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
【具体实施方式】
[0012]实施例
[0013]如图1，2所示，一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构，包括喷淋头主体8、配气块4、挡板5、盖板6、隔板7。上述隔板7将喷淋结构主体8从垂直方向上分成C区14及D区15两个区间，主体8及档板5的中间有独立区域将整体又分成了 A区12及B区13两个平面分区，主体8上设有横向沟槽16及纵向沟槽17的纵横交错的沟槽，上述横向沟槽16及纵向沟槽17的空隙凸台18上钻有贯通孔，沟槽内均匀布置半通孔19。上述配气块4上制有气体A进口 1、气体B进口 2及气体C进口 3。上述主体8的底部设有气体A出口 9、气体B出口 10及气体C出口 11。
[0014]工作时，气体A从配气块4右方的气体A进口 I进入，穿过隔板7进入C区14，通过主体8纵横沟槽上的半通孔进入腔室。气体B从配气块4中间的气体B进口 2进入，穿过挡板5通过A区12及B区13，然后从B区13内通孔进入腔室。气体C从配气块4左方的气体C进口 3进入，经过挡板5扩散，通过隔板5及凸台上的贯通孔进入腔室。
【权利要求】
1.一种四分区式多气体独立通道的喷淋结构，其特征在于:它包括喷淋头主体、配气块、挡板、盖板、隔板，上述隔板将喷淋结构主体从垂直方向上分成C区及D区两个区间，主体及档板的中间有独立区域将整体又分成了 A区及B区两个平面分区，主体上设有横向沟槽及纵向沟槽的纵横交错的沟槽，上述横向沟槽及纵向沟槽的空隙凸台上钻有贯通孔，沟槽内均匀布置半通孔，上述配气块上制有气体A进口、气体B进口及气体C进口，上述主体的底部设有气体A出口、气体B出口及气体C出口。
【文档编号】C23C16/455GK203559126SQ201320685738
【公开日】2014年4月23日 申请日期:2013年10月31日 优先权日:2013年10月31日
【发明者】凌复华, 吴凤丽, 陈英男, 国建花, 王燚 申请人:沈阳拓荆科技有限公司